今日Science：单晶外延膜，如今甩着做！
美东时间4月11日中午，Science杂志在线发表一篇研究论文，题目就四个字：Spin coating epitaxial film。单晶外延膜，如今甩着做！另附专家点评。 可以毫不夸张地说，甩涂法是现代微电子工业的根基。用于集成电路微加工的光刻胶，就是甩涂上去的，工艺简单、价格低廉、用途广泛、影响深远。然而，甩涂法成膜，通常是不定型或者多晶的。想要得到如下图所示的与衬底晶格匹配的单晶外延膜，非常困难，往往需要借助气相沉积、分子束外延等手段，设备昂贵、工艺复杂，难以应用于大规模的工业生产。 这篇Science论文显示，单晶外延膜，也可以用简单的甩涂法在单晶衬底上制备，其机理如下图所示，溶液甩涂形成的边界层促进非均匀形核，而被吸引到衬底表面的有序阴离子层能进一步降低形核活化能。随着溶胶蒸发，溶液达到过饱和而成核，带来厚度方向的浓度梯度及相应的离子扩散，从而促进薄膜生长。 作者在不同的衬底上长了不同的外延膜，包括无机钙钛矿......阅读全文
QHZ型涂膜划痕试验仪操作方法
QHZ型涂膜划痕试验仪操作及使用方法A、准备1、按GB1727—79要求准备120*50mm（0.2—0.3mm厚）平滑马口铁或按展品规定要求的底板制备漆膜。2、检查仪器（1）接通电源（220V）（2）按下总开关（电源开关）然后拨动钮子开关至“实验”行程，试验台横向移动（向左）至左端停止，然后将钮子
QHQ－型涂膜铅笔划痕硬度计
用途涂膜硬度是涂膜的一种重要物理性能，其大小直接影响涂膜的一些重要使用性能，例如耐磨损性、耐磨粒性能、耐摩擦性、耐划痕性、耐冲击性及涂膜滞留作用及清洗难易等，因此，涂膜硬度是评定涂料性能的必测指标。使用本仪器可方便地测定涂膜硬度。铸铁底座，机台稳定，不会晃动上机台部件铝合金材质，化学处理不会生锈（常
Z全的涂膜厚度的测定方法介绍
国家标准GB/T13452.2色漆和清漆漆膜厚度的测定,等效于国际标准Is028o8,本标准全面规范了涂膜的干膜、湿膜的各种厚度测定方法。涂膜厚度测定方法1是通过干膜质量与干膜厚度之间的相应关系来测量千膜厚度的方法。本方法适用于涂膜过软,不能用仪器测量的涂膜。例如,空气干燥的涂料处于固化早期的试板
哈西奈德涂膜的类别及贮藏方法
类别同哈西奈德。规格10g:10mg贮藏密闭,在阴凉处保存。
MYDDY－涂膜铅笔划痕仪
铅笔硬度计 铭宇仪器设备有限公司是国内zui大的铅笔硬度计铅笔硬度计制造商，是由台湾miyu集团2001年投资成立，公司总部设在中国zui具创造力的城市-深圳。 历经近十个春秋，公司稳健发展，已在国内实验室设备行业占据了绝对市场并享有全国知名度。铭宇铅笔硬度计铅笔硬度计系列已经全面
涂膜力学性能检测仪器类别汇总介绍
硬度铅笔硬度计利用铅笔对涂层划痕的硬度测试，配合不同等级硬度的铅笔使用。邵氏硬度计广泛应用于橡胶、塑料的硬度测定，可分为A型，C型和 D型3类。摆杆硬度计用来测定有机涂料的硬度，结果用百分比表示。划痕试验仪通过漆膜样板涂层受划针刻划时抗穿透能力的大小来表征涂层强度、硬度、附着力的大小。压痕硬度计不仅
哈西奈德涂膜的性状及鉴别方法
性状本品为无色微有黏性的澄清液体。鉴别在含量测定项下记录的色谱图中,供试品溶液主峰的保留时间应与对照品溶液主峰的保留时间一致。
影响分子束外延（MBE）的因素
1、外延温度 为了引起外延，基片的温度应达到某一温度值，即有必要加热到外延温度以上，当温度低于外延温度时则不能引起外延。而且外延温度还与其他条件有关，不同条件下的外延温度是不同的。 2、基片结晶的臂开 在过去的常规研究方面，基片结晶是在大气下臂开(机械折断产生结晶面)而后放入真空装置中来制
恒奥德直销刮刀涂膜机优势－操作方法
恒奥德直销刮刀涂膜机优势 操作方法、 外观介绍 1】双层涂布平台 2】数显可调节刮刀 3】推力杆 4】推力杆支架(可升级为涂布棒组件) 5】可调介质固定器 6】编程控制系统 7】行程槽 8】驱动散热口 9】电源开关 10】暂
