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膜厚测试仪简介

膜厚测试仪,分为手持式和台式二种,手持式又有磁感应镀层测厚仪,电涡流镀层测厚仪,荧光X射线仪镀层测厚仪。手持式的磁感应原理时,利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小,来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小,来表示其覆层厚度。 台式的荧光X射线膜厚测试仪,是通过一次X射线穿透金属元素样品时·产生低能量的光子,俗称为二次荧光,,在通过计算二次荧光的能量来计算厚度值。......阅读全文

膜厚测试仪简介

  膜厚测试仪,分为手持式和台式二种,手持式又有磁感应镀层测厚仪,电涡流镀层测厚仪,荧光X射线仪镀层测厚仪。手持式的磁感应原理时,利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小,来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小,来表示其覆层厚度。  台式的荧光X射线膜厚测试仪,是通过一次X射线穿透

膜厚仪简介

  膜厚仪又名膜厚测试仪,分为手持式和台式二种,手持式又有磁感应镀层测厚仪,电涡流镀层测厚仪,荧光X射线仪镀层测厚仪。手持式的磁感应原理是,利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小,来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小,来表示其覆层厚度。

膜厚测试仪的磁感应测量简介

  采用磁感应原理时,利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小,来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小,来表示其覆层厚度。覆层越厚,则磁阻越大,磁通越小。利用磁感应原理的测厚仪,原则上可以有导磁基体上的非导磁覆层厚度。一般要求基材导磁率在500以上。如果覆层材料也有磁性,则要求与基

简介膜厚测试仪X射线衍射装置

  简单地说萤光X射线装置(XRF)和X射线衍射装置(XRD)有何不同,萤光X射线装置(XRF)能得到某物质中的元素信息(物质构成,组成和镀层厚度),X射线衍射装置(XRD)能得到某物质中的结晶信息。  具体地说,比如用不同的装置测定食盐(氯化钠=NaCl)时,从萤光X射线装置得到的信息为此物质由钠

简介膜厚仪的使用

  测定准备   (1)确保电池正负极方向正确无误后设定。   (2)探头的选择和设定:在探头上有电磁式和涡电流式2种类型。对准测定对象,在本体上进行设定。   测定方法   (1)探头的选择和安装方法:确认电源处于OFF状态,与测定对象的质地材质接触,安装LEP-J或LHP-J。   

X光膜厚测试仪原理

X射线镀层测厚仪/X光镀层测厚仪检测电子电镀,化学镀层厚度,如镀金,镀镍,镀铜,镀铬,镍锌,镀银,镀钯...可测单层,双层,多层,合金镀层,测量范围:0.04-35um测量精度:±5%,测量时间只需30秒便可准确知道镀层厚度全自动台面,自动雷射对焦,操作非常方便简单● X射线镀层测厚仪的测量原理物质

简介膜厚仪电涡流测量原理

  高频交流信号在测头线圈中产生电磁场,测头靠近导体时,就在其中形成涡流。测头离导电基体愈近,则涡流愈大,反射阻抗也愈大。这个反馈作用量表征了测头与导电基体之间距离的大小,也就是导电基体上非导电覆层厚度的大小。由于这类测头专门测量非铁磁金属基材上的覆层厚度,所以通常称之为非磁性测头。非磁性测头采用

膜厚测试仪的电涡流测量

  高频交流信号在测头线圈中产生电磁场,测头靠近导体时,就在其中形成涡流。测头离导电基体愈近,则涡流愈大,反射阻抗也愈大。这个反馈作用量表征了测头与导电基体之间距离的大小,也就是导电基体上非导电覆层厚度的大小。由于这类测头专门测量非铁磁金属基材上的覆层厚度,所以通常称之为非磁性测头。非磁性测头采用高

X射线镀层膜厚测试仪分析特性

X射线镀层膜厚测试仪Ux-720,该款仪器特别为颇具挑战性的RoHS/ WEEE分析而研发。而且,它还十分适合于测量黄金及其他贵金属,分析金的成分重复性可达0,5 ‰。可通过CCD摄像机来观察及选择任意的微小面积以进行微小面积镀层厚度的测量,避免直接接触或破坏被测物。 使用安全简便,坚固耐用节省维

如何对金属膜厚测试仪进行维护

 今天为大家简单的介绍一下如何对金属膜厚测试仪进行维护,希望对大家有所帮助。      金属膜厚测试仪的使用条件还是很广的,可以对很多的镀层进行测量,可以用于现场或者是工厂内,只要被测物体表面没有弯曲变形,一般是不会有问题的,也不会影响测量的结果。一般使用标度在总量程的百分之八十的区域时,这时