中微5纳米等离子体刻蚀机又被网媒“戴高帽”
近来有网络媒体称，“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，性能优良，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”，并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁，第一次占领世界制高点”“中国弯道超车”等等。 中微公司的刻蚀机的确水平一流，但夸大阐述其战略意义，则被相关专家反对。刻蚀只是芯片制造多个环节之一。刻蚀机也不是对华禁售的设备，在这个意义上不算“卡脖子”。 首先，外行容易混淆“光刻机”和“刻蚀机”。光刻机相当于画匠，刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图（就像照相机让胶卷感光），后者按这张图去刻线（就像刻印章一样，腐蚀和去除不需要的部分）。 光刻机是芯片制造中用到的最金贵的机器，要达到5纳米曝光精度难比登天，ASML公司一家通吃高端光刻机；而刻蚀机没那么难，中微的竞争对手还有应用材料、泛林、东京电子等等，国外巨头体量优势明显。 “中微的等离子刻蚀机这几年进步确实不小，”科技日报记者采访的一位从事离子刻蚀的专家说......阅读全文
微电子所在SOTMRAM的关键集成技术领域获进展
磁随机存储器（MRAM）因具有非易失性、低功耗以及高访问速度等特点，在未来新兴存储领域颇具应用前景。尤其是基于自旋轨道矩（SOT）技术的MRAM存储器具有超高速、高耐久性的优势，更适用于高速缓存。然而，在SOT-MRAM集成中存在技术瓶颈，制约了其走向应用。隧道结的刻蚀工艺是关键的技术挑战和难点
原子级工艺实现纳米级图形结构的要求（二）
原子层刻蚀有助于减少这些随机缺陷的影响。因为它在自限性步骤中逐层进行，而且因为工艺步骤将化学活性物质与高能离子相分离，因此原子层刻蚀不会产生传统的刻蚀工艺中出现的粗糙的镶边层。更重要的是，原子层刻蚀与原子层沉积的重复循环，能够降低EUV中随机缺陷引起的粗糙度。凹凸表面比平面具有较高的表面体积比，这就
等离子清洗机的具体应用
等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的
微流控技术原理及起源
微型化、集成化和智能化，是现代科技发展的一个重要趋势。伴随着微机电加工系统（ MEMS ）技术的发展，电子计算机已由当年的”庞然大物”演变成由一个个微小的电路集成芯片组成的便携系统，甚至是一部微型的智能手机。 MEMS技术全称Micro Electromechanical System ， M
微流控技术起源及原理解析
微型化、集成化和智能化，是现代科技发展的一个重要趋势。伴随着微机电加工系统（ MEMS ）技术的发展，电子计算机已由当年的”庞然大物”演变成由一个个微小的电路集成芯片组成的便携系统，甚至是一部微型的智能手机。MEMS技术全称Micro Electromechanical System ， MEM
循环式真空泵被应用于哪些领域
循环式真空泵广泛应用于石油、化工、冶金、医药、生化、物性，测试及化学分析等研究部门、高等院校、工厂实验室及计量质检部门。根据槽开口尺寸的不同，可在浴槽内进行恒温实验，亦可通过软管与其他设备相连接，与恒温源配套使用。内循环：通过泵对槽内液体介质的循环吞吐，增加槽内温度的均匀性，减少温度波动。外循环：
智能集菌仪适用范围
智能集菌仪适用范围适用范围:1. 制药行业：纯化水、注射用水、无菌制剂（大输液、小针剂、粉剂、生物制品、血液制品、眼用制剂、保养液等）的无菌检查和微生物限度检查；2. 医疗器械行业：纯化水、注射用水、注射器、输液器、输血器、静脉导管等的无菌检查和微生物限度检查；3. 食品、饮料行业；4. 环保行业等
一文盘点当前微纳加工技术
