掺氮SiC薄膜制备及其光学特性的研究
硅碳氮（SiCN）薄膜作为一种新型三元薄膜材料具有优异的光、电和机械性能,此外,该薄膜独特的发光性能和从可见光到紫外光范围的可调节带隙,使其成为很有潜力的发光材料。本论文以制备高质量SiC,SiCN等半导体薄膜材料以及探索其光学特性为研究目标,该材料可用于制备应用于恶劣环境下的光电子器件及作为光学保护膜,主要工作包括以下几方面。首先,对实验中所用到的热丝化学气相沉积（Hot Filament Chemical VaporDeposition,HFCVD）设备进行了改造与设计。其次,以β-SiC和β-Si3N4晶体结构为基础,建立SiCN的基本模型。采用材料计算软件根据第一性原理的泛函理论对所建的模型进行计算。结果显示以β-Si3N4晶体模型为基础建立的SiCN模型较接近试验的结果。再次,以硅烷（SiH4）、甲烷（CH4）和氢气（H2）为反应气体利用HFCVD法在硅、石英等衬底上成功制备了SiC薄膜。研究了预处理和薄膜生长的主要工......阅读全文
掺氮SiC薄膜制备及其光学特性的研究
硅碳氮（SiCN）薄膜作为一种新型三元薄膜材料具有优异的光、电和机械性能,此外,该薄膜独特的发光性能和从可见光到紫外光范围的可调节带隙,使其成为很有潜力的发光材料。本论文以制备高质量SiC,SiCN等半导体薄膜材料以及探索其光学特性为研究目标,该材料可用于制备应用于恶劣环境下的光电子器件及作为光学保
立方氮化硼薄膜的制备及其光学应用展望
现用自偏压辅助的射频磁控溅射在硅基片上生长氮化硼薄膜,用傅里叶变换红外光谱和俄歇电子能谱测定薄膜中立方结构的含量以及氮硼的组分比。分别研究了工作气体中氮气的含量、基片的温度和基片的偏压对立方结构生长的影响。实验结果显示:薄膜组分是否达到氮硼比为1的化学配比条件是立方结构能否生长的关键;通过选择工作气
组织的光学特性及其成像基础（二）
8.组织的吸收特性 组织的吸收是各个分子成分共同作用的结果。当光子的能量与分子的能级间隔匹配时,分子吸收光子。在短波长区(光子能量大),这些跃迁是电子跃迁。紫外区的重要吸收体包括DNA,芳香族氨基酸(色氨酸、酪氨酸),蛋白质,黑色素和卟啉（包括血红蛋白、肌红蛋白维生素B12以及细胞色素c)。 光穿透
组织的光学特性及其成像基础（一）
生物组织的光学特性，影响着光在组织中的传输，也是医学光谱和成像诊断的基础。影响光在生物组织中传播的三个物理过程是反射和折射（reflection and refraction）、 散射（scattering）、吸收（absorption）。这三个过程分别用以下参数来描述：折射率、 散射系数、吸收系数
X射线衍射光学部件的制备及其光学性能表征（二）
2.3 各种衍射光学部件的研制本文所研制的光学元器件包括X射线衍射金立柱及其列阵、菲涅尔波带片、分辨率板和光栅型均匀辐照的会聚镜。其工艺步骤如图 3所示。2.3.1 超高金立柱及其列阵作为无透镜成像的衍射元件，大高宽比金立柱是一个重要结构。运用图 3所示的工艺流程，本文在300 nm厚的SiNx上成
X射线衍射光学部件的制备及其光学性能表征（三）
2.4 波带片透镜的极限高宽比研究为了实现硬X射线的高效率成像，波带片透镜的绝对厚度和大高宽比一直是X射线光学技术发展追求的目标。然而，采用电子束光刻的手段能够实现的最大高宽比及其影响因素等方面的研究在国内外一直没有专门报道。本文综述了我们运用蒙特卡罗模拟法和显影动力学理论，结合实际电子束光刻的形貌
X射线衍射光学部件的制备及其光学性能表征（一）
陈宜方 摘要: 综述了国内外在纳米加工X射线衍射光学透镜方面的研究现状和最新进展。介绍了作者团队过去三年在这方面做的工作。针对衍射透镜关键技术，研发了具有大高宽比形貌的电子束光刻基础工艺；结合金电镀，提出了纳米尺度波带片的制造技术，并将该工艺成功扩展于分辨率板（Siemens s
X射线衍射光学部件的制备及其光学性能表征（四）
