集微咨询发布中国半导体去胶设备白皮书

一、产业基本概念光刻胶作为掩膜材料在半导体加工工艺中起到了图形复制和传递的作用,而一旦刻蚀工艺(或者其他工艺)完成,光刻胶的使命也就完成,必须将其完全清除干净,这一工序就是去胶。二、设备分类与产业链情况去胶分为湿法去胶和干法去胶。1.湿法去胶湿法去胶是将带有光刻胶的晶圆片浸泡在适当的有机溶剂中溶解或者分解光刻胶,将晶圆表面的光刻胶去除。在湿法刻蚀前,光刻胶的表面都经过了表面加固处理,这使得光刻胶在大部分去胶液中都不溶解或者很难完全溶解。这种情况下,在进行湿法去胶前还需要用等离子体去掉最上面的一层胶。湿法去胶的主要缺点是去胶周期长,容易引进无机杂质,并且操作麻烦。2.干法去胶干法去胶主要是等离子去胶,通常采用等离子体氧化或分解等方式去除光刻胶。等离子去胶机是广泛应用于去胶的设备。去胶机通过氧原子和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶。光刻胶的基本成分是碳氢聚合物,氧原子可以很快地和光刻胶反应生成一氧化碳、二氧化碳和水等,这些......阅读全文

半导体设备展会|2024上海国际半导体检测设备展览会「上海半导体展」

2024年第二十一届中国国际半导体博览会(IC CHINA)时 间:2024 年 9 月 5 一 7 日地 点:中国·北京 · 北人亦创国际会展中心参展咨询:021-5416 3212大会负责人:李经理 136 5198 3978(同微)作为中国半导体行业协会主办的唯一展览会,自 2003 年起已连

2024第21届北京国际开发印刷电路板/硬件开发与加工设备展览会

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半导体设备展会|2024上海国际半导体扩散设备展览会「上海半导体展」

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【2024中国半导体展】深圳半导体展-半导体设备展览会

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2024第21届北京国际半导体设备及智能装备与加工设备展览会

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碳化硅展会|2024上海国际碳化硅展览会「上海半导体展」

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AI芯片展会|2024上海国际计算机及控制芯片展览会「上海半导体展」

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2024第21届北京国际集成电路应用与加工设备展览会

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AI芯片展会|2024上海国际电源管理芯片展览会「上海半导体展」

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2024第21届北京国际集成电路应用与加工设备展览会

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2024北京半导体材料博览会「参展咨询」「9月57日」

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2024第21届北京国际碳化硅与加工设备展览会

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半导体设备展会|2024上海国际半导体单晶炉展览会「上海半导体展」

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半导体设备展会|2024上海国际半导体热处理设备展览会「上海半导体展」

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AI芯片展会|2024上海国际驱动芯片展览会「上海半导体展」

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2024第21届北京国际特种化学气体与加工设备展览会

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AI芯片展会|2024上海国际交通电子芯片展览会「上海半导体展」

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【2024中国半导体展】北京AI芯片展览会

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中国半导体展|2024北京国际半导体设备展览会(官网)

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半导体设备展会|2024上海国际半导体贴片机展览会「上海半导体展」

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2024第21届北京国际半导体洁净室设备与加工设备展览会

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2024第21届北京国际光刻胶与加工设备展览会

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2024北京封测材料博览会「参展咨询」「9月57日」

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【2024中国半导体展】北京驱动芯片展览会

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碳化硅展会|2024上海国际石英石墨展览会「上海半导体展」

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半导体设备展会|2024上海国际半导体清洗设备展览会「上海半导体展」

2024年第二十一届中国国际半导体博览会(IC CHINA)时 间:2024 年 9 月 5 一 7 日地 点:中国·北京 · 北人亦创国际会展中心参展咨询:021-5416 3212大会负责人:李经理 136 5198 3978(同微)作为中国半导体行业协会主办的唯一展览会,自 2003 年起已连

2024第21届北京国际离子注入设备与加工设备展览会

2024年第二十一届中国国际半导体博览会(IC CHINA)时 间:2024 年 9 月 5 一 7 日地 点:中国·北京 · 北人亦创国际会展中心参展咨询:021-5416 3212大会负责人:李经理 136 5198 3978(同微)作为中国半导体行业协会主办的唯一展览会,自 2003 年起已连

AI芯片展会|2024上海国际AI芯片展览会「上海半导体展」

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碳化硅展会|2024上海国际光刻机展览会「上海半导体展」

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2024第21届北京国际AI芯片与加工设备展览会

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