今日Science：单晶外延膜，如今甩着做！
美东时间4月11日中午，Science杂志在线发表一篇研究论文，题目就四个字：Spin coating epitaxial film。单晶外延膜，如今甩着做！另附专家点评。 可以毫不夸张地说，甩涂法是现代微电子工业的根基。用于集成电路微加工的光刻胶，就是甩涂上去的，工艺简单、价格低廉、用途广泛、影响深远。然而，甩涂法成膜，通常是不定型或者多晶的。想要得到如下图所示的与衬底晶格匹配的单晶外延膜，非常困难，往往需要借助气相沉积、分子束外延等手段，设备昂贵、工艺复杂，难以应用于大规模的工业生产。 这篇Science论文显示，单晶外延膜，也可以用简单的甩涂法在单晶衬底上制备，其机理如下图所示，溶液甩涂形成的边界层促进非均匀形核，而被吸引到衬底表面的有序阴离子层能进一步降低形核活化能。随着溶胶蒸发，溶液达到过饱和而成核，带来厚度方向的浓度梯度及相应的离子扩散，从而促进薄膜生长。 作者在不同的衬底上长了不同的外延膜，包括无机钙钛矿......阅读全文
分子束外延要点解析
一、分子束外延 (Molecular Beam Epitaxy，MBE)简介 在超高真空环境下， 使具有一定热能的一种或多种分子 (原子) 束流喷射到晶体衬底 ，在衬底表面发生反应的过程，由于分子在 "飞行"过程中几乎与环境气体无碰撞 ，以分 子束的形式射向衬底 ，进行外延生长， 故此而得名。
涂镀层测厚仪
涂镀层测厚仪根据测量原理一般有以下五种类型:1.磁性测厚法:适用导磁材料上的非导磁层厚度测量.导磁材料一般为:钢\铁\银\镍.此种方法测量精度高2.涡流测厚法:适用导电金属上的非导电层厚度测量.此种方法较磁性测厚法精度低3.超声波测厚法:目前国内还没有用此种方法测量涂镀层厚度的,国外个别厂家有这样的
半导体材料的制备方法
不同的半导体器件对半导体材料有不同的形态要求，包括单晶的切片、磨片、抛光片、薄膜等。半导体材料的不同形态要求对应不同的加工工艺。常用的半导体材料制备工艺有提纯、单晶的制备和薄膜外延生长。所有的半导体材料都需要对原料进行提纯，要求的纯度在6个“9”以上 ，最高达11个“9”以上。提纯的方法分两大类，一
半导体材料的应用介绍
制备不同的半导体器件对半导体材料有不同的形态要求，包括单晶的切片、磨片、抛光片、薄膜等。半导体材料的不同形态要求对应不同的加工工艺。常用的半导体材料制备工艺有提纯、单晶的制备和薄膜外延生长。所有的半导体材料都需要对原料进行提纯，要求的纯度在6个“9”以上，最高达11个“9”以上。提纯的方法分两大类，
单晶X射线衍射的单晶衍射仪法
此法用射线计数仪直接记录射线的强度。单晶衍射仪有线性衍射仪、四圆衍射仪和韦森堡衍射仪等，其中以四圆衍射仪(图4)，(见彩图)最为通用。所谓四圆是指晶体和计数器藉以调节方位的四个圆，分别称为φ圆、圆、w圆和2θ圆。φ圆是安装晶体的测角头转动的圆；圆是支撑测角头的垂直圆，测角头可在此圆上运动；w圆是使圆
单晶X射线衍射的单晶衍射仪法
此法用射线计数仪直接记录射线的强度。单晶衍射仪有线性衍射仪、四圆衍射仪和韦森堡衍射仪等，其中以四圆衍射仪(图4)，(见彩图)最为通用。所谓四圆是指晶体和计数器藉以调节方位的四个圆，分别称为φ圆、圆、w圆和2θ圆。φ圆是安装晶体的测角头转动的圆；圆是支撑测角头的垂直圆，测角头可在此圆上运动；w圆是使圆
QHQ型涂膜铅笔划痕硬度计的操作及使用方法
QHQ型涂膜铅笔划痕硬度计的基本使用与维护 一、QHQ型涂膜铅笔划痕硬度计的操作及使用方法A、准备1．按GB1727-70要求准备120X50X（0.2---0.3）平滑马口铁板或按产品规定的底材，制备涂膜。2．用铅笔刀把每支铅笔前端削去木质部分，露出5---6mm柱状笔芯（注意铅笔芯不可松动或削伤
QHQ型涂膜铅笔划痕硬度计的操作及使用方法
QHQ型涂膜铅笔划痕硬度计的基本使用与维护 一、QHQ型涂膜铅笔划痕硬度计的操作及使用方法A、准备1．按GB1727-70要求准备120X50X（0.2---0.3）平滑马口铁板或按产品规定的底材，制备涂膜。2．用铅笔刀把每支铅笔前端削去木质部分，露出5---6mm柱状笔芯（注意铅笔芯不可松动或削伤
鸡蛋穿上纳米涂膜保鲜衣－使劳动力生产成本降低30％
