HORIBA科学仪器发布GDOES深度分析DiP创新系统
分析测试百科网讯 HORIBA科学仪器事业部最近为辉光放电发射光谱（GD-OES）的深度分析发布了DiP创新系统。 DiP(差分干涉分析)为无需校准的深度剖面分析提供了实时的镀层厚度、断面深度和溅射速度。 GD-OES是公认的快速、多元素的导电和非导电材料深度分析技术。GD-OES依赖于被调查样品代表区域的等离子体溅射，在高分辨率光谱仪上同时测量所有感兴趣的元素。GD-OES的溅射速率取决于所测材料，当多层测量时，它们随深度变化。在此之前，准确定量所需溅射速率的估计是计算（倾向于不确定性）或外部测量的结果。 GD-OES仪器DiP（差分干涉分析）系统ZL的引进实现了镀层厚度原位直接测量。 DiP现在可提供实时、溅射过程中、无需校准的： 断面深度 镀层厚度 溅射速率 在DiP系统中，从相同的激光光源发出的两束光一束定向射向GD断面的中央，另一束定向射向靠近GD断面的完整样品表面。如果材料反射足够，反射光束被搜集......阅读全文
什么是差分脉冲伏安法
差分脉冲伏安法简介：一种电化学测量手段，是线性扫描伏安法和阶梯扫描伏安法的衍生方法，即在其基础之上添加一定的电压脉冲。在电势改变之前测量电流，通过这种方式来减小充电电流的影响。原理： 有图1可见，差分脉冲伏安法的电势波形可看做是线性增加的电压与恒定振幅的矩形脉冲的叠加。脉冲波形，脉冲高
离子镀的特点
飞秒检测发现离子镀在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。离子镀的作用过程如下:蒸发源接阳极，工件接阴
光纤光谱仪在发射光谱、LED、薄膜厚度测量应用
光纤光谱仪是光学仪器的主要构成部分。由于其检测精度高、速度快等优点，已成为光谱测量学中使用的重要测量仪器被广泛应用于农业、生物、化学、地质、食品安全、色度计算、环境检测、医药卫生、LED检测、半导体工业、石油化工等领域。 1、发射光谱测量 发射光谱测量可以用不同的实验布局和波长范围来实现
电阻法真空金属镀层厚度测试仪方法及原理GB/T15717
电阻法真空金属镀层厚度测试仪方法及原理GB/T15717摘要:真空镀层薄膜在食品及药品行业应用越来越广,镀层厚度直接影响包材质量,本文介绍了真空镀铝厚度测定的方法及标准.关键词: 真空金属镀层,镀铝膜,电阻法, GB/T 15717,镀层测厚仪真空蒸镀金属薄膜是在真空条件下，将金属蒸镀在薄膜基材的表
高性能X射线荧光镀层厚度测量仪「SFT9500X系列」发售
高精度测量极微小部位的金属薄膜厚度 精工电子纳米科技有限公司（简称：SIINT，社长：川崎贤司，总公司：千叶县千叶市）是精工电子有限公司（简称：SII，社长：新保雅文，总公司：千叶县千叶市）的全资子公司，其主要业务是测量分析仪器的生产与销售。本公司于12月19日开始销售可高精度测量电镀
直读光谱仪和X射线荧光分析仪器有什么不同
直读光谱仪和X射线荧光均属于发射光谱，不是你所说的吸收光谱，用小车推的属于便携式移动光谱仪，是直读光谱仪的一种。直读光谱仪主要分为立式、台式、移动三种，分析稳定性和精度依次下降。X射线荧光主要分为波长、能量与便携式三种，分析精度也是按照刚才的顺序依次下降，功能依次是元素含量分析、元素半定量定性分析、
光谱仪结构组成、工作过程和光谱仪的操作方法
光谱仪结构组成与特点 一、什么是ICP光谱仪 ICP发射光谱仪即电感耦合等离子体光谱仪，ICP发射光谱法是根据处于激发态的待测元素原子回到基态时发射的特征谱线对待测元素进行分析的方法。由于具有高灵敏度与高精密度与多元素共同分析等优点，ICP发射光谱仪在各分析领域得到了广泛应用，成为材
原子发射光谱分析技术的进展
与化学分析的发展历程相似，原子发射光谱分析技术的进步从20世纪50年代的仪器化、60年代光电直读化、70年代的微机化、80年代的智能化到90年代以来的数字化，可以看出原子发射光谱仪器的发展也是向高灵敏度、高选择性、快速、自动、简便和经济实用发展。传统的以光电倍增管为检测器的电弧和火花光谱仪仍在进一步
HORIBA重组欧洲业务－成立HORIBA－FRANCE－SAS