3 X射线光学表征3.1 100 nm分辨率波带片的聚焦特性100 nm波带片的光学聚焦特性在上海光源同步辐射BL15U1线站进行了光学表征。图 22是光学测试系统(图 22(a))和光路示意图(图 22(b))。X射线的能量是10 keV，波带片的第一环直径为3.46 μm，总共有300个波带
调控薄膜的磁学特性研究取得进展
近日，西安交通大学研究人员与国内外合作者利用湿法化学转移技术制备大尺度无支撑单晶CoFe2O4薄膜，并成功转移到柔性的聚酰亚胺和硅等衬底上。通过改变柔性的聚酰亚胺衬底的弯曲半径，实现对柔性衬底上单晶CoFe2O4薄膜应力连续调控，从而调控薄膜的磁学特性。相关成果发表在美国化学学会《纳米》上。
硫化亚铂表面态辅助载流子复合及其光学非线性特性研究
近期，中国科学院上海光学精密机械研究所微纳光电子功能材料实验室研究员王俊团队在二维非层状半导体硫化亚铂（PtS）超快载流子动力学特性和光学非线性特性研究方面取得进展，揭示了PtS在光电子器件设计和应用方面的潜力。论文于10月29日在线发表于ACS Nano（DOI: 10.1021/acsnan
[光学]薄膜的定义
中文名称[光学]薄膜英文名称optical coating定 义为改变光学零件表面光学特性而镀在光学零件表面上的一层或多层膜。可以是金属膜、介质膜或这两类膜的组合。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），光学仪器一般名词（三级学科）
白碳纳米晶薄膜及其场致电子发射特性
利用微波等离子体化学气相沉积方法,以甲烷、氢混合气体为反应气体,具有钛镀层的玻璃作为衬底,制备了具有sp1杂化结构的白碳纳米晶薄膜。利用X射线衍射、俄歇电子能谱,以及扫描电子显微镜对薄膜结构进行了表征。以白碳纳米晶薄膜为阴极,以镀有ITO透明导电薄膜玻璃为阳极,采用二极管结构,测试了白碳纳米晶薄膜的
光学薄膜的定义
由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。
光学薄膜的应用
光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。
[光学]薄膜的概念特点
中文名称[光学]薄膜英文名称optical coating定 义为改变光学零件表面光学特性而镀在光学零件表面上的一层或多层膜。可以是金属膜、介质膜或这两类膜的组合。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），光学仪器一般名词（三级学科）
光学薄膜的分类
光学薄膜的分类 光学薄膜是由膜的分层介质构成，通过界面传播光束的一类光学介质材料，它的应用始于20世纪30年代，现在已广泛应用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。 传统光学薄膜 传统的光学薄膜是以光的干涉为基础。光波是一种电磁波，根据其波长的不同可分成红外线、可见光和
大连化物所揭示化学激光腔镜薄膜自洁净机理
近日，中国科学院大连化学物理研究所化学激光研究室研究员金玉奇、李刚团队在化学激光腔镜薄膜与增益介质的相互作用机理研究中取得进展，揭示了环境吸附对化学激光腔镜薄膜表面润湿性能的重要影响，并进一步通过引入纯化和钝化处理工艺，实现了对薄膜亲疏水特性的显著调控，为解决环境污染易影响高品质强光元件的损伤阈
光学薄膜概论
光学薄膜概论光学工业除了镜片的研磨，系统之设计以外，有一项科技是发展高级光学仪器所不可缺的，就是光学薄膜的蒸镀技术。何谓光学薄膜，就是在镜片上镶上一层或多层非常薄的特殊材料，使镜片能达到某种特定的光学效果。我们所常见的太阳眼镜，抗反射镜片就是一个光学薄膜在日常生活上zui简单的应用 。其他如各种反射
研究制备出超薄光滑连续的金纳米薄膜
日前，吉林大学电子科学与工程学院先进光子学材料与器件研究团队在金纳米薄膜非线性光学性质的电调控，以及在宽调谐超快光纤激光器的应用方面取得新进展，相关成果发表于《自然·通讯》。金纳米材料，例如纳米薄膜、纳米粒子及超材料等，因其具有独特的表面等离激元共振特性，可以极大地增强材料的线性和非线性光学响应，使