记者从南京农业大学获悉，我国蛋制品风味品质调控及纳米涂膜保鲜包装新产品成套新技术取得重大突破。该大学章建浩主持的科研团队日前研发了蛋制品专用纳米涂膜保鲜包装新材料、新工艺及涂膜包装自动化生产线，并开发系列新产品。 我国是禽蛋生产和消费大国，占世界总产量43％以上。然而，传统风味鸡蛋、咸鸭蛋等蛋
电泳时光泽不好容易产生阴阳面，涂膜过薄，如何解决
烘干后电泳漆膜表面光泽、光滑度不匀，有阴阳面，这种电泳漆膜弊病称为漆面不匀或漆面粗糙。轻者光泽不好或失光，漆膜外观不丰满，重者手感不好（用手摸有粗糙的感觉）。如果在电泳过程中处在垂直面（或水平面的下表面）的漆膜光滑有光，则处在水平面的电泳漆膜粗糙无光泽，这种现象称为“L”效果不良。产生原因：（1）
化学所在组装二肽单晶诱导生物膜形成拓展研究取得进展
磷脂和肽是构筑细胞的基本结构单元。细胞的关键生物活动几乎都与这些生物分子的组装体有关。通过分子组装技术动态调控上述组装体的结构，可以更好地帮助理解细胞生命活动的本质规律。 在国家科技部、国家自然科学基金委、中国科学院和化学所的支持下，胶体、界面与化学热力学院重点实验室的研究人员长期致力于磷脂与苯
悬浮细胞用甩片机黏附于载玻片
处理悬浮细胞的一个简单办法是在固定细胞之前把细胞黏附在固相支持物上。方法之一是使用甩片机。细胞在固定之前，用特殊的离心方法将细胞甩至载玻片上。需要注意的是离心力可使细胞压瘪并扩张，使抗体更容易结合细胞内部结构，但也轻微扭曲了正常的细胞结构。 1．所需溶液和仪器 PBS及甩片机。
氮化铁的用途和生产方法
用途含有纳米粒子的胶体磁性氮化铁溶液的可用于制造磁流体。同时，氮化铁也可作为催化剂，对于费托合成及合成氨等反应具有良好的催化活性。生产方法1990年，komChemicalbookuro利用分子束外延技术在GaAs上沉积一层铁膜，然后在Fe/GaAs（100）的基底上制得Fe16N2单晶膜。氧化铁经
化学气相沉积技术在材料制备中使用
1化学气相沉积法生产晶体、晶体薄膜 化学气相沉积法不但可以对晶体或者晶体薄膜性能的改善有所帮助，而且也可以生产出很多别的手段无法制备出的一些晶体。化学气相沉积法最常见的使用方式是在某个晶体衬底上生成新的外延单晶层，最开始它是用于制备硅的，后来又制备出了外延化合物半导体层。它在金属单晶薄膜的制备
单晶硅的单晶硅制备与仿真
主要有两种方法：直拉法（Cz法）、区熔法（FZ法）；1）直拉法其优点是晶体被拉出液面不与器壁接触，不受容器限制，因此晶体中应力小，同时又能防止器壁沾污或接触所可能引起的杂乱晶核而形成多晶。此法制成的单晶完整性好，直径和长度都可以很大，生长速率也高。所用坩埚必须由不污染熔体的材料制成。因此，一些化学性
氢化物气相外延（HVPE）
牛总部设在美国马里兰州银泉的TDI是世界领先的发展生产新型化合物半导体，如GaN，AlN，AlGaN ，InN和InGaN的氢化物气相外延( HVPE )工艺和技术的公司。 这些材料被用于各种应用，最主要的是固态照明，短波长光电子和射频功率电子。 TDI生产的氮化物模板
上海微系统所在石墨烯单晶晶圆制备方面取得进展
中国科学院上海微系统与信息技术研究所石墨烯单晶晶圆研究取得新进展。信息功能材料国家重点实验室研究员谢晓明领导的石墨烯研究团队首次在较低温度（750℃）条件下采用化学气相沉积外延成功制备6英寸无褶皱高质量石墨烯单晶晶圆。研究论文于4月4日在Small上在线发表(X.F. Zhang, et al,
我国学者在低温非外延制备MAX相涂层方面取得进展
Mn+1AXn相（MAX相）是一大类热力学稳定、具有密排六方结构的层状陶瓷材料。M代表前过渡金属（如Ti、V、Cr等）；A代表IIIA或IVA主族元素（如Al、Si等）；X代表C或N。MAX相的独特晶体结构由密堆的M6X八面体层和A原子层交互迭排组成，这一结构使其兼备金属和陶瓷的优良性能，如高导
化学所在组装二肽单晶诱导生物膜形成与拓展方面获进展
磷脂和肽是构筑细胞的基本结构单元。细胞的关键生物活动几乎都与这些生物分子的组装体有关。通过分子组装技术动态调控上述组装体的结构，可以更好地帮助理解细胞生命活动的本质规律。 在国家科技部、国家自然科学基金委、中国科学院和中国科学院化学研究所的支持下，化学所胶体、界面与化学热力学重点实验室研究员李
