芬兰PICOSUN公司将在波士顿举行原子层沉积系统展览
欢迎您参加2011年6月27-29在波士顿举行的芬兰PICOSUN公司的原子层沉积系统展览。具体内容如下： Thanks to our excellent ALD systems, we are happy report profitable 100% growth during the last fiscal year. Please find our newest press release at http://www.picosun.com/news/2011/130611.php Why? Because Picosun provides the world's leading ALD process technology and results, for both R&D and Production applications. Picosun systems provi......阅读全文
其他薄膜沉积设备的薄膜沉积技术分类
薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。对于CVD工艺，这包括原子层沉积（ALD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。PVD沉积技术包括溅射，电子束和热蒸发。CVD工艺包括使用等离子体将源材料与一种或多种挥发性前驱物混合以化学相互作用并使源材料分解。该工艺使用较
中国科大等发现基于单原子层的新型单光子源
中国科学技术大学潘建伟、陆朝阳等与华盛顿大学许晓栋、香港大学姚望合作，在国际上首次在类石墨烯单原子层半导体材料中发现非经典单光子发射，连接了量子光学和二维材料这两个重要领域，打开了一条通往新型光量子器件的道路。该工作于5月5日在线发表在《自然·纳米技术》上。同期的“新闻视角”栏目撰文评论该工作“
原子吸收法测定土壤和沉积物汞的测定的样品处理
样品土壤样品采集和保存参照HJ/T 166—2004执行,沉积物样品采集和保存参照GB 17378.3—2007执行。样品的风干和筛分参照HJ/T 166—2004及GB 17378.5—2007相关部分进行操作,所有样品均应过200目筛。
原子吸收法测定土壤和沉积物汞的测定的分析步骤
分析步骤(一)标准曲线绘制取汞标准贮备液逐级稀释,配置高、低两条校准曲线。低浓度校准曲线:2.50ng、3.75ng、5.00ng、6.25ng、10.00ng、15.00ng、20.00ng、25.00ng、30.00ng、40.00ng;高浓度组50.00ng、75.00ng、100.00ng、
原子吸收法测定土壤和沉积物汞的测定方法干扰因素
千扰及消除(1)在汞污染的环境中操作,仪器的背景值会明显地增加。(2)当一个高浓度汞样品(大于等于400ng)在一个低浓度(小于等于25ng)汞样品前进行分析时,将会产生记忆效应。通常批量分析样品时,先分析低浓度样品,否则在分析高浓度样品后,分析3%硝酸溶液,当其分析结果低于0.10ng时,再进行下
科研人员发现氧掺杂可以引发层间Pt原子的重构
原文地址：http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2023/8/506770.shtm近日，来自西北工业大学和西安交通大学的学者使用具有明确晶体结构和原子厚度的二维 PtTe2 范德华材料作为模型催化剂，观察到适度的煅烧策略可以促进二维晶体 PtTe2 纳米片（c-Pt
二维硒原子层中的力学各向异性被揭示
近日，哈尔滨工业大学航天学院力学学科王超副教授与赫晓东教授采用国际领先的原位力学测量技术，揭示了原子级别厚度硒（Se）二维材料的面内各向异性拉伸力学行为，并首次量化了硒（Se）原子链之间的范德华相互作用强度。该项成果为设计新型多功能二维材料奠定了实验基础。相关论文以“二维硒原子层中的力学各向异性
原子吸收法测定土壤和沉积物汞的测定的注意事项
(1)当更换氧气后,需重新建立校正曲线。(2)校准曲线一般三个月做一次,在此时间内每次分析样品前,应用校准曲线的一个高浓度和一个低浓度的校准溶液进行校准曲线核查,如果相对偏差小于5%,则此校准曲线可以继续使用。否则应重新建立校准曲线。(3)每次分析样品前,需检查样品的空白值。将空白样品或加200μl
