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X光电子能谱仪

X光电子能谱仪是一种用于能源科学技术领域的分析仪器,于2010年10月1日启用。 技术指标 最佳能量分辨率 < 30 μm,最佳能量分辨率 < 0.5 eV FWHM,C1s能量分辨率< 0.85 eV,离子源能量范围:100 eV至3 keV,最大束流:4 μA,在烘烤完成24小时后,分析室最佳真空:5×10-9 mbar。 主要功能 测量固体材料表面元素种类、含量及价态,以及样品离子溅射后元素分析。......阅读全文

X光电子能谱仪

  X光电子能谱仪是一种用于能源科学技术领域的分析仪器,于2010年10月1日启用。  技术指标  最佳能量分辨率 < 30 μm,最佳能量分辨率 < 0.5 eV FWHM,C1s能量分辨率< 0.85 eV,离子源能量范围:100 eV至3 keV,最大束流:4 μA,在烘烤完

X射线光电子能谱仪原理

X射线光子的能量在1000~1500ev之间,不仅可使分子的价电子电离而且也可以把内层电子激发出来,内层电子的能级受分子环境的影响很小。 同一原子的内层电子结合能在不同分子中相差很小,故它是特征的。光子入射到固体表面激发出光电子,利用能量分析器对光电子进行分析的实验技术称为光电子能谱。 X

现代X光电子能谱仪简介

介绍了现代 X 光电子能谱仪的激发源、能量分析器、传输透镜、电子检测器、荷电中和器等主要部件的结构特点。在此基础上介绍了仪器的主要性能指标灵敏度、能量分辨率等,简单介绍了考察一台能谱仪的方法。最后讨论了电子能谱仪发展。 

X射线光电子能谱

X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)技术也被称作用于化学分析的电子能谱(electron spectroscopy for chemical analysis,ESCA).XPS属表面分析法,它可以给出固体样品表面所含的元素种类、化学组成以及有

X射线光电子能谱( XPS)

XPS:X射线光电子能谱分析(XPS, X-ray photoelectron spectroscopy)测试的是物体表面10纳米左右的物质的价态和元素含量,而EDS不能测价态,且测试的深度为几十纳米到几微米,基本上只能定性分析,不好做定量分析表面的元素含量。 原理:用X射线去辐射样品,使

X射线光电子能谱仪的介绍

X-射线光电子能谱仪,是一种表面分析技术,主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线,如Al Ka =1486.6eV,与样品表面相互作用,利用光电效应,激发样品表面发射光电子,利用能量分析器,测量光电子动能(K.E),根据B.E=hv-K.E-W.F,进而得到激发电子的结合能(

X射线光电子能谱仪的介绍

X-射线光电子能谱仪,是一种表面分析技术,主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线,如Al Ka =1486.6eV,与样品表面相互作用,利用光电效应,激发样品表面发射光电子,利用能量分析器,测量光电子动能(K.E),根据B.E=hv-K.E-W.F,进而得到激发电子的结合能(

X射线光电子能谱(XPS)专题

赛默飞X射线光电子能谱(XPS)专题主要包括以下内容:什么是XPS?从材料(包括从金属到聚合物到有机薄膜)的表面1-10nm内收集化学态信息。知识库探察元素特征和XPS分析的信息知识库。MAGCIS(单原子和气体团簇离子源)双离子束单原子和气体团簇深度剖析和样品清洁的双离子源。XPS仪器了解公司XP

X射线光电子能谱应用领域

主要用途:1.表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯.2.维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析(角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式)3.线扫瞄或面扫瞄以得到线或面上的元素或化学态分布.4.成像功能.5.可进行样品的原位处理 AES:1

现代X光电子能谱(XPS)分析技术

现代电子能谱仪有3个主要功能:单色XPS(Mono XPS)、小面积XPS(SAXPS)和成像XPS(iXPS),被认为是光电子能谱仪发展方向。本文介绍这3个功能突出的特点及在材料微分析方面的实际应用。