认识涂镀层测厚仪
认识涂镀层测厚仪涂镀层测厚仪根据测量原理一般有以下五种类型:1.磁性测厚法:适用导磁材料上的非导磁层厚度测量.导磁材料一般为:钢\铁\银\镍.此种方法测量精度高2.涡流测厚法:适用导电金属上的非导电层厚度测量.此种方法较磁性测厚法精度低3.超声波测厚法:目前国内还没有用此种方法测量涂镀层厚度的,国外
涂镀层测厚仪分类
1.磁性测厚法:适用导磁材料上的非导磁层厚度测量.导磁材料一般为:钢铁银镍.此种方法测量精度高。2.涡流测厚法:适用导电金属上的非导电层厚度测量.此种方法较磁性测厚法精度低。3.电解测厚法:此方法有别于以上三种,不属于无损检测,需要破坏涂镀层.一般精度也不高.测量起来较其他几种麻烦。4.超声波测厚法
涂镀层缺陷检测
涂镀层缺陷检测 D236－15A电火花检测仪15KVD236－30A电火花检测仪30KVD266-1电火花检测仪主机220VT26620033-1手柄0.5 - 5KVT26620033-2手柄0.5 - 15KVT26620033-3手柄0.5 - 30KVD270-2针孔检漏仪（湿海绵法）67
不能把“气荒”的锅甩给价格改革
最近一段时间以来，我国多个省份天然气供应吃紧，液化天然气（LNG）价格明显上涨。国家统计局4日公布的数据显示，11月份下旬，我国LNG市场价格每吨5636.7元，比11月上旬上涨约30%，比7月上旬上涨约82%。 在LNG价格出现罕见的连续上涨，并创下历史新高的背景下，有些观点把“气荒”的锅甩
科学家开发新型异质外延半导体材料及器件
上海应用技术大学材料科学与工程学院教授房永征、刘玉峰团队与国科大杭州高等研究院及美国麻省理工学院等单位的科研人员合作，在二维半导体材料异质外延方面取得新进展。12月4日，相关研究发表于《先进材料》。随着我国高性能探测技术领域应用需求的持续增长，新型光探测材料的发展也有了更高要求。作为光电探测技术最核
上海众路实业有限公司QHQ涂膜铅笔划痕硬度仪技术参数
技术参数：荷重：1000+/-1g执行标准：GB/T6739-86 JIS K5401 ASTMD2197铅笔与试样夹角：45度铅笔规格：6H-6B划痕速度：1mm/s备注：台式详细介绍： 用途：通过犁破漆膜的铅笔硬度等级测定漆膜硬度试验技术特征：硬度以在规定试验条件下通过犁破漆膜的
CCD单晶衍射仪
CCD单晶衍射仪是一种用于物理学领域的分析仪器，于2017年1月5日启用。 技术指标 1.EOSCCD探测器； 2.增强型Mo光源和增强型Cu光源； 3.4圆kappa测角仪。 主要功能 晶体结构或分子结构的常规测定（包括晶体的点阵常数，对称性，分子的三维立体结构，键长、键角、构型、
单晶射线衍射仪
单晶射线衍射仪是一种用于化学领域的分析仪器，于2004年1月1日启用。 技术指标 额定功率:50kv 40mA。CCD探测器：62mm 4K CCD芯片，Mo 光源增益>170电子/X光子； X-射线发生器：功率3kW，Mo靶陶瓷X射线光管； 三轴（ω,2θ,φ）测角仪:φ360º旋转≤0.
光学单晶的种类
卤化物单晶卤化物单晶分为氟化物单晶，溴、氯、碘的化合物单晶，铊的卤化物单晶。氟化物单晶在紫外、可见和红外波段光谱区均有较高的透过率、低折射率及低光反射系数；缺点是膨胀系数大、热导率小、抗冲击性能差。溴、氯、碘的化合物单晶能透过很宽的红外波段，其熔点低，易于制成大尺寸单晶；缺点是易潮解、硬度低、力学性
分子束外延（MBE）的发展前景
分子束外延自20世纪60年代末在真空蒸镀的基础上产生以来，发展十分迅速。其中之一是引入气态的分子束源，构成所谓化学束外延(CBE)。用砷烷(AsH3)和磷烷(PH3)生长InGaAsP等四元材料，或将金属有机化合物引入分子束源形成所谓金属有机化合物分子束外延(MOMBE)。这两项新技术是把MBE
氧化亚铜新能源材料研究获进展－提高薄膜光电性能
氧化亚铜（Cu2O）是一种性能优异的半导体材料，它具有2.1eV（590nm）的直接帯隙以及很高的可见光吸收系数，再加上它具有无毒、低价、原料丰富等优点，已成为太阳能转化与利用研究领域的重要材料。理论预计基于Cu2O的太阳能电池效率可达20%，通过掺杂引入合适的中间带（intermediate