X荧光光谱仪分析技术误区

不管任何分析仪器,分析技术是获得正确结果的保证。分析技术贯穿于仪器应用的全过程。分析方法的选择必须满足仪器应用的需要。 误区1:标样制备太麻烦,最好用无标样法。 X荧光光谱仪分析法和其它大部分分析仪器一样,是相对分析法。在X荧光光谱仪分析中,测得的X射线强度与相应元素浓度的对应关系完全是建立在标准样品的基础之上的,必须制备足够数量的标准样品,标样的质量直接决定了分析结果的可靠性。基本参数法等无标样分析法一般是用于完全未知样品的初步分析的,所谓无标样也只是不需要系列标准样而已。只要得出数据,就得有一套相对的标准数据,所以,要更好的使X荧光光谱仪,得出更准确的分析结果,高质量的标准样品是不可缺少的。 误区2:标准样品可以购买别人的。 很多人认为,标准样品自己制备不好,还是买别人的好,其实,事实不是这样,这是因为由于每个用户的原料情况、配比是各不相同的,而对于X荧光光谱仪分析而言,标准样与被测未知样越相似,测定结果越好,因此为了取得好......阅读全文

X荧光光谱仪测试方法

   1、 X荧光光谱仪样品制备  进行x射线荧光光谱分析的样品,可以是固态,也可以是水溶液。无论什么样品,样品制备的情况对测定误差影响很大。对金属样品要注意成份偏析产生的误筹;化学组成相同,热处理过程不同的样品,得到的计数率也不同;成份不均匀的金属试样要重熔,快速冷却后车成圆片;对表面不平的样品要

X荧光光谱仪制样要求

 X荧光光谱仪主要用途  x荧光光谱仪根据各元素的特征X射线的强度,也可以获得各元素的含量信息。  近年来,X荧光光谱分析在各行业应用范围不断拓展,已成为一种广泛应用于冶金、地质、有色、建材、商检、环保、卫生等各个领域,特别是在RoHS检测领域应用得zui多也zui广泛。  大多数分析元素均可用其进

X射线荧光光谱仪(XRF)

  自1895年伦琴发现X射线以来,X射线及相关技术的研究和应用取得了丰硕成果。其中,1910年特征X射线光谱的发现,为X射线光谱学的建立奠定了基础;20世纪50年代商用X射线发射与荧光光谱仪的问世,使得X射线光谱学技术进入了实用阶段;60年代能量色散型X射线光谱仪的出现,促进了X射线光谱学仪器的迅

X射线荧光光谱仪原理

X射线荧光光谱仪原理       X射线荧光光谱仪主要由激发源(X射线管)和探测系统构成。其原理就是:X射线管通过产生入射X射线(一次X射线),来激发被测样品。 受激发的样品中的每一种元素会放射出二次X射线(又叫X荧光),并且不同的元素所放射出的二次X射线具有特定的能量特性或波长特性。探测系统测量这

色散X荧光光谱仪原理

当能量高于原子内层电子结合能的高能X射线与原子发生碰撞时,驱逐一个内层电子而出现一个空穴,使整个原子体系处于不稳定的激发态,激发态原子寿命约为 (10)-12-(10)-14s,然后自发地由能量高的状态跃迁到能量低的状态.这个过程称为驰过程.驰豫过程既可以是非辐射跃迁,也可以是辐射跃迁.当较外层的电

X射线荧光光谱仪(XRF)

原理:用一束X射线或低能光线照射样品材料,致使样品发射二次特征X射线,也叫X射线荧光。这些X射线荧光的能量或波长是特征的,样品中元素的浓度直接决定射线的强度。从而根据特征能量线鉴别元素的种类,根据谱线强度来进行定量分析。XRF有波长散射型(WDXRF)和能量散射型(EDXRF)两种,前者测量精密度好

X射线荧光光谱仪概述

  X射线荧光光谱仪具有重现性好,测量速度快,灵敏度高的特点。能分析B(5)~U(92)之间所有元素。样品可以是固体、粉末、熔融片,液体等,分析对象适用于炼钢、有色金属、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行业样品。无标半定量方法可以对各种形状样品定性分析,并能给出半定量结果,结果准确度对某些样品可以接近定量水

X荧光光谱仪工作原理

X荧光光谱仪主要由激发源(X射线管)和探测系统构成。其原理就是:X射线管通过产生入射X射线(一次X射线),来激发被测样品。  受激发的样品中的每一种元素会放射出二次X射线(又叫X荧光),并且不同的元素所放射出的二次X射线具有特定的能量特性或波长特性。探测系统测量这些放射出来的二次X射线的能量及数量或