研究制备出超薄光滑连续的金纳米薄膜
日前，吉林大学电子科学与工程学院先进光子学材料与器件研究团队在金纳米薄膜非线性光学性质的电调控，以及在宽调谐超快光纤激光器的应用方面取得新进展，相关成果发表于《自然·通讯》。 金纳米材料，例如纳米薄膜、纳米粒子及超材料等，因其具有独特的表面等离激元共振特性，可以极大地增强材料的线性和非线性光学
光学薄膜的应用特点
光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而
光学薄膜缺陷的特点
光学薄膜缺陷的特点 薄膜缺陷的研究大约从1970开始，刚开始薄膜缺陷被表征为薄膜表面特征，认为是一种典型的粗糙度，在一些文献中薄膜缺陷被描述为节瘤。 Guenther首先对光学薄膜缺陷进行研究，他指出节瘤是在镀膜过程中对外部干扰颗粒形状相似复制而形成的；现在薄膜缺陷越来越引起人们的重视，很多文献建
纳米薄膜的制备方法
针对有机半导体粉料和金属粉料蒸发温度低的特点,设计并制作了新型低温辐射式薄膜加热蒸发器,通过对有机粉料的蒸发及溅射时样片衬底的加热实验,取得了良好效果,通过观测装置,可以观测到,薄膜监控测厚仪未能反映出的10纳米薄膜厚度。其制作成本低,加热效率高,同时又提高了设备功效;是一种多功能辐射式加热器,在物
光学晶体的特性
主要用于制作紫外和红外区域窗口、透镜和棱镜。按晶体结构分为单晶和多晶。由于单晶材料具有高的晶体完整性和光透过率，以及低的插入损耗，因此常用的光学晶体以单晶为主。
SiCLED研究中取得进展－为我国SiC产业注入新活力
中国科学院上海硅酸盐研究所与半导体研究所通过联合攻关，在SiC-LED技术路线方面中涉及的核心技术，如SiC单晶衬底、外延、芯片和灯具封装等方面取得了突破性进展，研制出了多种结构的SiC-LED，并封装成了灯具，完全打通了SiC-LED技术路线，为SiC-LED技术在半导体照明产业领域的推广打下
上海光机所二维半导体制备及非线性光学特性研究获进展
过渡金属硫化物二维纳米材料是继石墨烯后又一类重要的二维半导体纳米材料，特别是其可见到近红外波段的可调谐带隙特性在开发新型光电功能器件方面具有独特优势。近期，中国科学院上海光学精密机械研究所中科院强激光材料重点实验室研究员王俊课题组在二维半导体材料制备、表征及非线性光学特性研究方面取得多项进展。
应力诱导曲率对4HSiC－MOS平带电压和界面态密度的影响
碳化硅（SiC）上的栅氧化膜会严重影响SiC金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）的性能。本文作者通过电容 － 电压（C－V）测试研究了应力／应变引起的曲率对栅氧界面态密度（Dit）的影响。外延晶片的曲率通过薄膜应力测量系统进行测试。在干热氧化过程中，压缩／拉伸曲率导致SiO2
Co催化基于6HSiC单晶的石墨烯制备
采用磁控溅射制备Co（200nm）/6H-SiC异质结,在500-1000℃下退火,通过X-射线衍射（XRD）、俄歇电子能谱散射（AES）、拉曼光谱散射（Raman）研究接触界面的化学反应。研究表明高温下反应易生成稳定的化合物Co2Si,反应生成的C单质经扩散会富集于界面的最表面,并呈现晶态石墨和无
光学遥感器的特性
光学遥感器所获取的信息中最重要的特性有三个，即光谱特性，辐射度量特性和几何特性，这些特性确定了光学遥感器的性能。(1)光谱特性主要包括遥感器能够观测的电磁波的波长范围，各通道的中心波长等。在照相胶片型的遥感器中，其光谱特性主要由所用的胶片的感光特性和能用滤光片的透射特性率决定；而在扫描型的遥感器中，
光学遥感器的特性
光学遥感器所获取的信息中最重要的特性有三个，即光谱特性，辐射度量特性和几何特性，这些特性确定了光学遥感器的性能。(1)光谱特性主要包括遥感器能够观测的电磁波的波长范围，各通道的中心波长等。在照相胶片型的遥感器中，其光谱特性主要由所用的胶片的感光特性和能用滤光片的透射特性率决定；而在扫描型的遥感器中