摩尔燃烧焓的概念
标准摩尔生成焓是在标准状态即压力为100kPa，一定温度（一般是298.15K）下时，由元素最稳定的单质生成生成1mol纯化合物时的反应热称为该化合物的标准摩尔生成焓。标准摩尔燃烧焓是指一摩尔物质在标准状况下完全燃烧时的反应焓变，用符号ΔcHm表示，其中下标“c”表示燃烧（combustion），其单位为kJ/mol（又作kJ·mol-1）。标准摩尔反应焓变是指参加反应的各物质都处于标准态时的反应焓变，单位为kJ/mol。它们的区别是：标准生成焓并不一定是燃烧引起的，而燃烧焓是指燃烧时的反应焓变。标准摩尔焓变主要解决化学反应中能量转化及化学反应进行的方向和程度问题，其中焓变计算是解决等压情况下反应中能量转化问题、进行吉布斯自由能变变计算进而判断反应进行程度和方向的基础。......阅读全文
摩尔消光系数分光光度法介绍
分光光度法是基于不同分子结构的物质对电磁辐射的选择性吸收而建立起来的方法，属于分子吸收光谱分析。当光通过溶液时，被测物质分子吸收某一波长的单色光，被吸收的光强度与光通过的距离成正比。虽然了解到Bouguer早在1729年已提出上述关系的数学表达式，但通常认为Lambert于1760年最早发现表达式，
摩尔吸光系数与百分吸光系数的换算
吸光系数 1．定义 一定条件下，吸光物质在单位浓度及单位液层厚度时的吸光度，叫这个物质的吸光系数。 2．两种表示方法 (1)摩尔吸光系数(ε)：一定波长下，吸光物质的溶液浓度为1mol/L，液层厚度为1cm时，溶液的吸光度。 (2)百分吸光系数(ελ)：一定波长下，吸光物质的溶液浓度为1g
后摩尔时代新器件重大研究计划项目指南发布
关于发布后摩尔时代新器件基础研究重大研究计划2023年度项目指南的通告国科金发计〔2023〕8号国家自然科学基金委员会现发布后摩尔时代新器件基础研究重大研究计划2023年度项目指南，请申请人及依托单位按项目指南中所述的要求和注意事项申请。国家自然科学基金委员会2023年2月10日后摩尔时代新器件基础
渗透压摩尔浓度测定仪是不是冰点仪
摩尔浓度。对于两侧水溶液浓度不同的半透膜，为了阻止水从低浓度一侧渗透到高浓度一侧而在高浓度一侧施加的最小额外压强称为渗透压。
科学家另辟蹊径，为摩尔定律“续命”
谷电子器件应用前景广阔，可能被用于量子计算、存储、通信等领域。一旦谷电子器件在这些领域得到应用，将是电子科学领域的巨大突破。 仇成伟 新加坡国立大学讲席教授 电子工业界有条著名的摩尔定律：集成电路上可容纳的晶体管数目，大约每隔18个月便会增加一倍。近年来，随着电子器件的尺寸越来越小，摩尔定
如何正确选择渗透压仪，摩尔浓度测定仪
如何正确选择渗透压仪，摩尔浓度测定仪？需要考虑的关键因素有哪些渗透压仪按工作原理分为：冰点渗透压仪、露点渗透压仪、蒸气压渗透压仪、胶体渗透压仪，首先，要确定待测样品的类型，在0点以下能结冰的样品都可以选择冰点渗透压仪，大分子生物样本，则需要选择蒸汽压渗透压仪，胶体渗透压仪适用于测血管扩张力，露点渗透
物理所石墨烯摩尔超晶格研究取得系列进展
最近，中国科学院物理研究所/北京凝聚态物理国家实验室（筹）纳米物理与器件实验室在《自然•材料》、《自然•纳米技术》、《自然•物理》、《自然•通讯》刊登了系列研究成果。针对石墨烯/氮化硼异质结构，他们系统研究了氮化硼基底调制下的摩尔超晶格以及相关物理现象，为石墨烯能带及电子学性质调控提供了新思路。
延续摩尔定律，二维晶体管潜力如何？
自20世纪60年代以来，电子电路上可容纳的元器件数量每两年便增加一倍，这种趋势就是著名的摩尔定律。随着晶体管越来越小，硅芯片上可容纳的元器件数量在不断增加。但目前看来，硅晶体管正接近它的物理极限。只有开发出全新类型的材料和设备，才能释放下一代计算机的潜力。单分子厚晶体管芯片或许能用来驱动下一代计
氢氧化钠标准滴定溶液摩尔浓度的标定
称取0.5g于105～110℃干燥至恒重的第一基准试剂（容量）邻苯二甲酸氢钾，称准至0.00001g，置于反应瓶中，加50mL新沸过的冷水，用231型玻璃电极作指示电极，用232型饱和甘汞电极作参比电极，按GB 10737之规定，用待标定的氢氧化钠标准滴定溶液 [b(NaOH)=0.1mol/k
