去胶设备(等离子光刻)共享应用
仪器名称：去胶设备(等离子光刻)仪器编号：90175600产地：美国生产厂家：DRYTEK型号：MS-5出厂日期：199002购置日期：199003所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn）李希有（010-62784044,13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn）分类标签：集成电路 微纳加工 半导体工艺 刻蚀 等离子技术指标：PLASMA去胶知名用户：王喆垚、任天令、刘泽文、吴华强、梁仁荣、潘立阳、王敬、许军、邓宁、钱鹤、伍晓明（微电子所） 尤政、朱荣、阮勇（精仪系）、罗毅（电子系）、姚文清（化学系）技术团队：吴华强、伍晓明、刘朋、李希有、仲涛功能特色：刻蚀方式： PLASMA模式 主要刻蚀介质：正......阅读全文
去胶设备(等离子光刻)共享应用
仪器名称：去胶设备(等离子光刻)仪器编号：90175600产地：美国生产厂家：DRYTEK型号：MS-5出厂日期：199002购置日期：199003所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-627810
DRYTEK去胶设备(等离子光刻)共享应用
仪器名称：去胶设备(等离子光刻)仪器编号：90175600产地：美国生产厂家：DRYTEK型号：MS-5出厂日期：199002购置日期：199003所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-627810
清华大学仪器共享平台DRYTEK－去胶设备(等离子光刻)
仪器名称：去胶设备(等离子光刻)仪器编号：90175600产地：美国生产厂家：DRYTEK型号：MS-5出厂日期：199002购置日期：199003所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：李希有（010-627840
佳能光刻机共享应用
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
等离子体去胶机
等离子体去胶机，是在（RIE）反应离子刻蚀机的基础上简化改进而来，为小型等离子去胶机，具有体积小，性能优良、用途多、工艺速率高、均匀性及重复性好、价格低、使用方便等特点。是各电子器件企业及科研单位、大专院校的机型。适合于微电子制作工艺中光刻胶的去胶工艺，同时有RIE刻蚀功能，可以刻蚀Si、SiO2、
集微咨询发布中国半导体去胶设备白皮书
一、产业基本概念光刻胶作为掩膜材料在半导体加工工艺中起到了图形复制和传递的作用，而一旦刻蚀工艺（或者其他工艺）完成，光刻胶的使命也就完成，必须将其完全清除干净，这一工序就是去胶。二、设备分类与产业链情况去胶分为湿法去胶和干法去胶。1．湿法去胶湿法去胶是将带有光刻胶的晶圆片浸泡在适当的有机溶剂中溶解或
佳能PLA500光刻机共享应用
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
佳能光刻机共享
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
MA6双面光刻机共享应用
仪器名称：MA6双面光刻机仪器编号：00011041产地：德国生产厂家：Karl Suss型号：MA6出厂日期：199907购置日期：200010所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
影响等离子清洗机去胶机效率的因素
很多人购买等离子去胶机以后，不知道影响等离子去胶机的清洗效率参数有哪些？小编这里总结等离子清洗机的几个工艺参数会影响我们的清洗效率和结果，一起来看看吧!在等离子体清洗工艺当中，影响清洗效率的参数主要有以下几个方面：（1）放电气压：对于低压等离子体，放电气压增加，等离子体密度越高，电子温度随之降低。而
ICP设备(刻蚀机)共享应用
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定emai
Karl－SussMA6双面光刻机共享应用
仪器名称：MA6双面光刻机仪器编号：00011041产地：德国生产厂家：Karl Suss型号：MA6出厂日期：199907购置日期：200010所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
等离子清洗机在印制板去胶渣过程的作用
等离子清洗机在清洗微小孔中可实现的重要作用随着HDI板孔径的微小化，传统的化学清洗工艺已不能满足盲孔结构的清洗，液体表面张力使药液渗透进孔内有困难，特别是在处理激光钻微盲孔板时，可靠性不好。 目前应用于微埋盲孔的孔清洗工艺主要有超声波清洗和等离子体清洗，超声波清洗主要依据空化效应来达到清洗的目的，
MA6双面光刻机共享
仪器名称：MA6双面光刻机仪器编号：00011041产地：德国生产厂家：Karl Suss型号：MA6出厂日期：199907购置日期：200010所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-6278
清华大学仪器共享平台SUSS－光刻机
仪器名称：光刻机仪器编号：20004477产地：中国生产厂家：SUSS Micro Tec Lithography Gmb型号：MJB4出厂日期：购置日期：2020-06-09所属单位：电子系>纳米光电子综合测试平台放置地点：罗姆楼B1-304室固定电话：62796594固定手机：固定email：h