微纳加工技术指尺度为亚毫米、微米和纳米量级元件以及由这些元件构成的部件或系统的优化设计、加工、组装、系统集成与应用技术，涉及领域广、多学科交叉融合，其最主要的发展方向是微纳器件与系统（MEMS和NEMS）。微纳器件与系统是在集成电路制作上发展的系列专用技术，研制微型传感器、微型执行器等器件和系统
等离子清洗机和超声波清洗机,哪个更好
等离子清洗机和超声波清洗机的区别：等离子清洗机是一种干法清洗，主要清洗很微小的氧化物和污染物。它是用工作气体在电磁场的作用下激发出等离子体与物体表面产生物理和化学反应，从而达到清洗的目的。而超声波清洗机是一种湿法清洗，主要是清洗很明显的灰尘和污染物，属于一种粗略的清洗。它是用液态（水或溶剂）在超
微流控芯片的材料和特点
1. 微流控芯片的材料刚性材料——单晶硅、无定性硅、玻璃、石英等；刚性有机聚合物材料如环氧、聚脲、聚氨、聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯等；弹性材料——二甲基硅氧烷( PDMS) 。2. 微流控分析芯片材料的特点有机聚合物芯片材料的基本要求：①材料应易被加工；②有良好的光学透明性；③在分析条件下材料应是惰
佳能光刻机共享应用
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
佳能PLA500光刻机共享应用
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
佳能光刻机共享
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
真空等离子清洗机技术及原理
真空等离子清洗机技术原理： 等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质。等离子清洗/刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也越来越长，受磁场作用，发生碰撞而形成等离子体，同时会发生辉
聚焦离子束加工中的主要缺陷
聚焦离子束(FIB)是一种微纳米加工技术，其基本原理与扫描电子显微镜(SEM)类似，采用离子源发射的离子束经过加速聚焦后作为入射束，高能量的离子与固体表面原子碰撞的过程中可以将固体原子溅射剥离，因此，FIB更多的是被用作直接加工微纳米结构的工具。结合气体注入系统(GIS)，FIB可以辅助进行化学气相
离子源如何清洗
离子源的清洗方法为：对金属的清洗和非金属部件的清洗。对金属部件来说，首先用棉签湿水后沾上专门的氧化铝粉（菲林跟有配）来摩擦金属部件。注意不要让氧化铝粉干燥！氧化铝粉洗完后，用水浸泡金属部件，然后超声15分钟，然后把水倒掉，用丙酮浸泡，再超声15分钟，烘干就可。对于非金属部件，就免掉吵声这一步骤。离子
去胶设备(等离子光刻)共享应用
仪器名称：去胶设备(等离子光刻)仪器编号：90175600产地：美国生产厂家：DRYTEK型号：MS-5出厂日期：199002购置日期：199003所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-627810
微流控技术原理及发展史（二）
5.显影用光胶配套显影液通过化学方法除去经曝光的光胶（正光胶）或未经曝光的光胶（负光胶），显影液和显影时间的选择对显影效果的影响很大。选择显影液的原则是，对需要去除的那部分胶膜溶解度大、溶解速度快，对需要保留的那部分溶解度小。显影时间视光致抗蚀剂的种类、胶膜厚度、显影液种类、显影温度和操作方法而异。
微电子所等研制出国际先进的氮化镓增强型MISHEMT器件
近日，中国科学院微电子研究所氮化镓（GaN）功率电子器件研究团队与香港科技大学教授陈敬团队，西安电子科技大学教授、中科院院士郝跃团队合作，在GaN增强型MIS-HEMT器件研制方面取得新进展，成功研制出具有国际先进水平的高频增强型GaN MIS-HEMT器件。 第三代半导体材料氮化镓具有高禁带
微流控分析芯片加工技术
