X射线光电子能谱仪的介绍
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（B.E)。......阅读全文
X射线光电子能谱仪的介绍
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（
X射线光电子能谱仪的介绍
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（
X射线光电子能谱仪的介绍
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（
X射线光电子能谱仪原理
X射线光子的能量在1000～1500ev之间，不仅可使分子的价电子电离而且也可以把内层电子激发出来，内层电子的能级受分子环境的影响很小。 同一原子的内层电子结合能在不同分子中相差很小，故它是特征的。光子入射到固体表面激发出光电子，利用能量分析器对光电子进行分析的实验技术称为光电子能谱。 XPS的原理
X射线光电子能谱仪的简介
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合
X射线光电子能谱仪的发现
1895年11月8日晚，德国维尔茨堡大学校长兼物理研究所所长伦琴在实验室研究阴极射线。 为了防止外界光线对放电管的影响，也为了不使管内可见光漏出管外，他把房间全部弄黑，创造伸手不见五指的环境，他还用黑色硬纸给放电管做了个封套。为了检查封套是否漏光，他给放电管接上电源，发现没有漏光。但他切断电源
X射线光电子能谱仪的简介
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（
关于X射线光电子能谱仪的基本用途介绍
X射线光电子能谱仪的用途：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括: 1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。 2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子
X射线光电子能谱
X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)技术也被称作用于化学分析的电子能谱(electron spectroscopy for chemical analysis,ESCA).XPS属表面分析法,它可以给出固体样品表面所含的元素种类、化学组成以及有
多功能X射线光电子能谱仪
多功能X射线光电子能谱仪是一种用于物理学、生物学、基础医学、临床医学领域的分析仪器，于2018年1月22日启用。 技术指标 1. 分析室真空度：5×10-10 mbar 2. 最佳能量分辨率：0.43eV 3. 最小空间分辨率：1μm 4. Ag的3d5/2峰半峰宽为1eV时电子计数率
X射线光电子能谱仪的仪器类别
03030707 /仪器仪表 /成份分析仪器指标信息： 主真空室：1×10-10 Torr XPS：0.5eV, AES: 分辨率：0.4%, 电子枪束斑：75nm , 灵敏度：1Mcps信噪比：大于70:1 角分辨：5°～90°. A1/Mg双阳极靶 能量分辨率：0.5eV ,灵敏度：255KCP
关于X射线光电子能谱仪的简介
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合
X射线光电子能谱仪(XPS)的发展
X射线光电子能谱（XPS）也被称作化学分析电子能谱（ESCA）。该方法首先是在六十年代由瑞典科学家K.Siebabn 教授发展起来的。这种能谱最初是被用来进行化学元素的定性分析，现在已发展为表面元素定性、半定量分析及元素化学价态分析的重要手段。此外，配合离子束剥离技术和变角XPS技术，还可以进行
关于x射线光电子能谱的特点介绍
x射线光电子能谱作为一种现代分析方法，具有如下特点： （1）可以分析除H和He以外的所有元素，对所有元素的灵敏度具有相同的数量级。 （2）相邻元素的同种能级的谱线相隔较远，相互干扰较少，元素定性的标识性强。 （3）能够观测化学位移。化学位移同原子氧化态、原子电荷和官能团有关。化学位移信息是
关于X射线光电子能谱仪的基本信息介绍
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合
X射线光电子能谱分析
X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是用X射线去辐射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子，可以测量光电子的能量，以光电子的动能为横坐标，相对强度(脉冲/s)为纵坐标可做出光电子能谱图，从而获得待
X射线光电子能谱（－XPS）
XPS：X射线光电子能谱分析(XPS, X-ray photoelectron spectroscopy)测试的是物体表面10纳米左右的物质的价态和元素含量，而EDS不能测价态，且测试的深度为几十纳米到几微米，基本上只能定性分析，不好做定量分析表面的元素含量。 原理：用X射线去辐射样品，使原子或分子
你应该知道的X射线光电子能谱仪
X射线光电子能谱仪 X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如AlKa=1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而
X射线光电子能谱仪的技术参数
指标信息： 主真空室：1×10-10 Torr XPS：0.5eV, AES: 分辨率：0.4%, 电子枪束斑：75nm , 灵敏度：1Mcps信噪比：大于70:1 角分辨：5°～90°. A1/Mg双阳极靶 能量分辨率：0.5eV ,灵敏度：255KCPS, 使用多通道检测器（MCD）
X射线光电子能谱仪的用途有哪些？
X射线光电子能谱仪（XPS）基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测其所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素组成及化学键状态的定性和定量分析，能进行最外层表面区域的分析，能进行除H和He以外所有元素的分析，灵敏度高，具备化学组成、价态、深度剖析及
x射线光电子能谱仪的主要研究领域
主要研究领域包括： （1）TiO2纳米光催化以及在空气和水净化方面的应用； （2）汽车尾气净化催化剂新型金属载体的研究； （3）纳米药物载体及靶向药物的研究； （4）纳米导电陶瓷薄膜材料的研究； （5）纳米杂化超硬薄膜材料及摩擦化学的研究； （6）纳米发光材料及纳米分析化学研究；
X射线光电子能谱仪的发展史
1887年，海因里希·鲁道夫·赫兹发现了光电效应，1905年，爱因斯坦解释了该现象（并为此获得了1921年的诺贝尔物理学奖）。两年后的1907年，P.D. Innes用伦琴管、亥姆霍兹线圈、磁场半球（电子能量分析仪）和照像平版做实验来记录宽带发射电子和速度的函数关系，他的实验事实上记录了人类第一条X
关于X射线光电子能谱仪的主要用途介绍
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内.X射线光电子能谱仪的 功能包括: 1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。 2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离
岛津中标长安大学X射线光电子能谱仪
一、项目编号：CZB2022501H/RH采字［20221201］（招标文件编号：CZB2022501H/RH采字［20221201］号） 二、项目名称：长安大学企业信息X射线光电子能谱仪项目 三、中标（成交）信息 供应商名称：西安励德博特科学仪器有限公司企业信息 供应商地址：陕西省西安
X射线光电子能谱仪的主要用途
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括:1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式）3. 线扫描或面扫描
X射线光电子能谱仪的主要用途
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括:1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯.2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式）3. 线扫瞄或面扫瞄
x射线光电子能谱仪的相关内容
主要用途： XPS： 1.固体样品的表面组成分析，化学 状态分析，取样深度为～3nm 2.元素成分的 深度分析（角分辨方式和氩离子刻蚀方式） 3.可进行样品的 原位处理 AES： 1.可进行样品表面的微区选点分析（包括点分析，线分析和面分析） 2.可进行深度分析适合： 纳米薄膜材料， 微电子材料
简介X射线光电子能谱仪的技术指标
可实现的功能：单色化双阳极XPS、微区XPS、离子散射谱ISS、反射电子能量损失谱REELS、紫外光电子能谱UPS、氩复合团簇离子枪刻蚀、角分辨ARXPS、平行成像XPS、原位X射线荧光光谱EDXRF分析，并能进行样品台加热冷却、超高真空环境下的测量。 能量扫描范围0～5000eV；通过能范围
X射线光电子能谱仪的主要用途
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括:1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯.2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式）3. 线扫瞄或面扫瞄
X射线光电子能谱（XPS）的简介
XPS是重要的表面分析技术之一，是由瑞典Kai M. Siegbahn教授领导的研究小组创立的，并于1954年研制出世界上第一台光电子能谱仪，1981 年，研制出高分辨率电子能谱仪。他在1981年获得了诺贝尔物理学奖。