实验室检测仪器x射线光电子能谱仪的定义和用途
X射线光电子能谱技术(XPS)是电子材料与元器件显微分析中的一种先进分析技术,而且是和俄歇电子能谱技术(AES)常常配合使用的分析技术。由于它可以比俄歇电子能谱技术更准确地测量原子的内层电子束缚能及其化学位移,所以它不但为化学研究提供分子结构和原子价态方面的信息,还能为电子材料研究提供各种化合物的元素组成和含量、 化学状态、分子结构、化学键方面的信息。它在分析电子材料时,不但可提供总体方面的化学信息,还能给出表面、微小区域和深度分布方面的信息。另外,因为入射到样品表面的X射线束是一种光子束,所以对样品的破坏性非常小,这一点对分析有机材料和高分子材料非常有利。......阅读全文
实验室检测仪器x射线光电子能谱仪的定义和用途
X射线光电子能谱技术(XPS)是电子材料与元器件显微分析中的一种先进分析技术,而且是和俄歇电子能谱技术(AES)常常配合使用的分析技术。由于它可以比俄歇电子能谱技术更准确地测量原子的内层电子束缚能及其化学位移,所以它不但为化学研究提供分子结构和原子价态方面的信息,还能为电子材料研究提供各种化合物的元
X射线衍射仪的定义和用途
特征X射线及其衍射X射线是一种波长（0.06-20nm）很短的电磁波，能穿透一定厚度的物质，并能使荧光物质发光、照相机乳胶感光、气体电离。用高能电子束轰击金属靶产生X射线，它具有靶中元素相对应的特定波长，称为特征X射线。如铜靶对应的X射线波长为0.154056 nm。X射线衍射仪的英文名称是X-ra
X射线光电子能谱仪的仪器类别
03030707 /仪器仪表 /成份分析仪器指标信息： 主真空室：1×10-10 Torr XPS：0.5eV, AES: 分辨率：0.4%, 电子枪束斑：75nm , 灵敏度：1Mcps信噪比：大于70:1 角分辨：5°～90°. A1/Mg双阳极靶 能量分辨率：0.5eV ,灵敏度：255KCP
X射线光电子能谱仪的用途有哪些？
X射线光电子能谱仪（XPS）基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测其所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素组成及化学键状态的定性和定量分析，能进行最外层表面区域的分析，能进行除H和He以外所有元素的分析，灵敏度高，具备化学组成、价态、深度剖析及
X射线光电子能谱仪的主要用途
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括:1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式）3. 线扫描或面扫描
关于X射线光电子能谱仪的基本用途介绍
X射线光电子能谱仪的用途：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括: 1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。 2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子
X射线光电子能谱仪的主要用途
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括:1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯.2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式）3. 线扫瞄或面扫瞄
X射线光电子能谱仪的主要用途
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括:1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯.2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式）3. 线扫瞄或面扫瞄
简述X射线光电子能谱仪的主要用途
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括: 1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。 2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式） 3.
简述X射线异物检测仪的用途
工业用途 主要用于检测工业产品中的金属杂质.比如: 水产品、保健品、添加剂和调味品等食品中的铁金属以及非铁金属杂志的检测。 医药行业：片剂、粉剂。 服装行业：玩具、服装、鞋、箱包手袋等行业检测是否残留断针、钉子、以及产品结构和粘合剂度等。能检测出多种产品内的铁、非铁金属、SUS(Mesh
X射线光电子能谱分析定义及原理
X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是用X射线去辐射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子，可以测量光电子的能量，以光电子的动能为横坐标，相对强度(脉冲/s)为纵坐标可做出光电子能谱图，从而获得待
X射线光电子能谱分析的定义及原理
X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是用X射线去辐射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子，可以测量光电子的能量，以光电子的动能为横坐标，相对强度(脉冲/s)为纵坐标可做出光电子能谱图，从而获得待
X射线光电子能谱分析的定义及原理
