新研究揭示金属箔单晶生长内在机制
松山湖材料实验室理事长王恩哥院士，轻元素材料与器件团队吴慕鸿研究员、付莹研究员、王玉博士后，北京大学张志斌特聘副研究员等，在大尺寸单晶金属箔材可控制备领域取得关键突破。相关成果近日在线发表于《国家科学评论》（National Science Review）。 “团队发明了大尺寸单晶金属箔通用制备技术，通过建立应变-变形储能-织构-单晶对应关系，揭示金属箔单晶生长内在机制。”团队负责人刘开辉教授表示，团队发现充分变形储能是形成完全立方再结晶织构的关键，近100%的立方织构可引导金属箔稳定转变为单晶。此技术策略适用于铸造、轧制及电解等多种原料体系，能制备低/高晶面指数单晶铜箔与镍箔。 单晶金属箔的织构调控制备策略。研究团队供图 单晶金属箔晶体结构完美、综合性能优异，是解决电子散射、热降解和界面失效等关键问题的重要材料，近年来备受关注。此前已有研究通过温度梯度调控、籽晶诱导及无接触退火等方法成功制备单晶金属箔；然而，但由于商......阅读全文
低维单晶材料制造研究获重要进展
原文地址：http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2023/10/510607.shtm
首个有序大孔—微孔MOF单晶材料问世
记者从华南理工大学获悉，该校李映伟团队、美国得克萨斯大学圣安东尼奥分校陈邦林、沙特阿卜杜拉国王科技大学韩宇和西班牙科尔多瓦大学Rafael Luque共同研制出世界首个有序大孔—微孔MOF单晶材料。相关研究近日在线发表于《科学》杂志。 一直以来，制备出高度有序、大孔、单晶的稳定多孔材料，是一个
FeSe单晶的高压霍尔效应研究获进展
费米面拓扑结构及其与磁性的相互关联，被认为是理解铁基高温超导机理的关键。大多数FeAs基高温超导体的能带结构包含位于布里渊区中心的空穴型费米面和位于布里渊区顶角的电子型费米面，因此，空穴和电子费米面之间的散射被普遍认为是铁基超导电子配对的重要机制。但是，在FeSe基高温超体系中，包括AxFe2-
X衍射仪和单晶X衍射仪的区别
X射线衍射仪可以分为X射线粉末衍射仪和X射线单晶衍射仪。在传统的X射线衍射仪器中，单晶衍射仪及粉晶衍射仪功能各别，如四圆单晶衍射仪，如果所挑选的晶体颗粒不是严格的单晶体（该单晶体用于准直X射线，即获得单色的X射线），则无法进行后继的测试研究，而粉晶衍射仪也不能进行单晶数据收集。
X衍射仪和单晶X衍射仪的区别
X射线衍射仪可以分为X射线粉末衍射仪和X射线单晶衍射仪。在传统的X射线衍射仪器中，单晶衍射仪及粉晶衍射仪功能各别，如四圆单晶衍射仪，如果所挑选的晶体颗粒不是严格的单晶体（该单晶体用于准直X射线，即获得单色的X射线），则无法进行后继的测试研究，而粉晶衍射仪也不能进行单晶数据收集。
X射线单晶体衍射仪的应用
晶体结构的测定对学科的发展、物体性能的解释、新产品的生产和研究等方面都有很大的作用，其应用面很宽，不能尽述，略谈几点如下：（一）．晶体结构的成功测定，在晶体学学科的发展上起了决定的作用。因为他将晶体具有周期性结构这一推测得到了证实，使晶体的许多特性得到了解释：如晶体能自发长成多面体外形（自范性），如
今日Science：单晶外延膜，如今甩着做！
美东时间4月11日中午，Science杂志在线发表一篇研究论文，题目就四个字：Spin coating epitaxial film。单晶外延膜，如今甩着做！另附专家点评。 可以毫不夸张地说，甩涂法是现代微电子工业的根基。用于集成电路微加工的光刻胶，就是甩涂上去的，工艺简单、价格低廉、用途广泛
铁酸铋单晶首次被集成到硅片
美国北卡罗来纳州立大学的研究人员，首次将一种被称为铁酸铋(BFO)的材料作为一个单晶体集成到一个硅片上，向制造新一代多功能智能设备迈出了关键一步。 铁酸铋具有铁磁性和铁电性双重性能，这意味着它能够被通过其中的电流磁化。铁酸铋的潜在应用领域包括新磁性存储设备、智能传感器和自旋电子学技术等。
x射线单晶体衍射仪同步辐射