单波长色散X射线荧光光谱仪技术指标

  符合ASTM 7039,GB/T 11140和SH/T 0842标准要求,硫重复性0.8 ppm (2ppm), 1.8 ppm (10ppm), 12.4 ppm (500ppm); 检测范围0.15ppm至3000ppm, 样品杯容积4mL,分析时间30至300秒;即插即用,样品准备快速,无

手持X射线荧光光谱仪的主要技术指标

  1. 超高的检测精度精确度高。  2. 超高的稳定性,超高的重复性。  3. 优异的线性相关性。  4. 采用了完全重新设计的射线管、无高压电源线、无 RF 噪音、更好的X射线屏蔽。  5. 结构更精密,缩短了射线管、探测器与被测样品之间的距离,对于某些应用信号提高了~40%.  6. 新的滤波

X射线荧光光谱仪和X射线荧光能谱仪特点对比

X射线荧光光谱仪和X射线荧光能谱仪各有优缺点。前者分辨率高,对轻、重元素测定的适应性广。对高低含量的元素测定灵敏度均能满足要求。后者的X射线探测的几何效率可提高2~3数量级,灵敏度高。可以对能量范围很宽的X射线同时进行能量分辨(定性分析)和定量测定。对于能量小于2万电子伏特左右的能谱的分辨率差。

X射线荧光光谱仪的全反射荧光

  如果n1>n2,则介质1相对于介质2为光密介质,介质2相对于介质1为光疏介质。对于X射线,一般固体与空气相比都是光疏介质。所以,如果介质1是空气,那么α1>α2,即折射线会偏向界面。如果α1足够小,并使α2=0,此时的掠射角α1称为临界角α临界。当α1

X射线荧光光谱仪真空泵的故障分析

  将真空泵与光谱室和样品室的接口拆下并用橡皮塞堵住,然后抽真空,如果能在几秒钟内抽到规定值,可以排除真空泵出现故障的可能性。如果能抽到规定值但时间较长,可能是真空泵的效率降低,这种情况一般发生在经常分析压片样品和油品的仪器上,粉末或油被吸到真空泵油中,改变了油的粘度,这时需更换真空泵油。

日立X射线荧光光谱仪影响分析速度的因素

X-射线荧光光谱:作为一种比较分析技术,在较严格的条件下用一束X射线或低能光线照射样品材料,致使样品发射特征X射线。这些特征X射线的能量对应于各特定元素,样品中元素的浓度直接决定射线的强度。该发射特征X射线的过程称为X射线荧光或XRF. X射线荧光光谱仪有两种基本类型:波长色散型(WD-XRF)和能

X射线荧光光谱仪定量分析方法简介

  X射线荧光光谱法是一种相对分析方法,光谱仪只提供X射线荧光的强度,要找到荧光强度与样品浓度的关系,需要一套高质量的标准样品,根据元素的浓度和已测的该元素的特征谱线的强度按一定关系进行拟合绘制工作曲线,以该工作曲线为基础测试同类型样品元素的组成和含量。

X射线荧光光谱仪高压发生器故障分析

  高压发生器和X射线光管是仪器内最贵重的部件,一般不会出问题。检查高压发生器,可将高压发生器打开,根据电路图,检查各个开关是否在正常位置,看一下保险丝有没有熔断,再进一步的检查最好由专业维修工程师来做。X射线光管是个封闭的部件,一旦损坏,只能更换,不能修理。检查X射线光管,可检查X射线光管与高压电

日立X射线荧光光谱仪影响分析速度的因素

X-射线荧光光谱:作为一种比较分析技术,在较严格的条件下用一束X射线或低能光线照射样品材料,致使样品发射特征X射线。这些特征X射线的能量对应于各特定元素,样品中元素的浓度直接决定射线的强度。该发射特征X射线的过程称为X射线荧光或XRF. X射线荧光光谱仪有两种基本类型:波长色散型(WD-XRF)和能

波长色散X射线荧光光谱仪快速定量元素分析

低原子序数性能、Mapping分析和多点分析 提供的性能和灵活性用来分析复杂样品,结合了较为先进的Mapping分析包来检测均质性和夹杂物,ZSX Primus中具有一个30μm的X射线管(工业中薄端窗的X射线管),用于特殊轻元素(低原子序数)检出限。ZSX Primus简单地提供了其他分析方法无法

影响X荧光光谱仪的测量结果的因素分析

1、由样品制备和样品自身引起的误差:  (1)样品的均匀性。  (2)样品的表面效应。  (3)粉末样品的粒度和处理方法。  (4)样品中存在的谱线干扰。  (5)样品本身的共存元素影响即基体效应。  (6)样品的性质。  (7)标准样品的化学值的准确性。  2、引起样品误差的原因:  (1)样品物

x荧光光谱仪的分析对象主要有哪些

    X荧光光谱仪是由X射线制作,元素的原子受到高能辐射激发而引起内层电子的跃迁,同时发射出具有一定特殊性波长的X射线,根据莫斯莱定律,荧光X射线的波长λ与元素的原子序数Z有关,其数学关系如下:λ=K(Z-s)-2   式中K和S是常数。    主要用途:仪器是较新型X射线荧光光谱仪,具有重现性好