摩尔吸收系数和百分吸光系数的区别
两者区别如下：一、概念不同摩尔吸光系数，也称摩尔消光系数，是指浓度为1摩尔/升时的吸光系数，ε表示，当浓度用克/升表示时，摩尔吸光系数在数值上等于吸光系数（a）与物质的分子量（M）之积，ε=aM。ε值的大小反映吸收介质对光吸收的程度。百分吸光系数指光线通过溶液或某一物质前的入射光强度与该光线通过溶液
摩尔吸收系数和百分吸光系数的区别
两者区别如下：一、概念不同摩尔吸光系数，也称摩尔消光系数，是指浓度为1摩尔/升时的吸光系数，ε表示，当浓度用克/升表示时，摩尔吸光系数在数值上等于吸光系数（a）与物质的分子量（M）之积，ε=aM。ε值的大小反映吸收介质对光吸收的程度。百分吸光系数指光线通过溶液或某一物质前的入射光强度与该光线通过溶液
邓中翰委员：后摩尔时代要加快集成电路产业破题
集成电路产业是电子信息产业的核心，是支撑国家经济社会发展的战略性、基础性、先导性产业，也是我国当前需要重点突破的领域。而后摩尔时代如何占领技术制高点，抢占机遇实现逆势突围，是业界十分关注的问题。 在今年的两会上，全国政协委员、中国工程院院士邓中翰在提案中建议，聚焦后摩尔时代，我们要发挥新型举国
New－Objective最新推出8肽等摩尔混标－新年大促销
New Objective现推出用于高性能纳喷雾LC-MS分析的最新工具PicoSure，该特别设计的合成8肽等摩尔标准混合物将为纳喷雾LC-MS实验的可靠性和数据质量提供保证。 PicoSure特点： · 合成肽标准品检验色谱柱柱效，确保分析结果有效性 ·
摩尔多瓦共和国发生非洲猪瘟疫情
据世界动物卫生组织（OIE）消息，近日，摩尔多瓦共和国国家食品安全局向OIE报告称，摩尔多瓦共和国发生非洲猪瘟疫情。 本次疫情的发生地为加告兹自治区的武尔克内什蒂，疫情于7月20日得到确认。疫情源头为用泔水喂养猪。 经尸体剖检和实验室、临床检测发现，具体发病情况如下： 受影响动物数量品种疑
不谈人工智能，光摩尔定律就能让人类活的更久
在80后和90后的遥远记忆里，一定有一个名为“人类基因组计划”的宏大科学工程。 在初中和高中的生物课上，我们都曾被教导基因是一切生物生存、发展和进化的核心奥秘。人类一旦能够全部掌握基因的解读与控制，那么许多的疾病都将消失，甚至连寿命也可能无限延长。 历时15年，耗资37亿美元，曾经遥
摩尔定律难以为继？新型二维材料有话说
近年来，半导体行业总是笼罩在摩尔定律难以为继的阴霾之下。但北京大学物理学院研究员吕劲团队与杨金波、方哲宇团队最新研究表明，新型二维材料或将续写摩尔定律对晶体管的预言。他们在预测出“具有蜂窝状原子排布的碳原子掺杂氮化硼(BNC)杂化材料是一种全新二维材料”后，这次发表在《纳米通讯》上的研究，通过
关于征集“后摩尔时代新器件基础研究”计划的通知
面向我国产业发展的战略需求，针对后摩尔时代芯片发展中最本质的算力瓶颈问题，国家自然科学基金委员会2019年启动了“后摩尔时代新器件基础研究”重大研究计划，旨在通过新材料、新原理、新结构、新器件和新架构的创新研究，突破芯片算力瓶颈，提升我国芯片研究水平。 为进一步做好“后摩尔时代新器件基础研究”
表面增强拉曼光谱皮摩尔下检测——两步离心法
中南大学的陈传品教授使用常规制备的纳米银(系羟胺还原硝酸银制备)作为表面增强拉曼光谱的增强基底，设计出两步离心法检测盐酸苯乙双胍和利培酮，其检测限可低至0.5 pM。该两步离心法包括：1）离心浓缩新制备的纳米银得到不同浓缩倍率的纳米银，同时移除粒径较小的纳米粒子；2）不同浓度的待检物与不同浓
渗透压摩尔浓度测定仪的性能是怎样的呢
渗透压摩尔浓度测定仪是一款侧重于检测临床人体体液如血液、尿液、泪液、汗液等的检测仪器； 同时满足2015年《中国药典》对注射剂、眼用制剂、渗透利尿药等制剂的检测要求。 性能特点： 人性化设计，大屏幕触摸液晶显示屏，中文界面，操作便捷。 探头助力升降。 采
英特尔继续推进摩尔定律：芯片背面供电，突破互连瓶颈
