光刻机投影式曝光分类
扫描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工艺；掩膜板1：1，全尺寸； 步进重复投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～0.25μm（DUV）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（Exposure Field）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。 扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末～至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。......阅读全文
光刻机投影式曝光分类
扫描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工艺；掩膜板1：1，全尺寸； 步进重复投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～
投影式光刻机简介
投影式光刻机一般采用步进-扫描式曝光方法。光源并不是一次把整个掩模上的图形投影在晶圆上，曝光系统通过一个狭缝式曝光带（slit）照射在掩模上，载有掩模的工件台在狭缝下沿着一个方向移动，等价于曝光系统对掩模做了扫描，与掩模的扫描同步，晶圆沿相反的方向以1/4的速度移动。现代光刻机中，掩模扫描的速度
光刻机的曝光度
a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片
光刻机是什么
光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。 光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补
光刻机是什么东西
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常
数字式测量投影仪的分类介绍
按结构形式分为数字式立式投影仪（物镜光轴垂直于工作台面；和数字式卧式投影仪（物镜光轴平行于工作台面）。 数字式立式投影仪(森乾仪器) 立式投影仪 卧式数字式测量投影仪(森乾仪器) 卧式投影仪 按成像的方向与被测工件的方向的关系分为数字式正像投影仪（成像与工件方向相同）和数字式反像投影仪成像
光刻机的分类
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动 A 手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了； B 半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐； C 自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循
费歇尔投影式的投影规则
为了作出统一的分子构型表达式，费歇尔曾制定了三条投影规则： (1)将碳链放在垂直线上或竖起来，把氧化态较高的碳原子或命名时编号最小（主链中第一号）的碳原子C1放在最上端。 (2)投影时假定手性碳原子放在纸平面上，与垂直线(vertical line)相连的原子或基团（垂直方向的键 /竖键）表
手持光刻机如何使用
手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；光刻（photolithography）工艺是将掩膜版（光刻版）上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。首先光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面，再经过分步重复曝光和显影处理之后，在晶圆上形
费歇尔投影式和纽曼投影式互换规律
费歇尔投影式和纽曼投影式互换规律：(1)费歇尔投影式十字架下方的碳对应纽曼投影式的前碳，费歇尔投影式十字架上方的碳对应纽曼投影式的后碳；(2)费歇尔投影式转化为纽曼投影式时，先画出全重叠构象，再分别旋转前、后碳得到所需构型；(3)纽曼投影式转化为费歇尔投影式时，先将纽曼投影式旋转成全重叠构象，然后在
投影仪应用分类
应用环境 1、家庭影院型：其特点是亮度都在2000流明左右(随着投影的发展这个数字在不断的增大,对比度较高)，投影的画面宽高比多为16：9，各种视频端口齐全，适合播放电影和高清晰电视，适于家庭用户使用。 2、便携商务型投影仪：一般把重量低于2公斤的投影仪定义为商务便携型投影仪，这个重量跟轻薄
细说接触式光刻机的使用原理及性能指标
大家也许还不是非常的清楚，刻录机的种类有非常的多，其中的技术原理也不尽相同，下面就由我来给大家简单介绍一下有关接触式光刻机的使用原理及性能指标。 接触式光刻机的使用原理： 其实在我国对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。 我
菲舍尔投影式定义内容
