电子探针仪的二次电子及二次电子像介绍
入射电子与样品相互作用后，使样品原子较外层电子(价带或导带电子)电离产生的电子，称二次电子。二次电子能量比较低，习惯上把能量小于50 eV电子统称为二次电子，仅在样品表面5 nm-10 nm的深度内才能逸出表面，这是二次电子分辨率高的重要原因之一。 当入射电子与样品相互作用时，入射电子与核外电子发生能量传递，一般几至几十个电子伏特。如果核外电子所获得的能量大于其临界电离能，则该电子可脱离原子成为自由电子，如果这些自由电子离样品表面很近，而且其能量大于相应的逸出能，则可能从样品表面逸出而成为二次电子。二次电子像是表面形貌衬度，它是利用对样品表面形貌变化敏感的物理信号作为调节信号得到的一种像衬度。因为二次电子信号主要来处样品表层5-10 nm的深度范围，它的强度与原子序数没有明确的关系，而对微区表面相对于入射电子束的方向却十分敏感，二次电子像分辨率比较高，所以适用于显示形貌衬度。......阅读全文
电子探针仪的二次电子及二次电子像介绍
入射电子与样品相互作用后，使样品原子较外层电子(价带或导带电子)电离产生的电子，称二次电子。二次电子能量比较低，习惯上把能量小于50 eV电子统称为二次电子，仅在样品表面5 nm-10 nm的深度内才能逸出表面，这是二次电子分辨率高的重要原因之一。 当入射电子与样品相互作用时，入射电子与核外电
二次电子像的二次电子成像
二次电子像主要是反映样品表面10nm左右的形貌特征，像的衬度是形貌衬度，衬度的形成主要取于样品表面相对于入射电子束的倾角。如果样品表面光滑平整（无形貌特征），则不形成衬度；而对于表面有一定形貌的样品，其形貌可看成由许多不同倾斜程度的面构成的凸尖、台阶、凹坑等细节组成，这些细节的不同部位发射的二
二次电子像的概念
物质原子核外电子受到入射电子作用产生激发，以入射方向逸出样品的电子称为二次电子。
二次电子像的特点
(1)能量小于50eV，在固体样品中的平均自由程只有10～100nm。在这样浅的表层里，入射电子与样品原子只发出有限次数的散射，因此基本上未向侧向扩散；(2)二次电子的产额强烈依赖于入射束与试样表面法线间的夹角a , a大的面发射的二次电子多，反之则少。
电子轰击二次电子像的概念
中文名称电子轰击二次电子像英文名称electron bombardment secondary electron image定 义在发射电子显微镜中，电子轰击样品激发的二次电子所成的像。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），电子光学仪器-电子光学仪器一般名词（三级学科）
sem的二次电子像的成像原理
你说的是SEM电镜吧，这主要是它的成像原理导致的其可以反映样品表面或者断面的形貌信息。SEM的工作原理为：从电子枪阴极发出的直径20(m～30(m的电子束，受到阴阳极之间加速电压的作用，射向镜筒，经过聚光镜及物镜的会聚作用，缩小成直径约几毫微米的电子探针。在物镜上部的扫描线圈的作用下，电子探针在样品
sem的二次电子像的成像原理
SEM电镜吧，这主要是它的成像原理导致的其可以反映样品表面或者断面的形貌信息。SEM的工作原理为：从电子枪阴极发出的直径20(m～30(m的电子束，受到阴阳极之间加速电压的作用，射向镜筒，经过聚光镜及物镜的会聚作用，缩小成直径约几毫微米的电子探针。在物镜上部的扫描线圈的作用下，电子探针在样品表面作光
sem的二次电子像的成像原理
你说的是SEM电镜吧，这主要是它的成像原理导致的其可以反映样品表面或者断面的形貌信息。SEM的工作原理为：从电子枪阴极发出的直径20(m～30(m的电子束，受到阴阳极之间加速电压的作用，射向镜筒，经过聚光镜及物镜的会聚作用，缩小成直径约几毫微米的电子探针。在物镜上部的扫描线圈的作用下，电子探针在样品
二次电子像和背散射电子像的区别
1、性质不同：二次电子像是以入射方向逸出样品的电子。背散射电子像是在扫描电子显微镜中，通过电子枪产生的电子，经过加速磁场、偏转磁场后，照射到待检测的样品表面，待检测样品会反射一部分的电子。2、特点不同：在扫描电子显微镜的工作镜腔里的背散射电子探头就会检测到这些被反射的电子，进而在检测器上所成的像。二
