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光刻机各个结构的作用

测量台、曝光台:承载硅片的工作台,也就是本次所说的双工作台。 光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平行。 能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。 光束形状设置:设置光束为圆型、环型等不同形状,不同的光束状态有不同的光学特性。 遮光器:在不需要曝光的时候,阻止光束照射到硅片。 能量探测器:检测光束最终入射能量是否符合曝光要求,并反馈给能量控制器进行调整。 掩模版:一块在内部刻着线路设计图的玻璃板,贵的要数十万美元。 掩膜台:承载掩模版运动的设备,运动控制精度是nm级的。 物镜:物镜由20多块镜片组成,主要作用是把掩膜版上的电路图按比例缩小,再被激光映射的硅片上,并且物镜还要补偿各种光学误差。技术难度就在于物镜的设计难度大,精度的要求高。 硅片:用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸,尺寸越大,产率越高。题外话,由于硅片是圆的,所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系,......阅读全文

一文读懂半导体制程技术进步的“燃料”——光刻胶

  一文读懂半导体制程技术进步的“燃料”——光刻胶   光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。依据

一文盘点当前微纳加工技术

  微纳加工技术指尺度为亚毫米、微米和纳米量级元件以及由这些元件构成的部件或系统的优化设计、加工、组装、系统集成与应用技术,涉及领域广、多学科交叉融合,其最主要的发展方向是微纳器件与系统(MEMS和NEMS)。微纳器件与系统是在集成电路制作上发展的系列专用技术,研制微型传感器、微型执行器等器件和系统

生物建模的黑科技-快捷精准的定制化细胞微环境制备...

生物建模的黑科技-快捷精准的定制化细胞微环境制备系统(一) Alveole PRIMO 的原理定制细胞模型, 研究微环境对细胞内和细胞间机能的影响是细胞和医学研究的重要方向。 如何制备出具有可控性和重复性的微环境, 以便更有效的研究活细胞和疾病模型, 一直以来都是生物学家进行体外细胞研究所面临的巨大

美开发出热蘸笔纳米光刻技术

  据美国物理学家组织网11月7日报道,美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用,据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能在物质表面构造大小为20纳米的结构。借助这一技术,科学家们能廉价地在多种材料表面构造和种植出纳米结构,用以制造电路和化学传感器,或者研究药物如何依附于蛋白质和病

微流控分析芯片加工技术

微流控分析是以微管道为网络连接微泵、微阀、微储液器、微电极、微检测元件等具有光、电和流体输送功能的元器件,最大限度地把采样、稀释、加试剂、反应、分离、检测等分析功能集成在芯片上的微全分析系统。目前,微流控分析芯片的大小约几个平方厘米,微管道宽度和深度(高度)为微米和亚微米级。微流控分析芯片的加工技术

物理所偏振不敏感的表面等离激元三维聚焦研究获进展

  表面等离激元(surface plasmons)是一种局域在金属和电介质界面处的电磁场模式,能够突破光学衍射极限,将携带的光学信息和能量局域在亚波长尺度。在高端纳米光学应用领域,如高分辩近场光学成像、针尖增强拉曼光谱,光学集成器件、纳米光刻、光学信息存储以及生物传感等领域,通常需要将信号光聚

微流控芯片加工技术解析

  微流控芯片的发展  微全分析系统的概念是在1990年首欠由瑞士Ciba2Geigy公司的Manz与Widmer提出的,当时主要强调了分析系统的“微”与“全”,及微管道网络的MEMS加工方法,而并未明确其外型特征。次年Manz等即在平板微芯片上实现了毛细管电泳与流动。微型全分析系统当前的发展前沿。

微流控芯片的材料和特点

1. 微流控芯片的材料刚性材料——单晶硅、无定性硅、玻璃、石英等;刚性有机聚合物材料如环氧、聚脲、聚氨、聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯等;弹性材料——二甲基硅氧烷( PDMS) 。2. 微流控分析芯片材料的特点有机聚合物芯片材料的基本要求:①材料应易被加工;②有良好的光学透明性;③在分析条件下材料应是惰

中科院,上海科技大学Nature子刊发表新技术

  国内的一组研究人员发表了题为“Nanoscale probing of electron-regulated structural transitions in silk proteins by near-field IR imaging and nano-spectroscopy”的文章,突破

HMDS预处理真空烘箱在半导体行业的应用

一、预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,而涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺显得更为必要,尤其在所刻线条比较细的时候,任何一个环节出现一点纰漏,都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,如果在晶

