光刻机的曝光度

a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；3.真空接触是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）软<硬<真空接触的越紧密，分辨率越高，当然接触的越紧密，掩膜和材料的损伤就越大。缺点：光刻胶污染掩膜板；掩膜板的磨损，容易损坏,寿命很低（只能使用5～25次）；容易累积缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。b.接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻......阅读全文

上海线束线缆加工设备展会｜2024上海国际电子制造设备展览会

2024上海国际电子制造设备展览会时间： 2024年11月18-20日地点：上海新国际博览中心主办：中国电子器材有限公司协办：香港贸易发展局台湾区电机电子工业同业公会　　　韩国电子产业振兴会日本电子展协会中国电子元件行业协会展会背景：电子

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2024上海半导体设备展会时间+地点+门票+参观登记方式

展会名称：2024中国（上海）国际半导体展览会英文名称：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间：2024年11月18-20日论坛时间：2024年11月18-19日展会地点：上海新国际

2024-03-11 16:59 News WIKI 相关搜索

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2025深圳国际电子生产设备展览会时间：2025年4月9日-11日地点：深圳会展中心（福田）指导单位：中华人民共和国工业和信息化部、广东省工业和信息化厅、深圳市工业和信息化局主办单位：中国电子器材有限公司、中电会展与信息传播有限公司执行机构：中电会展与信息传播有限公司参展范围1、电子元件及机电组

2023-11-14 14:55 News WIKI 相关搜索

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上海硅酸盐所碳化硅陶瓷增材制造研究获进展

　　碳化硅（SiC）陶瓷结构件在各类新应用场景的需求逐渐增多。例如，核工业领域的大尺寸复杂形状SiC陶瓷核反应堆芯；集成电路制造关键装备光刻机的SiC陶瓷工件台、导轨、反射镜、陶瓷吸盘、手臂等；新能源锂电池生产配套的中高端精密SiC陶瓷结构件；光伏行业生产用扩散炉配套高端精密SiC陶瓷结构件和电子半

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