二次电子像的特征和应用特点
二次电子像主要是反映样品表面10nm左右的形貌特征，像的衬度是形貌衬度，衬度的形成主要取于样品表面相对于入射电子束的倾角。如果样品表面光滑平整（无形貌特征），则不形成衬度；而对于表面有一定形貌的样品，其形貌可看成由许多不同倾斜程度的面构成的凸尖、台阶、凹坑等细节组成，这些细节的不同部位发射的二次电子
离子轰击二次电子像的概念
中文名称离子轰击二次电子像英文名称ion bombardment secondary electron image定 义在发射电子显微镜中，离子轰击样品激发的二次电子所成的像。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），电子光学仪器-电子光学仪器一般名词（三级学科）
电子轰击二次电子像的定义和功能
中文名称电子轰击二次电子像英文名称electron bombardment secondary electron image定 义在发射电子显微镜中，电子轰击样品激发的二次电子所成的像。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），电子光学仪器-电子光学仪器一般名词（三级学科）
离子轰击二次电子像的定义和功能
中文名称离子轰击二次电子像英文名称ion bombardment secondary electron image定 义在发射电子显微镜中，离子轰击样品激发的二次电子所成的像。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），电子光学仪器-电子光学仪器一般名词（三级学科）
简要说明sem的二次电子像的成像原理
你说的是SEM电镜吧，这主要是它的成像原理导致的其可以反映样品表面或者断面的形貌信息。SEM的工作原理为：从电子枪阴极发出的直径20(m～30(m的电子束，受到阴阳极之间加速电压的作用，射向镜筒，经过聚光镜及物镜的会聚作用，缩小成直径约几毫微米的电子探针。在物镜上部的扫描线圈的作用下，电子探针在样品
扫描电镜中二次电子像为什么比背射电子像的分辨率更高
在同一个像素点，主要二次电子取样区相对背散射电子取样区要小很多，因此在相同大小微观区域，可以分割排列更多像素，图像分辨率因此更高！
SEM如何利用二次电子成像
从书上查了一些内容，书的年代比较久远，可能买不到...有兴趣的话，尝试着去图书馆借一下吧。 SEM工作时，电子枪发射的入射电子束打在试样表面上，向内部穿透一定的深度，由于弹性和非弹性散射形成一个呈梨状的电子作用体积。电子与试样作用产生的物理信息，均由体积内产生。 二次电子是入射电子在试样内部
SEM如何利用二次电子成像
SEM工作时，电子枪发射的入射电子束打在试样表面上，向内部穿透一定的深度，由于弹性和非弹性散射形成一个呈梨状的电子作用体积。电子与试样作用产生的物理信息，均由体积内产生。 二次电子是入射电子在试样内部穿透和散射过程中，将原子的电子轰击出原子系统而射出试样表面的电子，其中大部分属于价子激发，所以能量
SEM如何利用二次电子成像
SEM工作时，电子枪发射的入射电子束打在试样表面上，向内部穿透一定的深度，由于弹性和非弹性散射形成一个呈梨状的电子作用体积。电子与试样作用产生的物理信息，均由体积内产生。 二次电子是入射电子在试样内部穿透和散射过程中，将原子的电子轰击出原子系统而射出试样表面的电子，其中大部分属于价子激发，所以
扫描电镜之二次电子
入射电子与样品相互作用后，使样品原子较外层电子（价带或导带电子）电离产生的电子， 称二次电子。二次电子能量比较低，习惯上把能量小于 50eV 电子统称为二次电子。二次电 子能量低，仅在样品表面 5nm－10nm 的深度内才能逸出表面，这是二次电子分辨率高的重 3 要原因之一。凸凹不平的样品表
波谱仪相关
