新研究揭示金属箔单晶生长内在机制

松山湖材料实验室理事长王恩哥院士,轻元素材料与器件团队吴慕鸿研究员、付莹研究员、王玉博士后,北京大学张志斌特聘副研究员等,在大尺寸单晶金属箔材可控制备领域取得关键突破。相关成果近日在线发表于《国家科学评论》(National Science Review)。 “团队发明了大尺寸单晶金属箔通用制备技术,通过建立应变-变形储能-织构-单晶对应关系,揭示金属箔单晶生长内在机制。”团队负责人刘开辉教授表示,团队发现充分变形储能是形成完全立方再结晶织构的关键,近100%的立方织构可引导金属箔稳定转变为单晶。此技术策略适用于铸造、轧制及电解等多种原料体系,能制备低/高晶面指数单晶铜箔与镍箔。 单晶金属箔的织构调控制备策略。研究团队供图 单晶金属箔晶体结构完美、综合性能优异,是解决电子散射、热降解和界面失效等关键问题的重要材料,近年来备受关注。此前已有研究通过温度梯度调控、籽晶诱导及无接触退火等方法成功制备单晶金属箔;然而,但由于商......阅读全文

常用的光学单晶特性介绍

常用的光学单晶有:①卤化物单晶。分为氟化物单晶,溴、氯、碘的化合物单晶,铊的卤化物单晶。氟化物单晶在紫外、可见和红外波段光谱区均有较高的透过率、低折射率及低光反射系数;缺点是膨胀系数大、热导率小、抗冲击性能差。溴、氯、碘的化合物单晶能透过很宽的红外波段,其熔点低,易于制成大尺寸单晶;缺点是易潮解、硬

单晶炉的简介及构成

  单晶炉简介:  单晶炉是一种在惰性气体(氮气、氦气为主)环境中,用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生长无错位单晶的设备。  单晶炉构成:  提拉头:主要由安装盘 减速机 籽晶腔 划线环 电机 磁流体 籽晶称重头 软波纹管等其他部件组成  副室:主要是副室筒以及上下法兰组成  炉盖:副室

单晶培养科研实验知识分享

好多同学/老师一直培养不出单晶,或者周期太长了,希望这个分享能得到一些帮助。单晶培养的方法多种多样,如升华法、共结晶法等。最简单的最实用常用的有1.溶剂缓慢挥发法;2.液相扩散法;3.气相扩散法。99%的单晶是用以上三种方法培养出来的。一、单晶培养要点 1、一般以10--25mg 为佳,如果你只有2

X射线单晶衍射的简介

  X射线单晶衍射(X-ray diffraction of single crystal)是2014年全国科学技术名词审定委员会公布的药学名词,出自《药学名词》第二版。  当晶体被X射线照射时,晶体中各原子的散射X射线会叠加起来。当X射线为单色时,各原子的散射X射线发生干涉,在特定的方向上产生强的

26日直播丨一说《三体》:二向箔与降维打击

原文地址:http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2022/4/477964.shtm   直播时间:2022年4月26日(周二)19:00 直播地址:科学网新浪微博直播间 扫码进入科学网新浪微博直播间观看直播 科学网微信视频

生物大分子单晶衍射仪

  生物大分子单晶衍射仪是一种用于生物学领域的分析仪器,于2005年7月11日启用。  技术指标  Mar-X型生物大分子X射线衍射采集系统是新一代即开即用的X射线衍射仪,具有节能稳定、耗材少,操作简单、使用可靠,不需要维护等特点。  主要功能  晶体衍射方法是测定生物大分子空间结构解析的主要研究手

单晶硅属于什么立方晶格

金刚石结构,属于体心立方晶格,倒格子是面心立方!

单晶X射线衍射的理论发展

  发现衍射现象  图片  1912年劳埃等人根据理论预见,并用实验证实了X射线与晶体相遇时能发生衍射现象,证明了X射线具有电磁波的性质,成为X射线衍射学的第一个里程碑。当一束单色X射线入射到晶体时,由于晶体是由原子规则排列成的 晶胞组成,这些规则排列的原子间距离与入射X射线波长有相同 数量级,故由

x射线单晶体衍射仪

  X射线单晶体衍射仪X射线单晶体衍射仪(X-ray single crystal diffractometer,简写为XRD)。本仪器分析的对象是一粒单晶体,如一粒砂糖或一粒盐。在一粒单晶体中原子或原子团均是周期排列的。将X射线(如Cu的Kα辐射)射到一粒单晶体上会发生衍射,由对衍射线的分析可以解

