兰州化物所管道内壁超厚类金刚石薄膜制备技术取得突破
中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室王立平研究员和薛群基院士带领的团队在管道内壁超厚类金刚石薄膜制备技术方面取得突破。 具有优异润滑与防护特性的类金刚石薄膜(DLC)在工程部件具有广泛的应用，然而传统的气相沉积技术如物理气相沉积、化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积，仅限于镀制部件的外表面以及直径大且长度短(长径比小)的内表面。兰州化物所研究人员开发了空心阴极增强化学气相沉积技术，该技术突破了管道内壁高速沉积超厚DLC薄膜的制备技术，薄膜的沉积速率可达100nm~500nm/min，可在长径比达20的管道内表面均匀沉积，适用于直径10mm~300mm的管道内壁处理，并通过多元/多界面和梯度多层等多尺度耦合结构设计制备出厚度达51μm的超厚DLC薄膜，这种超厚碳基薄膜表现出优异的减摩耐磨和在各种流体介质中良好的耐腐蚀防护特性。研究人员进一步利用有限元静态和动态力学分析，通过建立内应力分布以及裂纹和变形等行......阅读全文
异形件表面全方位镀膜研究方面获系列进展
类金刚石碳基(DLC)薄膜由于其优异的润滑和防护特性，被广泛应用于航空航天、海洋腐蚀、机械工程和生物医学等领域。如何在异形件表面快速沉积DLC薄膜是亟待解决的关键问题之一。 中国科学院兰州化学物理研究所低维润滑材料课题组多年来致力于DLC薄膜材料及制备技术研究，近期在异形件表面快速全方位沉积D
兰州化物所管道内壁超厚类金刚石薄膜制备技术取得突破
中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室王立平研究员和薛群基院士带领的团队在管道内壁超厚类金刚石薄膜制备技术方面取得突破。 具有优异润滑与防护特性的类金刚石薄膜(DLC)在工程部件具有广泛的应用，然而传统的气相沉积技术如物理气相沉积、化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积，仅限于
Si_xN_y应用在硬盘磁头保护膜上的研究
当DLC（类金刚石）薄膜的厚度低于2nm时,传统的DLC/Si磁头保护膜已经起不到保护作用,而降低磁头保护膜的厚度可以提高硬盘存储密度,所以探索开发新的、性能更加优异的磁头保护膜成为了该领域的热点。DLC/SixNy磁头保护膜（以SixNy为基底的DLC磁头保护膜）是对传统DLC/Si磁头保护膜的拓
唐永炳团队利用颜色快速分辨类金刚石薄膜的新方法
近日，中国科学院深圳先进技术研究院集成所功能薄膜材料研究中心研究员唐永炳及其团队成员通过对类金刚石（DLC）薄膜颜色和微结构的系统分析，并结合理论计算，揭示了不同种类DLC薄膜的颜色产生机理，成功发展出利用DLC薄膜颜色快速分析DLC薄膜种类和结构的新方法。相关研究成果以Colorful dia
DLC1基因编码功能及结构描述
这个基因编码一个GTPase激活蛋白（GAP），它是rhoGAP家族的一个成员，在调节小GTP结合蛋白中起作用GAP家族蛋白参与调控细胞骨架变化过程的信号传导途径这种基因在许多常见的癌症中起着抑癌基因的作用，包括前列腺癌、肺癌、结直肠癌和乳腺癌。由于选择性启动子和选择性剪接，已经发现了该基因的多个转
DLC1－START－域与磷脂酰丝氨酸、PLCD1－和－Caveolin－1－相互作用－DLC1
DLC1是一种肿瘤抑制基因，在许多癌症类型中通过遗传和非遗传机制下调，其编码的蛋白RhoGAP和支架活性有助于其肿瘤抑制功能。DLC1 START（StAR 相关脂质转移；DLC1 START）域的作用，除了与 Caveolin 1 的结合外，还知之甚少。 在其他 START 域中，一个关键功能
DLC1－START－域与磷脂酰丝氨酸、PLCD1－和－Caveolin－1－相互作用－DLC1
DLC1是一种肿瘤抑制基因，在许多癌症类型中通过遗传和非遗传机制下调，其编码的蛋白RhoGAP和支架活性有助于其肿瘤抑制功能。DLC1 START（StAR 相关脂质转移；DLC1 START）域的作用，除了与 Caveolin 1 的结合外，还知之甚少。 在其他 START 域中，一个关键功能
FCVA辅助ECR源制备DLC/CN_x复合膜的研究
CN_x是一种新型的氮化碳膜,DLC/CN_x复合膜是对传统四面体非晶碳(ta-C)保护膜的拓展和创新。磁过滤阴极真空弧(Filtered Cathod Vacuum Arc, FCVA)是一种沉积高质量薄膜的方法,电子回旋共振(Electron Cyclotron Resonance, ECR)能