微流控分析是以微管道为网络连接微泵、微阀、微储液器、微电极、微检测元件等具有光、电和流体输送功能的元器件，最大限度地把采样、稀释、加试剂、反应、分离、检测等分析功能集成在芯片上的微全分析系统。目前，微流控分析芯片的大小约几个平方厘米，微管道宽度和深度(高度)为微米和亚微米级。微流控分析芯片的加工技术
清华大学仪器共享平台DRYTEK－去胶设备(等离子光刻)
仪器名称：去胶设备(等离子光刻)仪器编号：90175600产地：美国生产厂家：DRYTEK型号：MS-5出厂日期：199002购置日期：199003所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：李希有（010-627840
为探月设备定制“防尘服”
从嫦娥奔月到“嫦娥”探月，从对月吟诵“青天有月来几时，我今停杯一问之”到月球探测器抵达月背并带回月壤，中国航天技术的发展为我们逐步揭开了月球的神秘面纱。但很少有人知道，在探索月球的进程中，看似微不足道的月尘却成为阻碍人类探索月球的重要空间环境因素之一。月尘防护不仅对探月工程中探测设备的正常运行至关重
牛津仪器公司将在世界各地联合主办研讨会
鉴于去年成功举办研讨的经验，牛津仪器公司等离子部将再次联合重点研究所和大学各地举办研讨会。会议发言者有牛津仪器等离子工艺技术专家，还有大量来自主办大学、研究机构和工业的学者，他们将阐述各自深入研究的课题。 2011年3月11日至12日- 纳米技术：生长、沉积和刻蚀 2011年6月30
DRYTEK去胶设备(等离子光刻)共享应用
仪器名称：去胶设备(等离子光刻)仪器编号：90175600产地：美国生产厂家：DRYTEK型号：MS-5出厂日期：199002购置日期：199003所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-627810
目前我国光刻机的加工精度是多少？
我们日常使用的手机里面的芯片就是光刻机制造出来的，光刻机是芯片制造过程当中一个重要的环节，光刻机直接决定着芯片的质量。而我国作为全球最大的芯片消费国之一，光每年进口的芯片都高达几万亿人民币。 光刻机是芯片制造过程中最重要的一部分，就是我们把想要设计的芯片，用光学技术刻在晶圆上，用光学技术把各种各样
等离子清洗机，半导体封装处理设备
半导体器件生产过程中，受材料、工艺以及环境的影响，晶圆芯片表面会存在肉眼看不到的各种微粒、有机物、氧化物及残留的磨料颗粒等沾污杂质，而等离子清洗机是合适的清洁工艺处理方法。 等离子清洗机在不破坏晶圆芯片及其他所用材料的表面特性、热学特性和电学特性的前提下，清洗去除晶圆芯片表面的有害沾污杂质
达因特等离子清洗机在不同行业的使用方法
等离子清洗机在印刷行业： 等离子体功能化在大多数材料表面留下化学不稳定的自由基，允许在有光泽的表面上印刷，否则会玷污或抵制油墨。这些表面包括塑料和橡胶制品。等离子体处理允许表面接受墨水。 等离子清洗机在键合行业： SPA2800H是我们常用的用于等离子体功能化的系统。50L-200L腔体大
中兴被封杀！老人带着秘密“武器”回中国，美国人慌了！
叙利亚的事件还没过去几天， 中美贸易大战更是惊险连连 英美两国又对中国的高科技公司， 开启一轮精准“打击”， 中兴成了第一个靶子！ 美国商务部称，中兴违反了， 在被认定违反美国制裁伊朗相关措施后， 与美国政府达成的协议。 将全面禁止美国企业向中兴通讯出售， 任何电子技术或通讯元
防紫外线UV安全灯管的作用
一，PCB工厂、微电子、工厂印刷厂等多采用光刻加化学刻蚀的刻蚀方法，将细小电路印制在特定基版上，刻蚀使用的胶对420nm以下的紫外或可见光敏感，如果采用含紫外线的白光灯管照明，结果是线路版刻蚀的细小电路边缘模糊，从而严重降低PCB的质量或印刷制版的质量。因此必须使用黄光安全灯。 黄光安全灯
半导体设备市场，下半年能否延续高增长？
最近，国际半导体设备与材料协会（SEMI）表示，中国大陆今年上半年在芯片制造设备上的支出超过中国台湾地区、韩国和美国的总和。 SEMI的数据显示，中国大陆是世界上最大的半导体设备市场，今年前6个月，中国在芯片制造工具上的支出达到创纪录的250亿美元。半导体设备投资是反映未来市场需求的重要指标，