分析测试百科网讯 近日，HORIBA宣布其旗下HORIBA Jobin Yvon SAS与其子公司HORIBA FRANCE SARL合并。新公司将被称为HORIBA FRANCE SAS。 HORIBA Jobin Yvon SAS主营材料科学和生物制药仪器以及高性能光学元件，其子公司HOR
3月行业标准发布信息汇总－含ICPOES法等多项方法
据中国国家标准化管理委员会官网消息，2025年3月工业和信息化部、公安部、国家能源局等11个部门25个行业共发布标准1431项（详见附表1：备案标准清单），公安部、国家能源局、国家铁路局等6个部门8个行业共废止标准149项（详见附表2：废止标准清单）。1431项批准标准149项废止标准在1431项批
膜厚仪的特点及技术参数
膜厚仪又叫膜厚计、膜厚测试仪，分为磁感应镀层测厚仪，电涡流镀层测厚仪，荧光X射线仪镀层测厚仪。 采用磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。 可应用于在线膜厚测量,测氧化物,SiNx,感光保护膜和半导体膜.也
关于迈克尔逊干涉仪的基本配置介绍
在一台标准的迈克尔逊干涉仪中从光源到光检测器之间存在有两条光路：一束光被光学分束器（例如一面半透半反镜）反射后入射到上方的平面镜后反射回分束器，之后透射过分束器被光检测器接收；另一束光透射过分束器后入射到右侧的平面镜，之后反射回分束器后再次被反射到光检测器上。注意到两束光在干涉过程中穿过分束器的
电感耦合等离子体原子/离子荧光光谱激发光源分类
1、 空心阴极灯的强短脉冲供电电源与 DC-HCL 或 CP-HCL 供电电源相比，HCMP-HCL 供电电源需要进行特殊设计，电源要提供微秒宽度的脉冲，峰值工作电流 一般为几安培，大可到十几安培。下图所示为强短脉冲电源示意图。 强短脉冲供电时，HCL 工作在大电流状态，电流一般为几安培，对个别元
实验室光谱仪器电感耦合等离子体原子/离子荧光光谱
1、 空心阴极灯的强短脉冲供电电源与 DC-HCL 或 CP-HCL 供电电源相比，HCMP-HCL 供电电源需要进行特殊设计，电源要提供微秒宽度的脉冲，峰值工作电流 一般为几安培，最大可到十几安培。下图所示为强短脉冲电源示意图。强短脉冲供电时，HCL 工作在大电流状态，电流一般为几安培，对个别元素
车载X射线荧光光谱法与便携式液体阴极辉光放电光谱法
钾盐作为农用钾肥的生产原料,是我国紧缺的大宗战略矿产之一,急需勘探钾盐矿的巨大突破。我国国内的钾盐矿床主要分布在西部偏远地区以及南部山川地区,这些地域人烟稀少,路途遥远,从样品采集到得到分析数据需要耗费大量的时间,而且也要消耗巨大的人力、物力和财力。同时,这些地区大多为高原区,野外工作周期短,一些需
544项推荐性国家标准公布－涉ICP、气相、离子色谱法等
近日，中国国家标准化管理委员会公布《2022年第21号中国国家标准公告》，共544项推荐性国家标准和4项国家标准修改单。本次公布的中国国家标准涉及化工、材料、临床检测、化学、化工、环境、植物、食品等各个领域，检测方法涉及滴定法、红外吸收法、等离子体原子发射光谱法、γ能谱分析、辉光放电质谱法、气相
2009年北京光谱年会隆重召开（下）
利用中午的休息时间，会务组还特地为与会代表安排了精彩的4D科普影片。大家稍作歇息后，下午的大会报告继续进行。 北京矿冶研究总院 符斌教授 来自北京矿冶研究总院的符斌教授为大家带来了题为《身手不凡的手持式X射线荧光光谱仪》的报告。符教授首先指出，目前手持式XRF分析仪基本上都是能量
电感耦合等离子体光谱仪是什么原理
等离子体（Plasma）一词首先由Langmuir在1929年提出，目前一般指电离度超过0.1%被电离了的气体，这种气体不仅含有中性原子和分子，而且含有大量的电子和离子，且电子和正离子的浓度处于平衡状态，从整体来看是处于中性的。从广义上讲像火焰和电弧的高温部分、火花放电、太阳和恒星表面的电离层等都是
电感耦合等离子体光谱仪是什么原理
等离子体（Plasma）一词首先由Langmuir在1929年提出，目前一般指电离度超过0.1%被电离了的气体，这种气体不仅含有中性原子和分子，而且含有大量的电子和离子，且电子和正离子的浓度处于平衡状态，从整体来看是处于中性的。从广义上讲像火焰和电弧的高温部分、火花放电、太阳和恒星表面的电离层等都是
电感耦合等离子体发射光谱仪的优缺点