随着背面供电技术的完善和新型2D通道材料的采用，英特尔正致力于继续推进摩尔定律，在2030年前实现在单个封装内集成1万亿个晶体管。 包括PowerVia背面供电技术、用于先进封装的玻璃基板和Foveros Direct技术预计将在2030年前投产。 12月9日，英特尔在IEDM 2023（2
《科学》：纳摩尔合成和质谱描绘化学反应的黑暗空间
分析测试百科网讯 《Science》期刊最新文章：Mapping the dark space of chemical reactions with extended nanomole synthesis and MALDI-TOF MS，Science 24 May 2018。 这是布鲁克
气相色谱法怎么计算各组分之间的摩尔比
先根据样品峰面积与标样的峰面积和浓度，计算去各个物质的质量，然后根据质量就可以计算出摩尔质量了
中国科大等团队在关联氧化物摩尔调控研究中取得进展
由于石墨烯等二维范德瓦尔斯材料层间相互作用非常弱，容易解理并堆垛形成各种人工异质或同质结构。当堆垛的两层之间有微弱的晶格差异或微小的转角时，就会形成摩尔（moiré）图案。近期研究发现这些二维异质结或同质结体系在摩尔周期势场作用下，展现出了许多新奇的物理现象，比如在魔角双层石墨烯中发现了关联绝缘
中国科大等在关联氧化物摩尔调控的联合研究获进展
由于石墨烯等二维范德瓦尔斯材料层间相互作用非常弱，容易解理并堆垛形成各种人工异质或同质结构。当堆垛的两层之间有微弱的晶格差异或微小的转角时，就会形成摩尔（moiré）图案。近期研究发现这些二维异质结或同质结体系在摩尔周期势场作用下，展现出了许多新奇的物理现象，比如在魔角双层石墨烯中发现了关联绝缘
捷摩尔商城华谊PM6708数字声级计使用方法
噪声我们大家都不陌生，我们常常深受其扰，而又无能为力。4月1日，生态环境部召开了《环境噪声污染防治法》修改启动会。噪声是指对人类的生活或者生产活动产生不良影响的声音，或者说是人们在正常生活当中所不需要的声音，其可与环境中废水、废气、废渣一样产生环境公害，影响的不仅仅是人类。在城市里，噪声是仅次于
关于征集“后摩尔时代新器件基础研究”重大研究计划通知
为进一步做好“后摩尔时代新器件基础研究”重大研究计划的项目立项和资助工作，经本重大研究计划指导专家组和管理工作组会议讨论决定，面向科技界征集2021年度项目指南建议。 一、相关背景 “后摩尔时代新器件基础研究”重大研究计划2019年度获立项资助，执行期8年，围绕“CMOS器件能耗边界及突破机
让摩尔定律一再放缓－晶圆厂的cycle－time是什么？（一）
从平面器件到finFET的转变使得芯片制造商能够将工艺和器件从16nm/14nm向更密集的方向发展，但是行业在每个节点处都面临诸多挑战。成本问题和技术问题都是明显的挑战。此外，cycle time也在逐渐增加，这是芯片尺寸缩小公式中的一个关键但很少宣传的因素，这为芯片制造商和客户带来了更多
让摩尔定律一再放缓－晶圆厂的cycle－time是什么？（二）
Dai Nippon Printing（DNP）的研究员Naoya Hayashi说：“TAT更长的原因是写入时间、检查时间和验证时间。”写入时间是罪魁祸首。如上所述，IC设计要转换为文件格式。该格式被转换成电子束掩膜写入器的一组指令。这个过程称为掩膜数据准备（MDP）。然后，电子束掩膜写入
让摩尔定律一再放缓－晶圆厂的cycle－time是什么？（二）
对于切割，芯片制造商使用SADP/SAQP，或双重曝光工艺。双重曝光有时被称为曝光-刻蚀-曝光-刻蚀（LELE）。三重曝光包括LELELE。对于多重曝光中，7nm工艺所进行沉积、蚀刻和清洁步骤是16nm/14nm的两倍。 Coventor首席技术官David Fried表示：“随着我
紫外光谱中、摩尔消光系数的数值大小可以说明什么
由A=εCL 知摩尔吸光系数ε越大，说明这个实验越灵敏，精确度越高补充:A就是吸光度,ε越大不是说吸光度越大,而是说这个实验误差小.更精确,做起来和真实直差距小.我的回答是物质对某波长的光的吸收能力的量度。指一定波长时，溶液的浓度为1 mol/L， 1cm的吸光度，用ε或EM表示。越大吸收光的能力越