原子吸收法测定土壤和沉积物汞的测定所需仪器和设备
仪器和设备实验所用的玻璃器皿均需用(1+1)硝酸溶液浸泡24h后,依次用自来水、蒸馏水洗净。(1)测汞仪:自动测汞仪,具有固体自动进样系统,催化、热分解炉,原子吸收光谱仪,金汞齐吸附装置及数据处理系统。(2)天平:万分之一。
原子吸收法测定土壤和沉积物汞的测定所需试剂和材料
除非另有说明,分析时均使用符合国家标准的分析纯试剂和蒸馏水。(1)高纯氧气(O2):纯度要求99.999%以上在气源与测汞仪器之间安装一个网孔过滤器,以防止汞蒸气污染。(2)重铬酸钾(K2Cr2O7):优级纯。(3)硝酸(HNO3):ρ=1.42g/ml。(4)氯化汞(HgCl2):分析纯,在硅胶(
原子吸收法测定土壤和沉积物汞的测定方法适用范围
适用范围本节规定了测定土壤、沉积物中汞的催化热解-原子吸收方法。此方法适用于土壤、沉积物中汞的测定。当取样量为1.000g时,本方法检出限为2x10-5mg/kg,测定下限为8×10-5mg/kg,测定范围为8×10-5~0.6mg/kg。
物理气相沉积和化学气相沉积的对比
化学气相沉积过程中有化学反应，多种材料相互反应，生成新的的材料。 物理气相沉积中没有化学反应，材料只是形态有改变。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。缺点膜一基结合力弱,镀膜不耐磨, 并有方 向性 化学杂质难以去除。优点可造金属膜、非
LB膜沉积过程
工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层
原子吸收法测定土壤和沉积物汞的测定的结果计算与表示
(一)结果计算测得未知样品分析元素的吸光值,由计算机软件计算元素含量并自动打印出分析结果,再进行吸附水系数校正,即为样品中汞含量。样品中总汞的含量c(Hg,mg/kg)按公式进行计算:c=m/[w(1-f)] (二)结果表示计算结果保留三位有效数字。精密度和准确度五家实验室对土壤、沉积物中汞三
研究人员实现精准调控单原子的第二壳层配位数
近日，中国科学技术大学教授曾杰团队研究发现，氧化镍负载的铱单原子催化剂在阳极水氧化反应中的活性与铱单原子的第二壳层铱-氧-镍配位数呈火山型曲线关系，第二壳层配位数适中的单原子催化剂表现出最优异的活性。相关成果日前发表于《德国应用化学》。精准构建单原子催化剂金属中心原子的配位环境对阐明单原子催化剂结构
研究人员实现精准调控单原子的第二壳层配位数
近日，中国科学技术大学教授曾杰团队研究发现，氧化镍负载的铱单原子催化剂在阳极水氧化反应中的活性与铱单原子的第二壳层铱-氧-镍配位数呈火山型曲线关系，第二壳层配位数适中的单原子催化剂表现出最优异的活性。相关成果日前发表于《德国应用化学》。精准构建单原子催化剂金属中心原子的配位环境对阐明单原子催化剂结构
清华大学单原子层纳米金属材料研制成功
近日，在北京市科委支持下，清华大学李亚栋院士团队在世界上首次成功制备出单原子层纳米铑片，相关成果发表在国际权威学术期刊《自然-通讯》上。 自石墨烯发现以来，科学界对含离域大P键的单层材料的研究集中在具有层状结构相关材料体系方面。由于金属键无方向性而易于形成三维的紧密堆积结构，迄今为止具有离
上海光机所在紫外减反射激光薄膜研究中取得进展
近日，中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室在基于低温等离子体增强原子层沉积的紫外减反射激光薄膜研究中取得新进展，初步实现了紫外减反射薄膜的损伤阈值提升。相关研究成果已发表在Journal of Alloys and Compounds上。 原子层沉积技术具有精确的厚度可控性、高均匀性
原子级工艺实现纳米级图形结构的要求（二）
原子层刻蚀有助于减少这些随机缺陷的影响。因为它在自限性步骤中逐层进行，而且因为工艺步骤将化学活性物质与高能离子相分离，因此原子层刻蚀不会产生传统的刻蚀工艺中出现的粗糙的镶边层。更重要的是，原子层刻蚀与原子层沉积的重复循环，能够降低EUV中随机缺陷引起的粗糙度。凹凸表面比平面具有较高的表面体积比，这就
美研究发现添加人造边缘可让二硫化钼原子层整齐生长