X射线荧光光谱仪X射线吸收的介绍

  当X射线穿过物质时,一方面受散射作用偏离原来的传播方向,另一方面还会经受光电吸收。光电吸收效应会产生X射线荧光和俄歇吸收,散射则包含了弹性和非弹性散射作用过程。  当一单色X射线穿过均匀物体时,其初始强度将由I0衰减至出射强度Ix,X射线的衰减符合指数衰减定律:  式中,μ为质量衰减系数;ρ为样

X射线荧光光谱仪X射线光管结构

  常规X射线光管主要采用端窗和侧窗两种设计。普通X射线光管一般由真空玻璃管、阴极灯丝、阳极靶、铍窗以及聚焦栅极组成,并利用高压电缆与高压发生器相接,同时高功率光管还需要配有冷却系统。侧窗和端窗X射线光管结构如图6和图7所示。  当电流流经X射线光管灯丝线圈时,引起阴极灯丝发热发光,并向四周发射电子

X射线荧光光谱仪X射线的衍射介绍

  相干散射与干涉现象相互作用的结果可产生X射线的衍射。X射线衍射与晶格排列密切相关,可用于研究物质的结构。  其中一种用已知波长λ的X射线来照射晶体样品,测量衍射线的角度与强度,从而推断样品的结构,这就是X射线衍射结构分析(XRD)。  另一种是让样品中发射出来的特征X射线照射晶面间距d已知的晶体

X射线荧光光谱仪X射线散射的介绍

  除光电吸收外,入射光子还可与原子碰撞,在各个方向上发生散射。散射作用分为两种,即相干散射和非相干散射。  相干散射:当X射线照射到样品上时,X射线便与样品中的原子相互作用,带电的电子和原子核就跟随着X射线电磁波的周期变化的电磁场而振动。因原子核的质量比电子大得多,原子核的振动可忽略不计,主要是原

概述X射线荧光光谱仪X射线的产生

  根据经典电磁理论,运动的带电粒子的运动速度发生改变时会向外辐射电磁波。实验室中常用的X射线源便是利用这一原理产生的:利用被高压加速的电子轰击金属靶,电子被金属靶所减速,便向外辐射X射线。这些X射线中既包含了连续谱线,也包括了特征谱线。  1、连续谱线  连续光谱是由高能的带电粒子撞击金属靶面时受

X荧光分析仪的应用及技术原理

  X荧光光谱仪(XRF)由激发源(X射线管)和探测系统构成。X射线管产生入射X射线(一次X射线),激发被测样品,产生X荧光(二次X射线),探测器对X荧光进行检测。   一、XRF在物质成分分析上的应用   XRF应用主要取决于仪器技术和理论方法的发展。X射线荧光分析仪器有三种主要类型:实验室用

X射线荧光分析中的相关技术研究

X射线荧光分析又称X射线次级发射光谱分析,本法系利用原级X射线光子或其它微观粒子激发待测物质中的原子,使之产生次级的特征X射线(X射线荧光)而进行物质成分分析和化学态研究的方法。1948年由H.费里德曼(H.Friedmann)和L.S.伯克斯(L.S.Birks)制成第一台X射线荧光分析仪,至60

X荧光多元素分析仪技术指标

1. 分析范围:CaO、Fe2O3、SiO2、Al2O3、SO3:0.01%~100%;2. 分析宽度:CaO≤7%、Fe2O3≤5%、SiO2≤5%、Al2O3≤7%、SO3≤5%,例如生料中CaO%:38.5%~45.5%,Fe2O3%:0.01%~5.00%,SiO2%:10.00%~15.0

掠射软X射线荧光分析技术研究

掠射X射线分析是近年来迅速发展的一门分析技术,在科学研究以及分析检测和质量控制等生产领域都有着广泛的应用。X射线分析技术具有试样无损分析、制样经济方便、操作简单、分析结果重现性好及精度高等优点,使得这项技术在薄膜特性分析、半导体材料及磁铁材料表面检测方面受到特别的青睐。本文在综述了国内外掠射X射线荧

基于RoHS认证的X荧光分析技术实验研究

RoHS指令(《电气、电子设备中限制使用某些有害物质指令》)规定输往欧洲的电子产品及其组件均需对六种有毒成份:铅(Pb)、汞(Hg)、镉(Cd)、六价铬(Cr6+)、多溴联苯(PBBs)、多溴二苯醚(PBDEs)等有害物质加以限制。近几年该指令已在电子电器、质量检测、环保等相关行业广泛实施应用。在多