化学气相沉积法生产几种贵金属薄膜
贵金属薄膜因其有着较好的抗氧化能力、高导电率、强催化活性以及极其稳定引起了研究者的兴趣。和生成贵金属薄膜的其他方式相比，化学气相沉积法有更多技术优势，所以大多数制备贵金属薄膜都会采用这种方式。沉积贵金属薄膜用的沉积员物质种类比较广泛，不过大多是贵金属元素的卤化物和有机化合物，比如COCl2、氯化
DLC1基因突变与药物因子介绍
这个基因编码一个GTPase激活蛋白（GAP），它是rhoGAP家族的一个成员，在调节小GTP结合蛋白中起作用GAP家族蛋白参与调控细胞骨架变化过程的信号传导途径这种基因在许多常见的癌症中起着抑癌基因的作用，包括前列腺癌、肺癌、结直肠癌和乳腺癌。由于选择性启动子和选择性剪接，已经发现了该基因的多个转
DLC1基因的结构特点及主要作用
这个基因编码一个GTPase激活蛋白（GAP），它是rhoGAP家族的一个成员，在调节小GTP结合蛋白中起作用GAP家族蛋白参与调控细胞骨架变化过程的信号传导途径这种基因在许多常见的癌症中起着抑癌基因的作用，包括前列腺癌、肺癌、结直肠癌和乳腺癌。由于选择性启动子和选择性剪接，已经发现了该基因的多个转
DLC5自动沥青抽提仪使用方法
DLC-5自动沥青抽提仪使用方法1、时间调整：按通电源，时间控制窗口显示当前数码拨盘上的数字，单位为秒。根据部颁标准规定，试验时间是离心机出液口不再流出溶液后停机，这段时间一般在90~180秒之间，所以离心时间可根据次试验时间进行调整。时间调整按动数码拨盘即可。2、按试验规程要求将沥青混合料试样准备
DLC5自动沥青抽提仪注意事项
DLC-5自动沥青抽提仪注意事项1、仪器所配备的滤纸为滤油滤纸，若使用过程中矿粉损失太多，用户应考虑增加每次使用滤纸的张数(如三张)，直至矿粉损失达到要求。2、矿粉损失的程度与离心杯盖的压紧程度有关，在不影响旋转的情况下，压紧螺母应尽量旋紧。3、溶剂注入离心杯时应防止溅出机体外，若有溅出应立即擦洗干
兰州化物所类金刚石薄膜的润滑研究取得新进展
中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室空间润滑材料研究组在类金刚石（DLC）薄膜材料润滑应用方面取得了系列进展。 研究发现，DLC薄膜材料具有优异的减摩和抗磨性能，但传统摩擦副用润滑剂并不适合DLC摩擦副，或者说，传统润滑油并不能显示DLC类摩擦副的优越性。课题组合
高真空环境类金刚石碳基薄膜摩擦机理研究获进展
中国科学院兰州化学物理研究低维材料摩擦学课题组在高真空环境下类金刚石碳基薄膜摩擦机理研究方面取得新进展。研究工作相继发表在近期出版的ACS Appl. Mater. Interfaces (2013, 5, 5889–5893)和Carbon ( 2014, 66, 259-266) 。
物理气相沉积和化学气相沉积的对比
化学气相沉积过程中有化学反应，多种材料相互反应，生成新的的材料。 物理气相沉积中没有化学反应，材料只是形态有改变。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。缺点膜一基结合力弱,镀膜不耐磨, 并有方 向性 化学杂质难以去除。优点可造金属膜、非
其他薄膜沉积设备的薄膜沉积技术分类
薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。对于CVD工艺，这包括原子层沉积（ALD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。PVD沉积技术包括溅射，电子束和热蒸发。CVD工艺包括使用等离子体将源材料与一种或多种挥发性前驱物混合以化学相互作用并使源材料分解。该工艺使用较
氟化类金刚石膜的制备、结构和性能的研究
本文尝试了以CHF3、CH4／CHF3和C2H2／CHF3为源气体，利用微波ECR等离子体源离子注入技术和等离子增强化学气相沉积技术来制备氟化类金刚石膜的方法，并对DLC薄膜和FDLC薄膜的结构和性能进行了分析和比较。 研究了源气体的种类及流量比、微波功率、高压脉冲宽度、工作时间、工作温度、沉积偏压
化学气相沉积的概述
化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物
什么是气相沉积法