X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是用X射线去辐射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子，可以测量光电子的能量，以光电子的动能为横坐标，相对强度(脉冲/s)为纵坐标可做出光电子能谱图，从而获得待
关于X射线光电子能谱仪的主要用途介绍
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内.X射线光电子能谱仪的 功能包括: 1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。 2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析（角分辨方式,,氩离子或团簇离
简述X射线的定义和特点
X射线是一种具有较短波长的高能电子波，由于内层轨道电子跃迁或高能电子减速产生，X射线的波长范围为0.01-10nm。介于紫外线和γ射线之间，并具有部分重叠峰。 X射线与可见光相比，除了具有波粒二象性的共同性质之外，还因其波长短、能量大而显示其特性： 1、穿透能力强； 2、折射率几乎等于1；
X射线光电子能谱仪原理
X射线光子的能量在1000～1500ev之间，不仅可使分子的价电子电离而且也可以把内层电子激发出来，内层电子的能级受分子环境的影响很小。 同一原子的内层电子结合能在不同分子中相差很小，故它是特征的。光子入射到固体表面激发出光电子，利用能量分析器对光电子进行分析的实验技术称为光电子能谱。 XPS的原理
X射线光电子能谱仪的发现
1895年11月8日晚，德国维尔茨堡大学校长兼物理研究所所长伦琴在实验室研究阴极射线。 为了防止外界光线对放电管的影响，也为了不使管内可见光漏出管外，他把房间全部弄黑，创造伸手不见五指的环境，他还用黑色硬纸给放电管做了个封套。为了检查封套是否漏光，他给放电管接上电源，发现没有漏光。但他切断电源
X射线光电子能谱仪的简介
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（
X射线光电子能谱仪的介绍
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（
X射线光电子能谱仪的介绍
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（
X射线光电子能谱仪的简介
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合
X射线光电子能谱仪的介绍
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合能（
X射线光电子能谱的原理和应用
一 X光电子能谱分析的基本原理 X光电子能谱分析的基本原理：一定能量的X光照射到样品表面，和待测物质发生作用，可以使待测物质原子中的电子脱离原子成为自由电子。该过程可用下式表示：hn=Ek+Eb+Er；其中：hn：X光子的能量；Ek：光电子的能量；Eb：电子的结合能；Er：原子的反冲能量。其中Er
X射线光电子能谱的起源和发展
1887年,海因里希·鲁道夫·赫兹发现了光电效应,1905年,爱因斯坦解释了该现象(并为此获得了1921年的诺贝尔物理学奖)。两年后的1907年,P.D. Innes用伦琴管、亥姆霍兹线圈、磁场半球(电子能量分析仪)和照像平版做实验来记录宽带发射电子和速度的函数关系,他的实验事实上记录了人类第一条X
X射线光电子能谱技术（XPS）的的仪器结构
XPS仪器设计与最早期的实验仪器相比,有了非常明显的进展,但是所有的现代XPS仪器都基于相同的构造:进样室、超高真空系统、X射线激发源、离子源、电子能量分析器、检测器系统、荷电中和系统及计算机数据采集和处理系统等组成。这些部件都包含在一个超高真空(Ultra High Vacuum,简称为UHV)封
多功能X射线光电子能谱仪
多功能X射线光电子能谱仪是一种用于物理学、生物学、基础医学、临床医学领域的分析仪器，于2018年1月22日启用。 技术指标 1. 分析室真空度：5×10-10 mbar 2. 最佳能量分辨率：0.43eV 3. 最小空间分辨率：1μm 4. Ag的3d5/2峰半峰宽为1eV时电子计数率
X射线光电子能谱
X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)技术也被称作用于化学分析的电子能谱(electron spectroscopy for chemical analysis,ESCA).XPS属表面分析法,它可以给出固体样品表面所含的元素种类、化学组成以及有
关于X射线光电子能谱仪的简介
X-射线光电子能谱仪，是一种表面分析技术，主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线，如Al Ka =1486.6eV，与样品表面相互作用，利用光电效应，激发样品表面发射光电子，利用能量分析器，测量光电子动能(K.E)，根据B.E=hv-K.E-W.F，进而得到激发电子的结合
X射线光电子能谱仪(XPS)的发展
X射线光电子能谱（XPS）也被称作化学分析电子能谱（ESCA）。该方法首先是在六十年代由瑞典科学家K.Siebabn 教授发展起来的。这种能谱最初是被用来进行化学元素的定性分析，现在已发展为表面元素定性、半定量分析及元素化学价态分析的重要手段。此外，配合离子束剥离技术和变角XPS技术，还可以进行
X射线粉末衍射仪用途
1，判断物质是否为晶体。2，判断是何种晶体物质。3，判断物质的晶型。4，计算物质结构的应力。5，定量计算混合物质的比例。6，计算物质晶体结构数据。7，和其他专业相结合会有更广泛的用途。比如可以通过晶体结构来判断物质变形，变性，反应程度等