单晶半导体材料的制备方法

具体的制备方法有:①从熔体中拉制单晶:用与熔体相同材料的小单晶体作为籽晶,当籽晶与熔体接触并向上提拉时,熔体依靠表面张力也被拉出液面,同时结晶出与籽晶具有相同晶体取向的单晶体。②区域熔炼法制备单晶:用一籽晶与半导体锭条在头部熔接,随着熔区的移动则结晶部分即成单晶。③从溶液中再结晶。④从汽相中生长单晶

X射线单晶体衍射仪

X射线单晶体衍射仪(X-ray single crystal diffractometer)。本仪器分析的对象是一粒单晶体,如一粒砂糖或一粒盐。在一粒单晶体中原子或原子团均是周期排列的。将X射线(如Cu的Kα辐射)射到一粒单晶体上会发生衍射,由对衍射线的分析可以解析出原子在晶体中的排列规律,也即解出

单晶半导体材料的制备方法

为了消除多晶材料中各小晶体之间的晶粒间界对半导体材料特性参量的巨大影响,半导体器件的基体材料一般采用单晶体。单晶制备一般可分大体积单晶(即体单晶)制备和薄膜单晶的制备。体单晶的产量高,利用率高,比较经济。但很多的器件结构要求厚度为微米量级的薄层单晶。由于制备薄层单晶所需的温度较低,往往可以得到质量较

单晶X射线衍射的原理简介

  利用晶体形成的 X射线衍射,对物质进行内部原子在空间分布状况的结构分析方法。将具有一定波长的X射线照射到结晶性物质上时,X射线因在结晶内遇到规则排列的原子或离子而发生散射,散射的X射线在某些  方向上相位得到加强,从而显示与结晶结构相对应的特有的 衍射现象。衍射X射线满足布拉格(W.L.Brag

x射线单晶体衍射仪单晶体结构分析实验方法的发展

   单晶体结构分析实验方法的发展  目前的实验室单晶体结构分析方法对于测定小分子的单晶体结构已经是相当完美了, 但对于巨大的生物大分子就显得软弱无力,主要是光源强度不够,光的平行性不良,波长又不好调。目前主要要依靠 同步辐射作为 X射线源。我国二个 同步辐射光源之一的位于合肥的国家同步辐射实验室(

科学家开发面向二维集成电路的单晶金属氧化物栅介质晶圆

8月7日,中国科学院上海微系统与信息技术研究所(以下简称上海微系统所)研究员狄增峰团队,在面向低功耗二维集成电路的单晶金属氧化物栅介质晶圆研制方面取得突破性进展,相关研究发表于《自然》。硅基集成电路是现代技术进步的基石,但在尺寸缩小方面面临着严峻的挑战。二维半导体材料具有高载流子迁移率和抑制短沟道效

科学家开发面向二维集成电路的单晶金属氧化物栅介质晶圆

8月7日,中国科学院上海微系统与信息技术研究所(以下简称上海微系统所)研究员狄增峰团队,在面向低功耗二维集成电路的单晶金属氧化物栅介质晶圆研制方面取得突破性进展,相关研究发表于《自然》。硅基集成电路是现代技术进步的基石,但在尺寸缩小方面面临着严峻的挑战。二维半导体材料具有高载流子迁移率和抑制短沟道效

单晶X射线衍射的发展方向

  X射线分析的新发展,金属X射线分析由于设备和技术的普及已逐步变成金属研究和有机材料, 纳米材料测试的常规方法。而且还用于动态测量。早期多用照相法,这种方法费时较长,强度测量的精确度低。50年代初问世的计数器衍射仪法具有快速、强度测量准确,并可配备计算机控制等优点,已经得到广泛的应用。但使用 单色

怎样从SAED图谱区分单晶和多晶

看品 绝数看 般情况普通SEM图能用证明材料单晶 确定材料晶材料通SEM观察晶界(能需要进行些预处理比腐蚀) 于陶瓷材料肯定晶直接掰能用SEM看晶界晶粒于金属材料通腐蚀观察晶界于薄膜材料腐蚀观察晶界 于金属品种叫:电背散射衍射种需要品抛光非平整观察品表面结晶向种辨率较低种般用析金属金相组织几乎用做单