化学气相沉积法，包括低压化学气相沉积（LPCVD）和等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺。 化学气相沉积主要是以末种化合物,为反应气体,在一定的保护气氛下反应生成单质原子并沉积在加热的衬底上，衬底材料一般选用次单质或其稳定化合物等。
化学气相沉积的特点
1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。 2）可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好）。 3）采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行。 4）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化
兰州化物所二硫化钼/类金刚石碳复合薄膜研究取得进展
随着航空航天、先进核能等领域的迅速发展，其机械运动部件服役工况也愈加多变、复杂、苛刻，对表面润滑与防护薄膜材料抗辐照、多特性等方面提出愈来愈高的要求，致使传统过渡金属二硫化物薄膜（TMD）及类金刚石碳膜（DLC）等单一组分的润滑薄膜材料面临严峻挑战。 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重
SGOI、SODI新结构材料及其相关技术研究
随着芯片制造业遵循摩尔定律向大尺寸晶圆450mm、光刻线宽nm级、高精度、高效率、低成本发展，集成电路也逐步从微电子时代发展到微纳米电子时代，现有的体硅材料和工艺正接近它们的物理极限，遇到了严峻的挑战。应变硅技术、SOI（Silicon-on-Insulator）技术和高K栅介质材料是三项在硅材料与
化学气相沉积系统共享
仪器名称：化学气相沉积系统仪器编号：13003987产地：美国生产厂家：TRION型号：PHANTOMIII出厂日期：201205购置日期：201303所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
气相沉积是什么意思
其含义是气相中化学反应的固体产物沉积到表面。CVD装置由下列部件组成；反应物供应系统，气相反应器，气流传送系统。反应物多为金属氯化物，先被加热到一定温度，达到足够高的蒸汽压，用载气（一般为Ar或H2）送入反应器。如果某种金属不能形成高压氯化物蒸汽，就代之以有机金属化合物。在反应器内，被涂材料或用金属
化学气相沉积的原理简介
化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上产生化学反应和传输反应等并产生固态沉积物的一种工艺，它大致包含三步： （1）形成挥发性物质 ； （2）把上述物质转移至沉积区域 ； （3）在固体上产生化学反应并产生固态物质 。 最基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等几
简述化学气相沉积的应用
现代科学和技术需要使用大量功能各异的无机新材料，这些功能材料必须是高纯的，或者是在高纯材料中有意地掺入某种杂质形成的掺杂材料。但是，我们过去所熟悉的许多制备方法如高温熔炼、水溶液中沉淀和结晶等往往难以满足这些要求，也难以保证得到高纯度的产品。因此，无机新材料的合成就成为现代材料科学中的主要课题。
物理气相沉积和化学气相沉积的区别及优缺点
化学气相沉积过程中有化学反应，多种材料相互反应，生成新的的材料。物理气相沉积中没有化学反应，材料只是形态有改变。物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。缺点膜一基结合力弱,镀膜不耐磨, 并有方 向性化学杂质难以去除。优点可造金属膜、非金属膜,又可按要
物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别
物理气相沉积法与化学气相沉积法有3点不同，相关介绍具体如下：一、两者的特点不同：1、物理气相沉积法的特点：物理气相沉积法的沉积粒子能量可调节，反应活性高。通过等离子体或离子束介人，可以获得所需的沉积粒子能量进行镀膜，提高膜层质量。通过等离子体的非平衡过程提高反应活性。2、化学气相沉积法的特点：能得到
物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别
物理气相沉积法可以看作是物理过程，实现物质的转移，最终沉积到靶材上面。化学气相沉积法是在一定条件下通过化学反应，形成所需物质沉积在靶材或者基材表面。