膜厚仪简介
膜厚仪又名膜厚测试仪，分为手持式和台式二种，手持式又有磁感应镀层测厚仪，电涡流镀层测厚仪，荧光X射线仪镀层测厚仪。手持式的磁感应原理是，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。......阅读全文
膜厚仪简介
膜厚仪又名膜厚测试仪，分为手持式和台式二种，手持式又有磁感应镀层测厚仪，电涡流镀层测厚仪，荧光X射线仪镀层测厚仪。手持式的磁感应原理是，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。
简介膜厚仪的使用
测定准备 （1）确保电池正负极方向正确无误后设定。 （2）探头的选择和设定：在探头上有电磁式和涡电流式2种类型。对准测定对象，在本体上进行设定。 测定方法 （1）探头的选择和安装方法：确认电源处于OFF状态，与测定对象的质地材质接触，安装LEP-J或LHP-J。 （2）调整：确认测定对
膜厚测试仪简介
膜厚测试仪，分为手持式和台式二种，手持式又有磁感应镀层测厚仪，电涡流镀层测厚仪，荧光X射线仪镀层测厚仪。手持式的磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。 台式的荧光X射线膜厚测试仪，是通过一次X射线穿透
简介膜厚仪电涡流测量原理
高频交流信号在测头线圈中产生电磁场，测头靠近导体时，就在其中形成涡流。测头离导电基体愈近，则涡流愈大，反射阻抗也愈大。这个反馈作用量表征了测头与导电基体之间距离的大小，也就是导电基体上非导电覆层厚度的大小。由于这类测头专门测量非铁磁金属基材上的覆层厚度，所以通常称之为非磁性测头。非磁性测头采用高
简介膜厚测试仪X射线衍射装置
简单地说萤光X射线装置(XRF)和X射线衍射装置(XRD)有何不同,萤光X射线装置(XRF)能得到某物质中的元素信息（物质构成,组成和镀层厚度）,X射线衍射装置(XRD)能得到某物质中的结晶信息。 具体地说,比如用不同的装置测定食盐(氯化钠=NaCl)时,从萤光X射线装置得到的信息为此物质由钠
膜厚测试仪的磁感应测量简介
采用磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。覆层越厚，则磁阻越大，磁通越小。利用磁感应原理的测厚仪，原则上可以有导磁基体上的非导磁覆层厚度。一般要求基材导磁率在500以上。如果覆层材料也有磁性，则要求与基
关于高温超导材料厚膜的简介
高温超导体厚膜主要用于HTS磁屏蔽、微波谐振器、天线等。它与薄膜的区别不仅仅是膜的厚度，还有沉积方式上的不同。其主要不同点在以下三个方面： (1)通常，薄膜的沉积需要使用单晶衬底； (2)沉积出的薄膜相对于衬底的晶向而言具有一定的取向度； (3)一般薄膜的制造需要使用真空技术。 获得厚膜
Thetametrisis膜厚仪的优势
FR-Mic膜厚仪是一款快 速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，要求的光斑尺寸小到几个微米，如微图案表面，粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控 制的XY工作台，使其快 速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。Thetametrisis膜厚仪利用 FR-Mic，通过紫外/ 可见
膜厚仪的操作步骤
膜厚仪的操作步骤测定准备（1）确保电池正负方向正确无误后设定。（2）探头的选择和设定：在探头上有电磁式和涡电流式2种类型。对准测定对象，在本体上进行设定。测定方法（1）探头的选择和安装方法：确认电源处于OFF状态，与测定对象的质地材质接触，安装LEP-J或LHP-J。（2）调整：确认测定对象已经被调
膜厚仪的使用步骤
膜厚仪的使用步骤测定准备（1）确保电池正负极方向正确无误后设定。（2）探头的选择和设定：在探头上有电磁式和涡电流式2种类型。对准测定对象，在本体上进行设定。测定方法（1）探头的选择和安装方法：确认电源处于OFF状态，与测定对象的质地材质接触，安装LEP-J或LHP-J。（2）调整：确认测定对象已经被