波谱仪是一种用于地球科学、材料科学、考古学领域的分析仪器，于2010年12月29日启用。 技术指标 分析范围：原子数(Z): 5-92；定量分析精度:主要元素>2%, 次要元素大于5%；加速电压0.2-30kv；二次电子成像分辨率1-5um；放大倍数50-300000,；电子束流：10-12
扫描电镜中的二次电子分析
如果在样品的上方安装一个环形电子检测器，用于搜集从样品出射的能量在0~E。范围内的电子，可以获得一条类似图的曲线，横坐标为出射电子能量E，纵坐标为电子数量N。曲线最右端E。处是弹性背散射电子峰，仅占一小部分，大部分背散射电子在E。左边I区域，其能量损失小于40%，对于多数中等和高原子序数的样品出射
扫描电子显微镜二次电子像的分辨率与什么因素有关
在相同大小微观区域，可以分割排列更多像素，图像分辨率因此更高。分辨率可以从显示分辨率与图像分辨率两个方向来分类。显示分辨率(屏幕分辨率)是屏幕图像的精密度，是指显示器所能显示的像素有多少。由于屏幕上的点、线和面都是由像素组成的，显示器可显示的像素越多，画面就越精细，同样的屏幕区域内能显示的信息也越多
二次电子发射能谱研究进展
文章阐述了二次电子发射能谱的基本概念,介绍了两种比较常规的二次电子发射能谱测试方法,以及国内外比较具有代表性的二次电子发射能谱的测试设备。详细地阐述了当前Vaughan模型和Furman模型并对两个模型进行了详细的比较分析,总结了各自的优势与不足。研究表明二次电子发射能谱在二次电子发射研究领域具有非
扫描电子显微镜主要特点、图像细节清晰的因素
一.扫描电子显微镜主要特点1)可以观察直径为0～30mm的大块试样(在半导体工业中可以观察更大直径)，制样方法简单。2)场深大、三百倍于光学显微镜，适用于粗糙表面和断口的分析观察；图像富有立体感、真实感，易于识别和解释。3)放大倍数变化范围大，一般为15～200000倍，对于多相、多组成的非均匀材料
扫描电镜与电子探针的区别
电子探针仪，学名应该是扫描隧道显微镜（scanning tunnel microscopy，STM）,它的工作原理是用一个针尖在离样品表面极近的位置慢慢划过，样品和针尖上加有恒定电压，随着针尖和样品起伏不平的表面原子距离的改变，二者间的电流会有变化，记录这个电流的变化进行处理后，可以得到表面的形貌像
扫描电镜
扫描电子显微镜(SEM)是1965年以后才迅速发展起来的新型电子仪器。其主要特点可归纳为：①仪器分辨率高；②仪器的放大倍数范围大，一般可达15～180000倍，并在此范围内连续可调；③图像景深大，富有立体感；④样品制备简单，可不破坏样品；⑤在SEM上装上必要的专用附件——能谱仪(EDX)，以实现一机
扫描电镜
扫描电子显微镜(SEM)是1965年以后才迅速发展起来的新型电子仪器。其主要特点可归纳为：①仪器分辨率高；②仪器的放大倍数范围大，一般可达15～180000倍，并在此范围内连续可调；③图像景深大，富有立体感；④样品制备简单，可不破坏样品；⑤在SEM上装上必要的专用附件——能谱仪(EDX)，以实现一机
扫描电镜
扫描电子显微镜(SEM)是1965年以后才迅速发展起来的新型电子仪器。其主要特点可归纳为：①仪器分辨率高；②仪器的放大倍数范围大，一般可达15～180000倍，并在此范围内连续可调；③图像景深大，富有立体感；④样品制备简单，可不破坏样品；⑤在SEM上装上必要的专用附件——能谱仪(EDX)，以实现一机
扫描电镜
扫描电子显微镜(SEM)是1965年以后才迅速发展起来的新型电子仪器。其主要特点可归纳为：①仪器分辨率高；②仪器的放大倍数范围大，一般可达15～180000倍，并在此范围内连续可调；③图像景深大，富有立体感；④样品制备简单，可不破坏样品；⑤在SEM上装上必要的专用附件——能谱仪(EDX)，以实现一机
电子探针仪与扫描电镜有何异同
透射电子显微镜 (transmission electron microscopy﹐简写为TEM)。 构造原理 ： 电子显微镜的构造原理与光学显微镜相似﹐主要由照明系统和成像系统构成(图1 光学显微镜与电子显微镜的对比 )。照明系统包括电子枪和聚光镜。钨丝在真空中加热并在电场的作用下发射出电