Triton160等离子清洗机
上海螣芯电子科技有限公司 ☎13122976482Triton 160：一体式等离子处理系统设备面向大半导体市场工业级客户与研发型客户使用需求设计的范用型等离子处理设备，适用于等离子清洗、活化以及刻蚀等多种应用。设备可在严苛环境下稳定运行，获得高度均一化的处理效果。应用领域I 金属键合(wire-b
超声检测设备共享
仪器名称：超声检测设备仪器编号：12006229产地：德国生产厂家：PVA型号：KSI SAM300出厂日期：201110购置日期：201204所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>封装工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：马海艳（010-66668888
ICP设备(刻蚀机)共享
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定emai
等离子体清洗机在堆积工艺中的运用
等离子体清洗机在堆积工艺中的运用由以下四个进程组成。（1）电子和反响气体发作电子碰撞反响，生成离子和自由基；（2）活性组分从等离子体传输到基底外表；（3）活性组分经过吸附作用或物化反响堆积到基底外表；（4）活性组分或反响产品成为堆积薄膜的组成部分。在高密度等离子体化学气相堆积工艺中，堆积和刻蚀进程往
SOE011－等离子体质谱仪共享
仪器名称：SOE-011 等离子体质谱仪仪器编号：11000443产地：德国生产厂家：Thermo Fisher型号：Xseries2出厂日期：201006购置日期：201101所属单位：环境学院>环境学院公共研究平台>分析平台放置地点：中意环境楼B215固定电话：固定手机：固定email：联系人：
微波等离子体亚深微米刻蚀
利用微波电子回旋共振（ECR）可以产生高密度的等离子体，选择不同的活性种粒分别对硅、砷化镓等半导体，Al, Cu, W, Ti 等金属，SiO2, Si3N4, Al2O3等无机物质和聚酰亚胺等有机物质，进行选择性刻蚀，制备大规模集成电路的芯片。现在的刻蚀技术，主要是采用电子束或同步辐射束曝光后，用
科研设备共享亟待全盘统筹
近日，《关于国家重大科研基础设施和大型科研仪器向社会开放的意见》（以下简称《意见》）引发社会持续关注。《意见》已由中央全面深化改革领导小组第六次会议审议通过，将择日发布实施。记者了解到，国内科技类企业对于大型科研仪器“求贤若渴”，与此同时，科研院所的部分科研设备却被闲置。人们期待《意见
中紫外直接光刻设备研制成功
近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术，结合光敏玻璃材料，实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工，能够极大简化工艺流程，将有力促进光敏玻璃微细结构的光刻工艺技术“革命”，目前在国内尚未见有此类产
光刻技术与纳米光刻简介
距离理查德·菲利普斯·费曼著名的演讲“There’s plenty of room at the bottom”有将近60年历史。在他的论文中，他曾问到：“我们怎么样写小？”在今天的科学技术研究中，仍有同样的问题。虽然自上世纪60年代以来，科研技术已经大大进步，半导体行业中使用的线宽已经大幅度下
光刻技术与纳米光刻简介
距离理查德·菲利普斯·费曼著名的演讲“There’s plenty of room at the bottom”有将近60年历史。在他的论文中，他曾问到：“我们怎么样写小？”在今天的科学技术研究中，仍有同样的问题。虽然自上世纪60年代以来，科研技术已经大大进步，半导体行业中使用的线宽已经大幅度下
光刻技术与纳米光刻简介
距离理查德·菲利普斯·费曼著名的演讲“There’s plenty of room at the bottom”有将近60年历史。在他的论文中，他曾问到：“我们怎么样写小？”在今天的科学技术研究中，仍有同样的问题。虽然自上世纪60年代以来，科研技术已经大大进步，半导体行业中使用的线宽已经大幅度下
全国大型仪器设备资源共享应用交流会
中国高科技产业化研究会文件[2009]中高办字第(12)号“全国大型仪器设备信息化管理、资源共享及应用技术交流研讨会”的通知各有关单位： 我国大型精密仪器设备是各个科研机构、特大型企业及高等院校进行科学研究及培养高层次人才最重要的物质基础，从一定意义上反映我国高尖端科技的综合能力。
等离子除臭设备技术特点
技术特点等离子体工业废气处理成套设备拥有独立自主知识产权，历经18年，该技术的发明为化工清洁生产奠定了基础，是近代化学工业生产的一次技术革命。 在等离子体技术的工业化应用方面走在了 * ，国际 、属于真正的中国创造。与目前国内常用的异味气体治理方法相比较，等离子体工业废气处理技术具有以下特点：低温等
2024亚洲自助共享产业展览会广州共享设备展
2024亚洲自助共享产业展览会共享设备展2024广州自助共享产业展览会共享设备展智慧共享引领未来2024/5/29-31广州·广交会展馆组织机构#主办单位#亚太自助售货行业联合会广东鸿威国际会展集团有限公司#协办单位#中国商业联合会智慧商业分会亚洲商业与办公供应商联盟协会泰国COMPASS会展公司广
等离子体/化学刻蚀设备——等离子刻蚀机简介
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力