给我哈利·波特的隐身衣 探秘超材料的奇异世界

从金和硅中蚀刻出来的元件使得超材料结构可以迅速改变其传播和反射光的能力。图片来源:《自然》   拥有奇异光学特质的工程学结构已经走出实验室,开始进入市场。   如果物理学家Tom Driscoll没有再次听到“哈利·波特的隐身衣”这样的形容,他将十分开心。但他知道这无法避免。舆论界在报道超材

德国Andreas Erdmann教授承担的项目通过同行评议

德国Andreas Erdmann教授承担的“中国科学院外国专家特聘研究员”项目通过同行评议   4月14日,中科院上海光学精密机械研究所中科院强激光材料重点实验室组织专家对德国Fraunhofer IISB教授Andreas Erdmann承担的“中国科学院外国专家特聘研究员”项目(编号:2

热扫描探针光刻技术消除二维半导体材料

   二维半导体材料,比如二硫化钼(MoS2),表现出了诸多新奇的特性,从而使其具有应用于新型电子器件领域的潜力。目前,研究人员常用电子束光刻的方法,在此类仅若干原子层厚的材料表面定域制备图形化电极,从而研究其电学特性。然而,采用此类方法常遇到的问题之一是二维半导体材料与金属电极

扫描探针纳米加工技术的现状与发展趋势

      在资讯高度发达的今天,信息呈爆炸式增长。对如此众多的信息怎样实现检测、转换、传输、存储和处理成为人们关注的重要问题。在过去的五十年里,晶体管的特征尺寸已按Moore定律由1cm降低到目前的近0.1μm,如今最新型的微处理器集成了4000多万个晶体管,到201

宁波材料所3D微打印技术应用取得新进展

  三维微机电系统(MEMS)具有体积小、重量轻、能耗低、灵敏度高等特点,在精密机械、生物医疗、国防、航空航天、核工业等领域有广泛的应用。MEMS系统的结构主要包括微型传感器、微型执行器和处理电路三部分,其中关键部件微执行器主要采用物理或化学气相沉积、光刻等技术制作成二维悬臂结构,三维微纳驱动单元需

太赫兹信息超材料与超表面 (二)

4 太赫兹数字编码超材料随着编码超材料的发展,在太赫兹领域,各向异性编码超表面[12]、张量编码超表面[13]、频率编码超表面[14]以及编码超表面的数字卷积运算[15]等理论被提出,并由此得到了低雷达散射截面、波束空间搬移、异常折射、贝塞尔波束等现象。下面将以基于编码超材料的低雷达散射截面(RCS

2014年世界新材料科技发展回顾

  在纳米材料领域,美国国家标准与技术研究院的研究人员通过在纳米尺度上采用一种独特的三明治结构,开发出一种多壁碳纳米管材料,其整体厚度还不到人类头发直径的百分之一,却可以大幅降低泡沫制品的可燃性。国家直线加速器实验室和斯坦福大学合作,首次揭示了石墨烯插层复合材料的超导机制,并发现一种潜在的工艺能使石

纳米尺度下电子诱导生物蛋白结构转变机理获进展

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术国家重点实验室陶虎课题组首次联用近场红外生物纳米成像与纳米成谱技术,突破光学衍射极限,空间分辨率达到10 nm,较传统红外光学表征技术提高了2个数量级,可在纳米尺度下研究电子诱导蚕丝蛋白结构转变机理,揭示蚕丝蛋白中关键构象的转变规律,并可控制备出系列二

物理所率先实现基于石墨烯的各向异性刻蚀技术

  最近,中国科学院物理研究所/北京凝聚态物理国家实验室(筹)张广宇研究组与高鸿钧研究组、王恩哥研究组合作,利用自制的远程电感耦合等离子体系统,首次成功实现了石墨烯的可控各向异性刻蚀。这种基于石墨烯的各向异性刻蚀技术是我国科学家在该研究领域中独具特色的工作,相关结果发表在【Advan

微流控技术类型

目前,通过工程、物理、化学、生物、纳米技术的交叉应用,微流控技术已从单通道器件迅速发展到目前的多路复用、自动化和高通量的复杂分析系统。早期的微流控产品多数结构较为简单,依靠毛细作用或离心力,或者直接利用体积较大的气泵实现液体的驱动;目前的微流控芯片集成了更多主动器件,如微泵、微阀、微喷头,进行液体的

