X射线荧光光谱分析概述
X射线荧光光谱分析（X Ray Fluorescence，XRF）是固体物质成分分析的常规检测手段，也是一种重要的表面/表层分析方法。由于整体技术和分光晶体研制发展所限，早期的X射线荧光光谱仪检测范围较窄，灵敏度较差。随着测角仪、计数器、光谱室温度稳定等新技术的进步，使现代X射线荧光光谱仪的测量精密度与准确度有了较大改善。特别是人工合成多层膜晶体的开发应用使轻元素铍、硼、碳、氮、氧等的X射线荧光光谱分析分析成为可能，这类晶体是由低原子序数和高原子序数物质以纳米级厚度交替叠积而成，其层间厚度可以人工控制，如OVO－B晶体的间距为20纳米，适用于硼和铍的分析。由于X射线管的功率增大，铍窗减薄，X射线管与样品的距离缩短，为轻元素分析配备了超粗准直器，降低了元素的检出限，技术发展使现代X射线荧光光谱仪的检测范围可达到4Be(铍)～92U(铀)，对元素的检测范围为10-6%~100%。......阅读全文
X射线荧光光谱原理
X射线荧光光谱分析在20世纪80年代初已是一种成熟的分析方法，是实验室、现场分析主、次量和痕量元素的方法之一。 X射线荧光光谱仪（XRF）是利用原级X射线或其他光子源激发待测物质中的原子，使之产生荧光（次级X射线），从而进行物质成分分析的仪器。X射线荧光光谱仪又称XRF光谱仪，有波长色散型和能
x射线衍射、x荧光、直读光谱区别
1、X射线衍射仪是利用衍射原理,精确测定物质的晶体结构,织构及应力,精确的进行物相分析,定性分析,定量分析.广泛应用于冶金,石油,化工,科研,航空航天,教学,材料生产等领域. X射线衍射仪是利用X射线衍射原理研究物质内部微观结构的一种大型分析仪器,广泛应用于各大、专院校,科研院所及厂矿企业. 基
X射线荧光光谱和荧光光谱－区别
一、理论上。荧光光谱是比较宽的概念，包括了X射线荧光光谱。二、从仪器分析上，荧光光谱分析可以分为：X射线荧光光谱分析、原子荧光光谱分析，1）X射线荧光光谱分析——发射源是Rh靶X光管2）原子荧光光谱分析——可用连续光源或锐线光源。常用的连续光源是氙弧灯，常用的锐线光源是高强度空心阴极灯、无极放电灯、
什么是X射线荧光光谱
X射线荧光光谱(XRF)：X射线荧光光谱按 分 离 特 征 谱 线 的 方 法 分 为 波 长 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）两种。WD－XRF与ED－XRF的区别在于前者是用分光晶体将荧光光束进行色散，而后者则是借助高分辨率敏感半导体检测器与多道分析器将所得信号按
X射线荧光光谱法
方法提要用Li2B2O7和NaBO2混合溶剂，将钨精矿粉和纯WO3作高倍稀释熔融制成玻璃片，按WLα分析线X射线荧光光谱仪测定其强度值，换算成相对强度即可得出试样中三氧化钨的含量。此法适用于钨精矿中w(WO3)为0.5%～80%的试样。仪器波长色散X射线荧光光谱仪器仪，铑靶X光管(≥3kW)。高温熔
X射线荧光光谱的概念
X射线荧光光谱(XRF)：X射线荧光光谱按 分 离 特 征 谱 线 的 方 法 分 为 波 长 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）两种。WD－XRF与ED－XRF的区别在于前者是用分光晶体将荧光光束进行色散，而后者则是借助高分辨率敏感半导体检测器与多道分析器将所得信号按
X－射线荧光光谱仪
用X射线照射试样时，试样可以被激发出各种波长的荧光X射线，需要把混合的X射线按波长（或能量）分开，分别测量不同波长（或能量）的X射线的强度，以进行定性和定量分析，为此使用的仪器叫X射线荧光光谱仪。由于X光具有一定波长，同时又有一定能量，因此，X射线荧光光谱仪有两种基本类型：波长色散型和能量色散型。图
X射线荧光光谱法
方法提要用Li2B2O7和NaBO2混合溶剂，将钨精矿粉和纯WO3作高倍稀释熔融制成玻璃片，按WLα分析线X射线荧光光谱仪测定其强度值，换算成相对强度即可得出试样中三氧化钨的含量。此法适用于钨精矿中w(WO3)为0.5%～80%的试样。仪器波长色散X射线荧光光谱仪器仪，铑靶X光管(≥3kW)。高温熔
X射线荧光光谱仪X射线的衍射介绍