是一种大科学装置，设备大投资高，一般都需要政府投资，不是一般实验室所能具备的，需要 申请立项才能使用。因此，如果能发展出高强度的实验室光源和极高灵敏度的探测器，使在一般实验室中也能测定生物大分子结构，则绝对是有益的。 有许多生物反应的速度是相当快的, 如血红蛋白与一氧化碳的结合，速度在纳秒级（
X射线单晶与多晶衍射技术的区别
衍射仪的进展主要在三个方面:1、X射线发生器，2、探测器，3、衍射几何与光路。折叠x射线发生器X射线发生器是进行X射线衍射实验所不可缺少的、重要的设备之一，其优劣会严重影响X射线衍射数据的质量。折叠探测器探测器是用来记录衍射谱的，因而是多晶体衍射设备中不可或缺的重要部件之一。早先被广泛使用的是照相底
X衍射仪和单晶X衍射仪的区别
X射线衍射仪可以分为X射线粉末衍射仪和X射线单晶衍射仪。在传统的X射线衍射仪器中，单晶衍射仪及粉晶衍射仪功能各别，如四圆单晶衍射仪，如果所挑选的晶体颗粒不是严格的单晶体（该单晶体用于准直X射线，即获得单色的X射线），则无法进行后继的测试研究，而粉晶衍射仪也不能进行单晶数据收集。
X衍射仪和单晶X衍射仪的区别
X射线衍射仪可以分为X射线粉末衍射仪和X射线单晶衍射仪。在传统的X射线衍射仪器中，单晶衍射仪及粉晶衍射仪功能各别，如四圆单晶衍射仪，如果所挑选的晶体颗粒不是严格的单晶体（该单晶体用于准直X射线，即获得单色的X射线），则无法进行后继的测试研究，而粉晶衍射仪也不能进行单晶数据收集。
科学家发现碳家族单晶新材料
碳是我们这个星球上最重要的元素之一，碳原子具有极轻的原子质量和极强的共价键。碳是元素周期表中最多样化的元素之一，它可以与自身或者几乎所有的元素以多种杂化方式成键，获得结构丰富的碳网络，很多碳分子具有独特的π电子共轭体系，并展现出优异的力、热、光、电等属性。 碳材料一直被认为是一种未来材料，甚至有
X衍射仪和单晶X衍射仪的区别
X射线衍射仪可以分为X射线粉末衍射仪和X射线单晶衍射仪。在传统的X射线衍射仪器中，单晶衍射仪及粉晶衍射仪功能各别，如四圆单晶衍射仪，如果所挑选的晶体颗粒不是严格的单晶体（该单晶体用于准直X射线，即获得单色的X射线），则无法进行后继的测试研究，而粉晶衍射仪也不能进行单晶数据收集。
十五种蛋白质单晶培养的方法
15种蛋白质单晶培养的方法：（1）大量养晶法（bulk crystallization）：若急着养出单晶，则将纯化之蛋白质溶液加入固体盐类或饱和盐液，直到溶液中出现乳白混浊色，离心后把上清液（suppernatant）放置数天至数周，有可能养出单晶。（2）批次养晶法（batch method）:
FeSe单晶的高压霍尔效应研究获进展
费米面拓扑结构及其与磁性的相互关联，被认为是理解铁基高温超导机理的关键。大多数FeAs基高温超导体的能带结构包含位于布里渊区中心的空穴型费米面和位于布里渊区顶角的电子型费米面，因此，空穴和电子费米面之间的散射被普遍认为是铁基超导电子配对的重要机制。但是，在FeSe基高温超体系中，包括AxFe2-
X衍射仪和单晶X衍射仪的区别
X射线衍射仪可以分为X射线粉末衍射仪和X射线单晶衍射仪。在传统的X射线衍射仪器中，单晶衍射仪及粉晶衍射仪功能各别，如四圆单晶衍射仪，如果所挑选的晶体颗粒不是严格的单晶体（该单晶体用于准直X射线，即获得单色的X射线），则无法进行后继的测试研究，而粉晶衍射仪也不能进行单晶数据收集。
单晶硅的生产工艺流程
单晶硅生产工艺流程:1、 石头加工开始是石头，(石头都含硅)，把石头加热，变成液态，在加热变成气态，把气体通过一个密封的大箱了，箱子里有N多的子晶加热，两头用石墨夹住的，气休通过这个箱子，子晶会把气体中的一种吸符到子晶上，子晶慢慢就变粗了，因为是有体变固休，所以很慢，一个月左右，箱子里有就很多长长的
今日Science：单晶外延膜，如今甩着做！
美东时间4月11日中午，Science杂志在线发表一篇研究论文，题目就四个字：Spin coating epitaxial film。单晶外延膜，如今甩着做！另附专家点评。 可以毫不夸张地说，甩涂法是现代微电子工业的根基。用于集成电路微加工的光刻胶，就是甩涂上去的，工艺简单、价格低廉、用途广泛
通用单晶电子衍射花样的标定步骤