微流控技术在临床检验中的应用

微流控是指在微尺度上精确控制和操纵流体的技术。20世纪80年代,微流控技术开始出现,最初被称为"微型全分析系统"( miniaturized totalanalysis systems, mTAS)[1],或者"芯片实验室"(laboratoryon a ch

科学家利用DNA制作出的超材料,可大幅调节光子传播性质

  光学性质是超材料最为重要的一种性质。光学超材料是传输光线的材料,这些材料以折射、反射和透射的方式,改变光线的方向、强度和位相,使光线按预定要求和路径传输,也可吸收或透过一定波长范围的光线而改变光线的光谱成分。  目前已有的研究中,光学超材料多采用玻璃、晶体、塑料等作为结构制作原型,与传统不同的是

芯源公司“集束型匀胶显影设备”获辽宁优秀新产品二等奖

芯源公司“集束型匀胶显影设备”获辽宁省优秀新产品二等奖   近日,经第八届辽宁省优秀新产品奖评审委员会审查,省政府批准,中科院沈阳自动化研究所持股公司芯源公司申报的“集束型匀胶显影设备”被授予辽宁省优秀新产品二等奖。在本届辽宁省新产品评选中,共有31项产品获得一等奖,二等奖59项。评选省

一文看懂主流AR眼镜的核心显示技术光波导

  光波导,因其轻薄和外界光线的高穿透特性而被认为是消费级AR眼镜的必选光学方案,又因其价格高和技术门槛高让人望而却步。随着主流AR设备微软HoloLens2、Magic Leap One等对光波导技术的采用和设备量产,以及AR光学模组厂商DigiLens、耐德佳、灵犀微光等近期融资消息的频繁披露,

重庆研究院在高性能太赫兹偏振器件研究方面取得进展

  近日,中国科学院重庆绿色智能技术研究院太赫兹技术研究中心研究团队在高性能太赫兹偏振器件研究方面取得进展,相关研究成果以A Terahertz Polarizer Based on Multilayer Metal grating filled in Polyimide Film 为题在IEEE

基因芯片的必备知识和操作流程

基因芯片  技术的诞生为生物技术工作人员打开了一道科研的便利之门,曾被评为1998年年度十大科技进展之一。本文对基因芯片的实验原理、技术基础、分类、用途、操作主要环节等内容做详细的介绍。 1.基本原理和技术基础 基因芯片以DNA杂交  为基本原理,基于A和T、G和C的

基因芯片的必备知识和操作流程

  基因芯片 技术的诞生为生物技术工作人员打开了一道科研的便利之门,曾被评为1998年年度十大科技进展之一。本文对基因芯片的实验原理、技术基础、分类、用途、操作主要环节等内容做详细的介绍。  1.基本原理和技术基础  基因芯片以DNA杂交 为基本原理,基于A和T、G和C的互补关系。它是在探针的基础上

逐梦光电 千人连线共聚 热议国产分析仪器研制与应用

  分析测试百科网讯 2021年7月14日,由北京卓立汉光仪器有限公司、北京必创科技股份有限公司、北京怀柔硬科技创新服务有限公司主办的第二届逐梦光电国产分析仪器研制与应用研讨会在北京隆重举行。论坛有近千余人在线参加论坛。分析测试百科网作为论坛支持媒体,为您带来全程跟踪报道。北京卓立汉光仪器有限公司董

原子级工艺实现纳米级图形结构的要求(二)

原子层刻蚀有助于减少这些随机缺陷的影响。因为它在自限性步骤中逐层进行,而且因为工艺步骤将化学活性物质与高能离子相分离,因此原子层刻蚀不会产生传统的刻蚀工艺中出现的粗糙的镶边层。更重要的是,原子层刻蚀与原子层沉积的重复循环,能够降低EUV中随机缺陷引起的粗糙度。凹凸表面比平面具有较高的表面体积比,这就

基于微流控的即时检验诊断(POCT)的材料、工艺、优缺点全..-2

3、基于硅的MICROFLUIDICS设备硅已经成为制造MICROFLUIDICS通道的优选衬底,因为它具有对各种条件的高耐受性以及低的键合温度要求。此外,使用硅作为MICROFLUIDICS中的平台不仅使器件小型化,而且在设计部分提供了灵活性。3.1基于硅的MICROFLUIDICS器件的制造制造