据物理学家组织网近日报道，美国莱斯大学和橡树岭国家实验室(ORNL)的科学家合作开发出一种新方法，可以控制二硫化钼(MDS)原子层整齐一致地生长，借此朝制造二维电子设备前进了一步。相关研究发表在本周出版的《自然·材料学》杂志上。 半导体二硫化钼是制造功能性二维电子元件所需的三种材料中的一种
微机胶质层和普通胶质层的区别
一,普通胶质层控制器只是控制炉体的升温速度二.微机胶质层（1）电脑与控制器双向通讯对控制设备实行全面监控。（2）自动测定、显示单炉或双炉的煤样的最终收缩度X。（3）电脑自动绘制单炉或双炉的体积曲线。而普通胶质层在毫米方格纸上画体积曲线，这就存在记录笔和转钟有时接触不好体积曲线出现断断续续。（4）在体
原子级工艺实现纳米级图形结构的要求（一）
原子层刻蚀和沉积工艺利用自限性反应，提供原子级控制。泛林集团先进技术发展事业部公司副总裁潘阳博士分享了他对这个话题的看法。图 1． 原子层工艺中的所有半周期反应是自限性反应。技术节点的每次进步都要求对制造工艺变化进行更严格的控制。最先进的工艺现在可以达到仅7 nm的fin宽度，比30个硅原子
激光脉冲沉积（PLD)简介
脉冲激光沉积 （Pulsed laser deposition），就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用最为广泛，可用来制备金属、
沉积物的形成
1. 沉积物的来源构成沉积岩的物质从成因上大致可分为两类。1) 他生 (allogenic) 物质: 一是存在于暴露在地表的既存岩石 (岩浆岩、变质岩、古老的沉积岩) 中的矿物，或矿物集合体 (即岩屑) ，脱离母岩 (provenance) 后作为固体颗粒被流动介质 (如水、空气、冰川等) 搬运到沉
电镀铬层
电镀铬层：在100-200倍的显微镜下观察，电镀铬呈现互相联通、纵横交叉的网状裂纹，这些裂纹不但能够贮油、润滑、减摩，而且能提高镀层硬度，微裂纹电镀铬工艺已在轿车减振器中应用，获得良好效果。但是，用金相显微镜观察失效模具的表面，发现镀铬层局部表面存在网状裂纹，形成的主裂缝沿着原始网状裂纹而扩展。这是
物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别
物理气相沉积法可以看作是物理过程，实现物质的转移，最终沉积到靶材上面。化学气相沉积法是在一定条件下通过化学反应，形成所需物质沉积在靶材或者基材表面。
物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别
物理气相沉积法与化学气相沉积法有3点不同，相关介绍具体如下：一、两者的特点不同：1、物理气相沉积法的特点：物理气相沉积法的沉积粒子能量可调节，反应活性高。通过等离子体或离子束介人，可以获得所需的沉积粒子能量进行镀膜，提高膜层质量。通过等离子体的非平衡过程提高反应活性。2、化学气相沉积法的特点：能得到
物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别
物理气相沉积法与化学气相沉积法有3点不同，相关介绍具体如下：一、两者的特点不同：1、物理气相沉积法的特点：物理气相沉积法的沉积粒子能量可调节，反应活性高。通过等离子体或离子束介人，可以获得所需的沉积粒子能量进行镀膜，提高膜层质量。通过等离子体的非平衡过程提高反应活性。2、化学气相沉积法的特点：能得到
物理气相沉积和化学气相沉积的区别及优缺点
化学气相沉积过程中有化学反应，多种材料相互反应，生成新的的材料。物理气相沉积中没有化学反应，材料只是形态有改变。物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。缺点膜一基结合力弱,镀膜不耐磨, 并有方 向性化学杂质难以去除。优点可造金属膜、非金属膜,又可按要
中国科大基于原子精度壳层设计取得光解水制氢新进展
太阳能被认为是21世纪最清洁的能源，而光解水制氢是一种可以直接将太阳辐射能转化为氢能的途径，是极具发展潜力的新能源技术。助催化剂可以促进光生电荷分离和提供反应活性位点的作用，已广泛应用于光催化领域中。尽管贵金属铂材料早已证实是一类优异的光解水制氢助催化剂，然而其高成本促使人们一直在寻找降低铂用量