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另辟蹊径!非线性效应助力TEM厚样品实现高分辨成像

高分辨透射电子显微镜是研究微观结构的有力工具。获得可解释的高分辨像,样品厚度要满足苛刻的要求-弱相位物体近似。可以选择在Scherzer欠焦下观察,但有时不得不在大欠焦下拍摄图像提高图像衬度,比如在冷冻电镜中通常拍摄的离焦量为1-2μm,通过扣除成像过程中的衬度传递函数来获得样品的投影结构。实际中,很难获得如此薄的样品(冷冻电镜中样品厚度通常在100nm左右),此时高分辨成像过程中电子束之间会发生强烈的相互作用。高分辨电子显微像包含线性成像信息、非线性成像信息,而已有的像衬理论通常以线性信息为研究对象,难以满足定量化的要求,因此有必要对非线性信息进行更加深入的研究。 在以往研究中,中国科学院物理研究所/北京凝聚态物理国家实验室(筹)软物质物理实验室常云杰等结合透射交叉系数理论和赝弱相位物体近似理论,获得了衍射图中线性信息和非线性信息的解析表达式,并提出线性、非线性分离的方法。对分离后结果的研究发现,晶体厚度增大后,即使在S......阅读全文

室温非线性霍尔效应

  最新Nature Nanotechnology:室温非线性霍尔效应  几何相位和拓扑之间的紧密联系使得基于霍尔效应的现象已成为现代材料和物理学的主要研究重点之一,这促使了人们对物质拓扑态的探索和许多相应实际应用的开发。在线性响应方式下,霍尔电导率需要通过磁化或外部磁场来打破时间反演对称性。但最近

高分辨透射电镜中非线性效应可应用性的研究

高分辨透射电子显微镜是研究微观结构的有力工具。要获得可解释的高分辨像,样品厚度要满足苛刻的要求-弱相位物体近‍似。在这种情况下可以选择在Scherzer欠焦下观察,但有时不得不在大欠焦下拍摄图像提高图像衬度,比如在冷冻电镜中通常拍摄的离焦量为1-2μm,此时通常通过扣除成像过程中的衬度传递函数来获得

非线性自聚焦效应 RP Fiber Power

首先计算了大模场面积的基模随非线性自聚焦效应的收缩。模式求解中通常会忽略非线性效应。然而,编写数行程序代码,即可设置折射率分布及其非线性的变化,继而重复计算光纤模式,直至出现自洽解。该程序也说明了光束传输的应用,可模拟高功率下光束分布的变化。用户可以采用LP01(低功率)与LP11模式的叠加

科学家观察到室温三阶非线性霍尔效应

   近日,南洋理工大学教授高炜博和新加坡科技设计大学教授杨声远课题组在II型外尔(Weyl)半金属TaIrTe4(碲化铱铊)中观察到了显著的室温三阶非线性霍尔效应,为其在新型量子材料中的应用提供了可能。相关成果发表在《国家科学评论》(NSR)上。  霍尔效应一直是凝聚态物理研究的一个主流方向。近年

另辟蹊径!非线性效应助力TEM厚样品实现高分辨成像

  高分辨透射电子显微镜是研究微观结构的有力工具。获得可解释的高分辨像,样品厚度要满足苛刻的要求-弱相位物体近似。可以选择在Scherzer欠焦下观察,但有时不得不在大欠焦下拍摄图像提高图像衬度,比如在冷冻电镜中通常拍摄的离焦量为1-2μm,通过扣除成像过程中的衬度传递函数来获得样品的投影结构。实际

科学家在集成光子芯片上实现人工合成非线性效应

  中国科学技术大学郭光灿院士团队在集成光子芯片量子器件的研究中取得新进展。该团队邹长铃、李明研究组提出人工合成光学非线性过程的通用方法,在集成芯片微腔中实验观测到高效率的合成高阶非线性过程,并展示了其在跨波段量子纠缠光源中的应用潜力。相关成果10月20日在线发表于《自然—通讯》。  自激光问世以来

复旦大学制备首个石墨烯三阶非线性效应电光器件

  复旦大学吴施伟课题组实现了石墨烯中三阶非线性效应的电学调控并揭示了其机理。近日,该成果以长文形式在线发表于《自然—光子学》杂志。图片来源网络   石墨烯具有强烈的三阶非线性效应。这使其在微纳光子学、激光产业、生物成像等领域具有巨大的应用潜力。然而,过去的实验报道无法对石墨烯三阶非线性系数形成统一

复旦大学制备首个石墨烯三阶非线性效应电光器件

复旦大学吴施伟课题组实现了石墨烯中三阶非线性效应的电学调控并揭示了其机理。近日,该成果以长文形式在线发表于《自然—光子学》杂志。 石墨烯具有强烈的三阶非线性效应。这使其在微纳光子学、激光产业、生物成像等领域具有巨大的应用潜力。然而,过去的实验报道无法对石墨烯三阶非线性系数形成统一的观点,不同实验

复旦大学制备首个石墨烯三阶非线性效应电光器件

复旦大学吴施伟课题组实现了石墨烯中三阶非线性效应的电学调控并揭示了其机理。近日,该成果以长文形式在线发表于《自然—光子学》杂志。石墨烯具有强烈的三阶非线性效应。这使其在微纳光子学、激光产业、生物成像等领域具有巨大的应用潜力。然而,过去的实验报道无法对石墨烯三阶非线性系数形成统一的观点,不同实验结果甚

物理所电子显微学图像像衬理论研究获进展

  透射电镜高分辨成像是材料等研究领域的重要分析手段,然而高分辨像像衬度(简称像衬)与晶体结构之间的关系并不是显而易见的:像衬除了会受成像条件(如欠焦量)的影响,还随着样品厚度的变化而变化,像差校正电镜中尤其严重。所以为了解释高分辨像衬需要理解成像条件和样品厚度对像衬的影响。  从物理过程上讲,透射