涂膜鲜映性测定仪的参数及适用
观察者通过能清晰的看到的D01值。读出被测试样的鲜映性等级。汽车涂料就必须检测此项指标。 该仪器是测定涂层表面反映镜物（或投影）的清晰程度，以表现图层的外观装饰性等综合特征：在E光源照射下，标准版上的字码经过5次反射投影到目镜上。 涂膜鲜映性测定仪参数： 鲜映性等级：0
分子束外延（MBE）解析及原理
分子束外延技术是在半导体工艺中近十几年来发展起来的一项新技术，它是在超高真空条件下，类似于真空蒸发镀把构成晶体的各个组分和予掺杂的原子(分子)，以一定的热运动速度，按一定的比例从喷射炉中喷射到基片上去进行晶体外延生长而制备单晶膜的一种方法。简称MBE法 分子束外延，就是在超高真空系统中把所需要
分子束外延（MBE)
分子束外延设备有很多种。但就其主要结构而论是大同小异的。分子束外延的设备较其他外延技术的设备复杂，要包括超高真空系统努森箱及各种分析仪器。从MBE技术的发展过程看，当初主要是为开发以GaAs为中心的Ⅲ-V族化合物半导体，而后是针对Ⅱ-Ⅵ族和Ⅳ-Ⅵ族化合物半导体，最近正转向针对Si半导体器件的应用
反铁磁多层膜全电学调控实现
安徽大学王守国教授团队实现了外延应力下超薄反铁磁多层膜中垂直交换偏置的全电学调控。相关研究成果日前发表在《自然·通讯》上。交换偏置效应起源于铁磁/反铁磁界面处的交换相互作用，体现为磁滞回线沿外磁场方向的偏移。其在具有垂直磁各向异性的多层膜体系中的有效调控，对于构建高密度、高速度及高能效的新型磁存储和
球磨机经常甩石子怎么办
球磨机出口常甩出未研磨的碎石子，而且量还比较大，不仅使磨制物料的功耗增加，也加大了人员的劳动强度。出现球磨机经常甩石子这种现象的原因是什么呢？ 1、进口物料粒径过大，造成球磨机出力不够且甩出石子 过大的颗粒会给球磨机带来额外的负担，而且个别超大的颗粒不易被钢球击碎，会导致球磨机出力下降，功耗增大
涂镀层测厚仪/膜厚仪的常见故障及处理方法
涂镀层测厚仪/膜厚仪的常见故障及处理方法 今天为大家讲解涂镀层测厚仪（简称膜厚仪）使用频繁、工作环境等原因造成仪器测量时有故障总结使用中常见故障及处理方法：涂镀层测厚仪仪器不开机： ①请检查确认电池是否有电，或更换新的电池。 ②请检查电池是否接触良好，且电极片没有氧化或生锈等-（如生锈—可用工具刮掉
分子束外延（MBE）装置
MBE装置由样品进样室、预处理分析室和牛K窜等组成。窜间用闸扳阀隔开，以确保生长室的超高真空与清洁。 根据MBE系统的几何结构相应地配置真空系统。根据要求，3个室的真空配置的配置泵的系统并非一样： (1)进样室。真空度为1.33 x10-6~1 33 x10-8Pa。在l 33×10-6~1
SiC同质外延厚度分析
钝化层分析 钝化层作为保护层、绝缘层或抗反射层，在半 导体材料中扮演着重要的角色。 VERTEX 系列 光谱仪是分析钝化层的理想工具，它可以实 现快速灵敏的无损分析。 磷硅玻璃(PSG)和硼磷硅玻璃(BPSG)中硼和 磷的定量分析 分析SiN等离子层和Si-O基钝化层 分析超低K层
十年磨剑，实现2英寸单晶金刚石电子器件量产
作为第三代半导体材料的代表，金刚石半导体又被称为终极半导体。“金刚石半导体具有超宽禁带（5.45eV），高击穿场强（10MV/cm）、高载流子饱和漂移速度、高热导率（22 W/cmK）等材料特性，以及优异的器件品质因子。” 西安交通大学王宏兴教授介绍，“为此，采用金刚石衬底可研制高温、高频、大功率、
1200吨巨石被海浪“甩上”悬崖
在汤加的一处海岸悬崖上，有一块重达1200吨的巨石。科学家发现，它是7000年前一场巨大海啸的产物。当一个高达50米的巨浪撞击到30米高的悬崖时，这块岩石被搬运到了200米远的内陆地区。近日，相关论文发表于《海洋地质学》。 “这不仅仅是一块岩石——它是目前已知被海浪搬运至悬崖上的最大岩石，也是