概念辨析有机物的同分异构现象可分成两大类：构造异构和立体异构。其中，立体异构又包括顺反异构、对映异构和构象异构三种情况。而费歇尔投影式主要用于对映异构的书写，对映异构体是分子式相同，构造式相同，但构型不同，互为镜象但不能重合的立体异构体。从构象上分析，费歇尔式都是不稳定的重叠式构象，因此，在进行构象
菲舍尔投影式判定构型
相较于构象锯架式（以下简称锯架式）或纽曼投影式（以下简称纽曼式）来表示具有手性碳原子的化合物，费歇尔投影式更容易确定化合物的构型，并其进行命名。 甘油醛的D、L构型1951年，费歇尔采用(+)-甘油醛为标准物，并人为地规定在费歇尔投影式中第二号碳原子C2上的羟基，位于右侧的为D构型，位于左侧的为L构
光刻机的简介和分类
光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大
投影仪的应用分类
一、按照应用环境分类1、家庭影院型：其特点是亮度都在2000流明左右(随着投影的发展这个数字在不断的增大,对比度较高)，投影的画面宽高比多为16：9，各种视频端口齐全，适合播放电影和高清晰电视，适于家庭用户使用。2、便携商务型投影仪：一般把重量低于2公斤的投影仪定义为商务便携型投影仪，这个重量跟轻薄
光刻机的性能指标
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度
光刻机的性能指标
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度
光刻垄断难解，技术难在哪？
经常听说，高端光刻机不仅昂贵而且还都是国外的，那么什么是光刻机呢？上篇我们聊了从原材料到抛光晶片的制成过程，今天我们就来聊聊什么是光刻～第一步骤的晶体生长机晶片的制造，我们上篇已经聊过了。今天我们要聊的是光刻，我们先简单聊一聊硅的氧化（热氧化），刻蚀的话我们后面再讲。硅的氧化其中包含了在分立器件和集
光电所研制出实用深紫外光刻机
近日，中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Mask aligner），光刻分辨力达到500nm。 Mask aligner因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最广、使用数量最多的一种光刻设备。在现有的微纳加工工艺中，光刻所采用的波段是决定
透射式投影仪简介
透射式投影仪（Overhead projector）是一种将透明幻灯片放置在书写玻璃台上，利用灯光透过玻璃台进行照射成像的投影仪。这种投影仪方便即时书写，适合在课堂、办公室中进行讲解时使用。但如今随着计算机的发展已经被逐渐淘汰。
什么是纽曼投影式？
纽曼投影式（英语：Newman projection），简称纽曼式，是表示有机化合物立体结构的一种方法，由美国化学家梅尔文·斯宾塞·纽曼于1952年命名。它是沿碳-碳键的键轴的投影，以交叉的三根键表示位于前方的碳原子及其键，以被一个圆挡住的三根键表示位于后方的碳原子及其键。若该碳-碳键为重叠式构象，
菲舍尔投影式定理应用
例一方位法虽然能够直截了当找出基团的对应关系，但是如下图例1，如果题目已经将要转换的化学式的部分基团写明，让我们写出余下的对应的基团时，就需要一些技巧。解：为方便写出费歇尔投影式，首先要把纽曼投影式中的两个甲基旋转到全重叠位置。注意此时两个甲基写在费歇尔投影式的竖线上，表面相对于观察者来说即是“向后
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
什么是费歇尔投影式？
费歇尔投影式是德国化学家赫尔曼·埃米尔·费歇尔(Hermann Emil Fischer)为使得书写含手性碳原子的有机物变得更为简洁，于1891年提出的一种化学结构式。费歇尔投影式用两条交叉的线表示含碳化合物的四面体结构，相当于将球棍模型或透视式的3D结构分子经过扁平化，如此便可于纸平面上比较旋
什么是哈沃斯投影式？
哈沃斯投影式（英语：Haworth projection），是表示单糖、双糖或多糖所含单糖环形结构的一种常用方法，名称来源于英国化学家沃尔特·霍沃思（Walter Norman Haworth）。
费歇尔投影式的概念
费歇尔投影式是德国化学家赫尔曼·埃米尔·费歇尔(Hermann Emil Fischer)为使得书写含手性碳原子的有机物变得更为简洁，于1891年提出的一种化学结构式。费歇尔投影式用两条交叉的线表示含碳化合物的四面体结构，相当于将球棍模型或透视式的3D结构分子经过扁平化，如此便可于纸平面上比较旋光异
费歇尔投影式的简介
费歇尔投影式是德国化学家赫尔曼·埃米尔·费歇尔(Hermann Emil Fischer)为使得书写含手性碳原子的有机物变得更为简洁，于1891年提出的一种化学结构式。费歇尔投影式用两条交叉的线表示含碳化合物的四面体结构，相当于将球棍模型或透视式的3D结构分子经过扁平化，如此便可于纸平面上比较旋光异
哈沃斯投影式书写规则
①一般成环的原子只有氧和碳，氧原子会标注出来，碳原子一般省略，以折点表示。②1号碳称为异头碳，该半缩醛/酮碳原子是原非手性的羰基碳。由异头碳可衍生出两种异构体，称为端基差向异构体，半缩醛羟基与5号碳羟甲基在环平面异侧的定为α-异构体，反之定为β-异构体。③连到碳原子上的氢原子可以写出，也可省略。④粗