相干散射与干涉现象相互作用的结果可产生X射线的衍射。X射线衍射与晶格排列密切相关，可用于研究物质的结构。 其中一种用已知波长λ的X射线来照射晶体样品，测量衍射线的角度与强度，从而推断样品的结构，这就是X射线衍射结构分析（XRD）。 另一种是让样品中发射出来的特征X射线照射晶面间距d已知的晶体
X射线荧光光谱仪X射线光管结构
常规X射线光管主要采用端窗和侧窗两种设计。普通X射线光管一般由真空玻璃管、阴极灯丝、阳极靶、铍窗以及聚焦栅极组成，并利用高压电缆与高压发生器相接，同时高功率光管还需要配有冷却系统。侧窗和端窗X射线光管结构如图6和图7所示。 当电流流经X射线光管灯丝线圈时，引起阴极灯丝发热发光，并向四周发射电子
X射线荧光光谱仪X射线吸收的介绍
当X射线穿过物质时，一方面受散射作用偏离原来的传播方向，另一方面还会经受光电吸收。光电吸收效应会产生X射线荧光和俄歇吸收，散射则包含了弹性和非弹性散射作用过程。 当一单色X射线穿过均匀物体时，其初始强度将由I0衰减至出射强度Ix，X射线的衰减符合指数衰减定律： 式中，μ为质量衰减系数；ρ为样
X射线荧光光谱仪X射线散射的介绍
除光电吸收外，入射光子还可与原子碰撞，在各个方向上发生散射。散射作用分为两种，即相干散射和非相干散射。 相干散射：当X射线照射到样品上时，X射线便与样品中的原子相互作用，带电的电子和原子核就跟随着X射线电磁波的周期变化的电磁场而振动。因原子核的质量比电子大得多，原子核的振动可忽略不计，主要是原
概述X射线荧光光谱仪X射线的产生
根据经典电磁理论，运动的带电粒子的运动速度发生改变时会向外辐射电磁波。实验室中常用的X射线源便是利用这一原理产生的：利用被高压加速的电子轰击金属靶，电子被金属靶所减速，便向外辐射X射线。这些X射线中既包含了连续谱线，也包括了特征谱线。 1、连续谱线 连续光谱是由高能的带电粒子撞击金属靶面时受
X射线荧光光谱仪和X射线荧光能谱仪特点对比
X射线荧光光谱仪和X射线荧光能谱仪各有优缺点。前者分辨率高，对轻、重元素测定的适应性广。对高低含量的元素测定灵敏度均能满足要求。后者的X射线探测的几何效率可提高2～3数量级，灵敏度高。可以对能量范围很宽的X射线同时进行能量分辨(定性分析)和定量测定。对于能量小于2万电子伏特左右的能谱的分辨率差。
简述x射线荧光光谱测厚仪特色
1.可测量0.01um-300um的镀层。 2.可做各种镀层（多层、合金、多层鎳）的精密测量。 3.除平板形外，还可测量圆形、棒形（细线）等各种形状。 4.可制作非破坏性膜厚仪的标准板。 5.该电镀膜厚检测仪可检查非破坏式膜厚仪的测量精度。 6.可高精度测量其他方式不易测量的三层以上的
X射线荧光光谱仪优点
X射线荧光光谱仪优点：1)可在一台仪器上可实现扫描式X射线波长色散分析、X射线能量色散分析、X-射线聚焦微小区域分析、游离氧化钙X射线衍射分析。2)波长色散通道（波谱核）和能量色散通道（能谱核）可同时分别得到Be- Am 和Na-Am 所有元素的光谱数据和定量分析结果。3)软件可以得到上述各种分析技
X射线荧光光谱分析
XRF的原理：X射线是电磁波谱中的某特定波长范围内的电磁波，其特性通常用能量（单位：千电子伏特，keV）和波长（单位：nm）描述。X射线荧光是原子内产生变化所致的现象。一个稳定的原子结构由原子核及核外电子组成。其核外电子都以各自特有的能量在各自的固定轨道上运行，内层电子（如K层）在足够能量的X射线照
x射线荧光光谱仪简介
x射线荧光光谱仪提供了一种最简单，最准确，最经济的分析方法，可用于确定多种类型材料的化学成分。它是无损且可靠的，不需要或只需很少的样品制备，适用于固体，液体和粉末状样品。它可以用于从钠到铀的多种元素，并提供亚ppm级以下的检测限；它也可以轻松，同时地测量高达100％的浓度。
X－射线荧光光谱分析
本文评述了我国在2005年至2006年X射线荧光光谱,包括粒子激发的X射线光谱的发展和应用,内容包括仪器研制、激发源、探测器、软件、仪器改造、仪器维护和维修、样品制备技术、分析方法研究和应用。 更多还原
X射线荧光光谱分析