等离子体（Plasma）一词首先由Langmuir在1929年提出，目前一般指电离度超过0.1%被电离了的气体，这种气体不仅含有中性原子和分子，而且含有大量的电子和离子，且电子和正离子的浓度处于平衡状态，从整体来看是处于中性的。从广义上讲像火焰和电弧的高温部分、火花放电、太阳和恒星表面的电离层等都是
ICP发射光谱仪的核心部分是什么？
电感耦合等离子体原子发射光谱仪由样品引入系统、电感耦合等离子体（ICP）光源、色散系统、检测系统等构成，并配有计算机控制及数据处理系统，冷却系统、气体控制系统等。ICP光源是ICP发射光谱仪的核心部分。原子发射光谱常用的激发源有火焰，电弧（直流电弧、交流电弧）、火花（高压火花、低压火花）、辉光放电、
什么是ICP发射光谱仪的核心部件？
电感耦合等离子体原子发射光谱仪由样品引入系统、电感耦合等离子体（ICP）光源、色散系统、检测系统等构成，并配有计算机控制及数据处理系统，冷却系统、气体控制系统等。ICP光源是ICP发射光谱仪的核心部分。原子发射光谱常用的激发源有火焰，电弧（直流电弧、交流电弧）、火花（高压火花、低压火花）、辉光放电、
扫描电镜常见搭档——喷金仪相关问题详解
喷金仪是什么？在封闭腔室中，放置阳极靶材，充入气体，保持一定的真空度，在阳极和阴极之间加载高压，会发生辉光放电现象。电离的气体离子会轰击、侵蚀阳极靶材。靶材原子会因此向四周扩散，并在样品上沉积，最终在样品表面形成一个均匀的镀层。这个镀层可以抑制荷电，减小热损伤，提高二次电子产率，从而改善扫描电镜观察
为什么差分gps能提高定位精度
gps定位分为码定位和载波定位.码定位速度快,理想情况下,一般民用3m精度,军用0.3m.载波定位速度慢,不分民用还是军用,精密单点定位的话半个小时以上,如果观测时间足够长可达到mm级精度.另外还有差分定位方式,就是已知一个或者几个点的准确位置,用这几个点对那些待定点的定位信息进行修改,可以用手机信
ICP光源
ICP光源 ICP光源是ICP发射光谱仪的核心部分。原子发射光谱常用的激发源有火焰，电弧（直流电弧、交流电弧）、火花（高压火花、低压火花）、辉光放电、等离子体（直流等离子体DCP、电感耦合等离子体ICP、微波感生等离子体MIP、微波耦合等离子体CMP）。 等离子体光源是20世纪60年代发展起来的
宝钢制订钢铁表面纳米尺度薄膜国家标准
日前，由宝钢股份研究院负责起草的国家标准《辉光放电光谱法定量分析钢铁表面纳米尺度薄膜》，通过了全国微束分析标准化技术委员会的评审。评审专家还建议，鉴于该标准在国际上亦属首次提出，可在适当时候转化为国际标准。 对钢铁表面进行涂镀处理，是目前提高钢铁产品抗腐蚀性能的主要途径，如镀锌、彩涂产品等。随着涂
PDA阵列光谱仪对透射率测定的相关方法
PDA阵列光谱仪采用先进的PDA（脉冲分布分析法）技术，可以同时快速、高精度分析金属材料的元素组成，是质量管理分析中广泛应用的分析仪器。所谓发射光谱分析是指使用放电等离子体蒸发气化来激发样品中的目标元素，根据得到的元素固有的亮线光谱（原子光谱）的波长进行定性，并根据发光强度进行定量的分析方法。
复合镀层
复合镀层:当化学复合镀工艺合理时，在复合镀层的金相组织中，颗粒弥散分布均匀，镀层与基体结合良好，由于SiC镶嵌在镀层中，起到了弥散强化的作用，因此，复合镀层的硬度和耐磨性增加。镀层中SiC颗粒的复合量随镀液中SiC颗粒含量的增大而增加，通过控制镀液中SiC颗粒的含量，可获取不同微粒复合量的Ni-P-
你家的热作模具钢不耐用？可能是这些原因造成！
热作模具包括热锻模、压铸模和热挤压模，由于工作期间承受高温金属而被加热，所以需要在高温下，仍然保持较高的强度和耐磨性。 在通常的热处理技术标准中，往往只是写明硬度要求，而没有明确提出其他性能指标，其他性能指标只是隐含在热作模具的前提中，这些指标在实际生产过程中的实现，需要对工艺过程进行控制
一种绘制全细胞神经介观图谱的光学多层干涉成像方法
大脑的神经回路是极其复杂的网络，包含数十亿个神经元细胞，这些细胞间又存在着数以百亿计的连接。如果只了解其中单个分子或单个神经细胞的工作机理而不了解多个神经元细胞之间连接之后的网络结构和集体行为方式，则无法理解大脑复杂且高等的功能行为，也无法解释很多脑部疾病的致病机理。目前成像技术众多，但仍然缺乏