中国科学技术大学实现高分辨电阻抗医学成像
中国科学技术大学杜江峰院士领导的中科院微观磁共振重点实验室在医学电阻抗成像方面取得重要进展，他们利用参数化水平集方法实现了高分辨的电阻抗图像重建。该成果近日发表在《医学影像期刊》上。 电阻抗成像技术是根据生物体内不同组织在不同功能状态下具有不同电阻抗的原理，通过在生物体体表注入安全激励电流（电压），测量体表响应电压（电流），重建生物体内部的电阻抗分布，从而反映体内结构及功能的新型医学成像技术。由于电阻抗成像具有功能成像的特点，而且对人体无害、使用方便、设备价格相对低廉，成为近年来国内外研究的热点。但电阻抗重建图像通常分辨率较低且对模型误差极为敏感，因此开发高效、稳定且具有高分辨能力的成像算法是电阻抗技术的关键和难点。 杜江峰院士团队通过利用近年来发展起来的参数化水平集方法及临床医学上现有信息，设计了新的电阻抗成像算法，成功实现高分辨的电阻抗图像重建，并通过大量仿真实验验证了算法的有效性和可行性，结果表明该算法不仅具有高分......阅读全文
中国科学技术大学实现高分辨电阻抗医学成像
中国科学技术大学杜江峰院士领导的中科院微观磁共振重点实验室在医学电阻抗成像方面取得重要进展，他们利用参数化水平集方法实现了高分辨的电阻抗图像重建。该成果近日发表在《医学影像期刊》上。 电阻抗成像技术是根据生物体内不同组织在不同功能状态下具有不同电阻抗的原理，通过在生物体体表注入安全激励电流（电
超高分辨成像
超高分辨成像常规共聚焦的XY分辨率只有200nm左右，奥林巴斯专利FV-OSR超高分辨技术可达到120nm，适用于大部分样品，无需特殊荧光染料，常规荧光染料、荧光蛋白均可进行成像，最多可实现4色同步超高分辨率成像。
STED超高分辨成像
STED超高分辨成像采用受激发损耗（STED）技术，实现XY最小分辨率≤50nm，Z轴最小分辨率≤130nm。固态长寿命损耗激光器：592nm，660nm，775nm，实现不同染料的超高分辨成像，可见光全光谱覆盖。STED WHITE 油浸物镜 (HC PL APO 100x/1.40 OIL)，
技术进步：高信噪比和高分辨率的活体生物成像
荧光成像由于具有非侵入性、高灵敏度、高时空分辨率等优点，被广泛用于生命科学和临床医学等领域。相对于可见光窗口（400-650 nm）和近红外第一窗口（650-900 nm）而言，生物组织在近红外第二窗口（1000-1700 nm）对于激发光和发射光的吸收与散射作用较小。因此，近红外第二窗口区
中国科大开发出医学电阻抗成像新方法
近日，中国科学技术大学杜江峰院士领导的中科院微观磁共振重点实验室在医学电阻抗成像领域取得新突破，开发出一种精准、高效且稳定的动态医学电阻抗图像重构方法，成功获得动物血胸、气胸状态下高分辨电阻抗图像。相关研究成果近日发表于《IEEE 医学影像会刊》。 电阻抗成像技术是利用生物组织与器官的电特性及
前沿显微成像技术专题——超分辨显微成像（1）
从16世纪末开始，科学家们就一直使用光学显微镜探索复杂的微观生物世界。然而，传统的光学显微由于光学衍射极限的限制，横向分辨率止步于 200 nm左右，轴向分辨率止步于500 nm，无法对更小的生物分子和结构进行观察。突破光学衍射极限，一直是科学家们梦想和追求的目标。虽然随着扫描电镜、扫描隧道显微镜及
前沿显微成像技术专题——超分辨显微成像（2）
上一期我们为大家介绍了几种主要的单分子定位超分辨显微成像技术，还留下了一些问题，比如它的分辨率是由什么决定的？获得的大量图像数据如何进行重构？本期我们就来为大家解答这些问题。单分子定位超分辨显微成像的分辨率单分子定位超分辨显微成像的分辨率主要由两个因素决定：定位精度和分子密度。定位精度是目标分子在横
树木电阻抗断层成像仪相关介绍
操作步骤： 1、 放置传感器于树木茎干上 2、 在应用软件中记录传感器位置 3、 轻微的敲击各传感器 4、 结果将显示在表格或图形中 树木电阻抗断层成像仪 特点： • 系统结构紧凑仅有一个主要的控制单元。 • 配有两根电缆并配置夹子用来固定电缆 • 数据收集快速 • 较多可达
高光谱图像成像原理
光源相机（成像光谱仪+ccd）装备有图像采集卡的计算机是高光谱成像技术的硬件组成，其光谱的覆盖范围为200-400nm，400-1000nm，900-1700nm，1000-2500nm。其中光谱相机的主要组成部分为准直镜，光栅光谱仪，聚焦透镜以及面阵ccd。 其扫描过程是当ccd探测器在光学
长春光机所突破航天高分辨率高光谱成像关键技术
日前，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所突破了航天高分辨率高光谱成像关键技术。该技术利用离轴三反非球面光学系统、复合棱镜分光、推扫成像和指向镜运动补偿技术，有效解决了航天高光谱遥感中高空间分辨率、高光谱分辨率与图像高信噪比之间的矛盾，突破了视场分离、光谱分光、在轨光谱辐射定标等关键技术瓶颈，