X射线荧光的激发源使用X射线而不使用电子束，因为使用X射线避免了样品过热的问题。几乎所有的商品X射线荧光光谱仪均采用封闭的X射线管作为初始激发光源。某些较简单的系统可能使用放射性同位素源，而电子激发一般不单独使用在X射线荧光光谱仪中，它仅限于在电子显微镜中X射线荧光分析中使用。X射线荧光谱仪具有快速
X射线荧光光谱法优点
X射线荧光光谱法-----原级X射线发射光谱法首先，与原级X射线发射光谱法比,不存在连续X射线光谱，以散射线为主构成的本底强度小,谱峰与本底的对比度和分析灵敏度显著提高，操作简便，适合于多种类型的固态和液态物质的测定，并易于实现分析过程的自动化。样品在激发过程中不受破坏，强度测量的再现性好，以及便于
X射线荧光光谱分析
X射线荧光的激发源使用X射线而不使用电子束，因为使用X射线避免了样品过热的问题。几乎所有的商品X射线荧光光谱仪均采用封闭的X射线管作为初始激发光源。某些较简单的系统可能使用放射性同位素源，而电子激发一般不单独使用在X射线荧光光谱仪中，它仅限于在电子显微镜中X射线荧光分析中使用。X射线荧光谱仪具有快速
X射线荧光光谱仪结构
该系统由X射线发生器、光谱仪主体部分、电气部分及系统控制器、计算机部分组成。3.1 X射线发生器 X射线发生器由高压变压器及管流管压控制单元、X射线管、热交换器。 3.1.1高压变压器及管流管压控制单元 产生高稳定的高压加到X射线管上用以产生X射线。这里利用高电压加速的高速电子轰击X射线管金属靶面产
X射线荧光光谱仪(XRF)
原理：用一束X射线或低能光线照射样品材料，致使样品发射二次特征X射线，也叫X射线荧光。这些X射线荧光的能量或波长是特征的，样品中元素的浓度直接决定射线的强度。从而根据特征能量线鉴别元素的种类，根据谱线强度来进行定量分析。XRF有波长散射型(WDXRF)和能量散射型(EDXRF)两种，前者测量精密度好
X射线荧光光谱分析
X射线荧光的激发源使用X射线而不使用电子束，因为使用X射线避免了样品过热的问题。几乎所有的商品X射线荧光光谱仪均采用封闭的X射线管作为初始激发光源。某些较简单的系统可能使用放射性同位素源，而电子激发一般不单独使用在X射线荧光光谱仪中，它仅限于在电子显微镜中X射线荧光分析中使用。X射线荧光谱仪具有快速
X射线荧光光谱技术的原理
所有XRF仪器都拥有两个主要成分，一个是X射线源，一般采用X射线管，另一个则是探头。X射线源会发出初级X射线到样品表面，有时会通过滤光器对X射线束进行调整。在光束击打样品原子时，会产生次级X射线，这些次级X射线会被探头收集并处理。 比较稳定的原子是由原子核及绕核旋转的电子构成，电子按照能量层级
X射线荧光光谱法优点
X射线荧光光谱法-----原级X射线发射光谱法首先，与原级X射线发射光谱法比,不存在连续X射线光谱，以散射线为主构成的本底强度小,谱峰与本底的对比度和分析灵敏度显著提高，操作简便，适合于多种类型的固态和液态物质的测定，并易于实现分析过程的自动化。样品在激发过程中不受破坏，强度测量的再现性好，以及便于
X射线荧光光谱仪简介
X射线荧光光谱仪具有重现性好，测量速度快，灵敏度高的特点。能分析F(9)～U(92)之间所有元素。样品可以是固体、粉末、熔融片，液体等，分析对象适用于炼钢、有色金属、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行业样品。无标半定量方法可以对各种形状样品定性分析，并能给出半定量结果，结果准确度对某些样品可以接近定量水
关于X射线荧光光谱的介绍
X射线荧光光谱(XRF, X Ray Fluorescence)是通常把X射线照射在物质上而产生的次级X射线叫X射线荧光(X-Ray Fluorescence)，受激发的样品中的每一种元素会放射出X射线荧光，并且不同的元素所放射出的X射线荧光具有特定的能量特性或波长特性。探测系统测量这些放射出来
X射线荧光光谱仪概述
X射线荧光光谱仪具有重现性好，测量速度快，灵敏度高的特点。能分析B(5)～U(92)之间所有元素。样品可以是固体、粉末、熔融片，液体等，分析对象适用于炼钢、有色金属、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行业样品。无标半定量方法可以对各种形状样品定性分析，并能给出半定量结果，结果准确度对某些样品可以接近定量水