通用单晶电子衍射花样的标定步骤测量衍射花样上透射斑到衍射斑的三个最短距离 R1、R2、R3 及其之间的夹角：根据公式， d = R/ （L×电子波长），其中 L 是相机常数，底片上写着，单位是 cm，电子波长一般的电镜书上都有，200 kV 电镜是 0.00251 nm。代入计算即可得到相应的 d
X射线单晶体衍射仪的介绍
X射线单晶体衍射仪(X-ray single crystal diffractometer)。本仪器分析的对象是一粒单晶体，如一粒砂糖或一粒盐。在一粒单晶体中原子或原子团均是周期排列的。将X射线（如Cu的Kα辐射）射到一粒单晶体上会发生衍射，由对衍射线的分析可以解析出原子在晶体中的排列规律，也即解出
锂电池负极材料铜箔的简介
铜箔是一种阴质性电解材料，沉淀于电路板基底层上的一层薄的、连续的金属箔， 它作为PCB的导电体。它容易粘合于绝缘层，接受印刷保护层，腐蚀后形成电路图样。 铜箔由铜加一定比例的其它金属打制而成，铜箔一般有90箔和88箔两种，即为含铜量为90%和88%，尺寸为16*16cm 铜箔，是用途最广泛的装
WH81涂层测厚仪校准方法
WH81涂层测厚仪校准方法WH81涂层测厚仪校准方法。为使测量准确，应在测量场所对仪器进行校准。1 校准标准片(包括箔和基体)已知厚度的箔或已知覆盖层厚度的试样均可作为校准标准片。简称标准片。a) 校准箔对于磁性方法， “箔”是指非磁性金属或非金属的箔或垫片。对于涡流方法，通常采用塑料箔。 “箔”有
锂电池极片切割工艺参数的影响介绍
（1）切边涂层脱落，露出金属箔材； （2）切边周围出现大量切屑异物。这些都会导致电池出现性能下降、安全性品质问题。 因此，当采用激光切割时，需要根据活物质材料和金属箔材的特性，优化合适的工艺参数，才能既完全切割极片，又形成良好的切边质量，不产生金属切屑杂质残留。
WH91涂层测厚仪如何校准
WH91涂层测厚仪如何校准WH91涂层测厚仪是一种带线的延长探头测凹槽面更加方便了，还有一些桌面底下，窗外测不到的地方，用这种带探头的测量非常方便，可满足客户的不同需求。那么？WH91涂层测厚仪如何校准？珠海天创仪器公司为大家详细说明：为使测量准确，应在测量场所对仪器进行校准。1 校准标准片(包括箔
电压击穿试验仪材料电极的选型
板材和片状材料（包括纸板、纸、织物和薄膜）选用不等经电极;电极由两个金属圆柱体组成其边缘倒成半径3.0±0.2mm的圆弧其中一个电极的直径为25mm高度25mm另一个电极的直接为75mm高度为15mm两个电极同轴放置误差在2mm内带、薄膜和窄条；两个电极为两根金属棒直径为6mm垂直按在电极架内一个电
关于电压击穿试验仪电极的选型知识
1、板材和片状材料（包括纸板、纸、织物和薄膜）选用不等经电极；电极由两个金属圆柱体组成其边缘倒成半径3.0±0.2mm的圆弧其中一个电极的直径为25mm高度25mm另一个电极的直接为75mm高度为15mm两个电极同轴放置误差在2mm内带、薄膜和窄条；两个电极为两根金属棒直径为6mm垂直按在电极架内一
涡流测厚仪测干膜厚度时，影响测量精度的因素是什么
根据国家标GB/T4957-2003《非磁性金属基体上非导电覆盖层厚度测量 涡流法》，下列因素会影响测量精度。 1. 覆盖层厚度 测量的不确定度是涡流测厚方法固有的特性。对于较薄的覆盖层（例如：小于25μm），测量不确定度是一恒定值，与覆盖层的厚度无关，每次测量的不确定度至少是0.5μm
影响涡流测厚仪测量精度的因素
根据国家标GB/T4957-2003《非磁性金属基体上非导电覆盖层厚度测量 涡流法》，下列因素会影响测量精度。1. 覆盖层厚度 测量的不确定度是涡流测厚方法固有的特性。对于较薄的覆盖层（例如：小于25μm），测量不确定度是一恒定值，与覆盖层的厚度无关，每次测量的不确定度至少是0.5μ
摆锤式冲击试验机的用途及范围
摆锤式冲击试验机用于检测金属材料、非金属材料在动负荷下抵抗冲击的性能，以便判断材料在动负荷下的性质。 设备用途 专业适用于塑料薄膜、薄片、复合膜、金属箔片等材料抗摆锤冲击性能的精确测定。 应用范围 执行GB 8809-88（薄膜抗摆锤冲击）、ASTM D3420、NF T54等多种测试标