怎样从SAED图谱区分单晶和多晶

看品 绝数看 般情况普通SEM图能用证明材料单晶 确定材料晶材料通SEM观察晶界(能需要进行些预处理比腐蚀) 于陶瓷材料肯定晶直接掰能用SEM看晶界晶粒于金属材料通腐蚀观察晶界于薄膜材料腐蚀观察晶界 于金属品种叫:电背散射衍射种需要品抛光非平整观察品表面结晶向种辨率较低种般用析金属金相组织几乎用做单

做XRD用的单晶硅片和做扫描电镜的普通单晶硅片有区别么

用小角度模式扫,就可以避免基片影响。测试的人都懂的,不用买特殊的单晶硅片。

涂镀层测厚仪校准注意事项

涂层测厚仪校准注意事项,应注意下列要点:1.正确的校准对测量是至关重要的。对于校准,将采用一个与后来被测量的物体相类似的样品,即同时,标准试样和衡量的对象应具有相同的形状和几何。基本上,更多测量对象的标准试样匹配,测量结果将更加。 2.确定校准样品和被测量物体的以下属性匹配: -- 表面的曲率半径

涂层测厚仪校准注意要点

涂层测厚仪校准注意要点1.正确的校准对测量是至关重要的。对于校准,将采用一个与后来被测量的物体相类似的样品,即同时,标准试样和衡量的对象应具有相同的形状和几何。基本上,更多测量对象的标准试样匹配,测量结果将更加。2.确定校准样品和被测量物体的以下属性匹配: --表面的曲率半径 --衬底材料(如磁导率

什么是光学式卡门旋涡空气流量计

  在产生卡门旋涡的过程中,旋涡发生器两侧的空气压力会发生变化,通过导孔作用在金属箔上,从而使其振动,发光二极管的光照在振动的金属箔上时,光敏三极管接收到的金属箔上的反射光是被旋涡调制的光,其输出经解调得到代表空气流量的频率信号。

上海微系统所开发出面向二维集成电路的单晶金属氧化物栅介质晶圆

中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员狄增峰团队在面向低功耗二维集成电路的单晶金属氧化物栅介质晶圆研制方面取得进展。8月7日,相关研究成果以《面向顶栅结构二维晶体管的单晶金属氧化物栅介质材料》(Single-crystalline metal-oxide dielectrics for top-

上海微系统所开发出面向二维集成电路的单晶金属氧化物栅介质晶圆

中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员狄增峰团队在面向低功耗二维集成电路的单晶金属氧化物栅介质晶圆研制方面取得进展。8月7日,相关研究成果以《面向顶栅结构二维晶体管的单晶金属氧化物栅介质材料》(Single-crystalline metal-oxide dielectrics for top-

形成表面导电层的方法

形成表面导电层的方法有:在塑料表面涂敷金属填充涂料,真空金属化,热喷涂和粘贴压敏金属箔等。应该根据产品在工作寿命期间对涂层导电性能的稳定性和附着力的要求,选择经济适用的某一种涂敷方法。涂敷金属填充涂料用填充有金属粒子的涂料在塑料外壳形成一层屏蔽层的方法,是一种最简便、最经济的涂敷方法。真空金属化是利

关于导电涂层的涂覆方法介绍

  形成表面导电层的方法有:在塑料表面涂敷金属填充涂料,真空金属化,热喷涂和粘贴压敏金属箔等。应该根据产品在工作寿命期间对涂层导电性能的稳定性和附着力的要求,选择经济适用的某一种涂敷方法。  涂敷金属填充涂料用填充有金属粒子的涂料在塑料外壳形成一层屏蔽层的方法,是一种最简便、最经济的涂敷方法。  真

四探针测试仪原理和组成

 多功能数字式四探针测试仪是运用四探针测量原理测试电阻率/方阻的多用途综合测量 仪器。该仪器设计符合GB/T 1551-2009 《硅单晶电阻率测定方法》、GB/T 1551-1995《硅、锗单晶电阻率测定直流两探针法》、 GB/T 1552-1995《硅、锗单晶电阻率测定直流四探针法》并参考美国 

x射线单晶体衍射仪的应用

  晶体结构的测定对学科的发展、物体性能的解释、新产品的生产和研究等方面都有很大的作用,其应用面很宽,不能尽述,略谈几点如下:  (一).晶体结构的成功测定,在 晶体学学科的发展上起了决定的作用。因为他将晶体具有周期性结构这一推测得到了证实,使晶体的许多特性得到了解释:如晶体能自发长成 多面体外形(