电子甩体温表器操作流程
甩体温表器，即体温表甩降器，能将体温表水银柱迅速甩至35度以下，取代了医护人员频繁而劳累的人工甩体温表，减轻了劳动强度，提高了工作效率，广泛适用于医院的门诊，急诊及各科病房，所以体温表甩降器即甩体温表器是各大医院门诊的必备仪器。电子甩体温表器操作流程 体温表甩降器在各大医院应用极为广泛，它操作简单，
是什么让青岛大学教授怼上Science？
对许多学者、特别是中国学者而言，发一篇Science论文，意味着学术地位和影响的极大提升，是梦寐以求的目标。虽然Science论文很多时候引领着相关研究领域的深度和前沿，但偶尔也会有一两篇论文，让人觉得有些费解。而一些非常认真的学者，则会对其不依不饶，抓住问题，讨论评论。 上周，青岛大学物理学
单晶半导体材料的制备方法
为了消除多晶材料中各小晶体之间的晶粒间界对半导体材料特性参量的巨大影响，半导体器件的基体材料一般采用单晶体。单晶制备一般可分大体积单晶(即体单晶)制备和薄膜单晶的制备。体单晶的产量高，利用率高，比较经济。但很多的器件结构要求厚度为微米量级的薄层单晶。由于制备薄层单晶所需的温度较低，往往可以得到质量较
单晶半导体材料的制备方法
具体的制备方法有：①从熔体中拉制单晶：用与熔体相同材料的小单晶体作为籽晶，当籽晶与熔体接触并向上提拉时，熔体依靠表面张力也被拉出液面，同时结晶出与籽晶具有相同晶体取向的单晶体。②区域熔炼法制备单晶：用一籽晶与半导体锭条在头部熔接，随着熔区的移动则结晶部分即成单晶。③从溶液中再结晶。④从汽相中生长单晶
HT6510P兰泰高精度多功能涂层涂膜硬度测量
铅笔硬度计HT-6510P兰泰高精度多功能涂层涂膜硬度测量产品应用：本仪器应用铅笔划痕法，通过硬度已知的绘图铅芯或铅笔芯，以经济的方式确定基底上有机涂层的涂膜硬度。仪器即可在实验室使用，也可适用于施工现场。铅笔划痕法测试涂膜硬度是自八十年代以来被普遍采用的测试方法。我国已在涂料的发展研究和工业生产中
隆拓－产品型号－QHZ型涂膜划痕试验仪试验技术特征
QHZ型涂膜划痕试验仪测定涂层抗划透能力大小评价涂膜硬度。试验技术特征：硬度以划针划破涂膜时承载砝码的最小荷重（抗划痕值）表示。执行标准：GB/T9279-88 ISO1518-73 QHZ型涂膜划痕试验仪技术参数：划痕长度大于等于60mm式样速度：30-40mm/s划针钢球：φ 1mm加荷范围
隆拓－产品型号－QHZ型涂膜划痕试验仪技术参数
QHZ型涂膜划痕试验仪测定涂层抗划透能力大小评价涂膜硬度。试验技术特征：硬度以划针划破涂膜时承载砝码的最小荷重（抗划痕值）表示。执行标准：GB/T9279-88 ISO1518-73 QHZ型涂膜划痕试验仪技术参数：划痕长度大于等于60mm式样速度：30-40mm/s划针钢球：φ 1mm加荷范围
涂膜鲜映性测定仪技术参数是怎样的呢？
观察者通过能清晰的看到的D01值。读出被测试样的鲜映性等级。汽车涂料就必须检测此项指标。该仪器新研发制造的测定涂层表面反映镜物（或投影）的清晰程度 ，以表现图层的外观装饰性等综合特征：在E光源照射下，标准版上的字码经过5次反射投影到目镜上。 测定仪.jpg 涂膜鲜映性测定
分子束外延要点解析
一、分子束外延 (Molecular Beam Epitaxy，MBE)简介 在超高真空环境下， 使具有一定热能的一种或多种分子 (原子) 束流喷射到晶体衬底 ，在衬底表面发生反应的过程，由于分子在 "飞行"过程中几乎与环境气体无碰撞 ，以分 子束的形式射向衬底 ，进行外延生长， 故此而得名。
分子束外延（MBE）的特点
（1）生长速率极慢，大约1um/小时，相当于每秒生长一个单原子层，因此有利于实现精确控制厚度、结构与成分和形成陡峭的异质结构等。实际上是一种原子级的加工技术，因此MBE特别适于生长超晶格材料。 （2）外延生长的温度低，因此降低了界面上热膨胀引入的晶格失配效应和衬底杂质对外延层的自掺杂扩散影响。