中国科大研制出基于光学薄膜的平面型显微成像元件
近日，中国科学技术大学物理学院光电子科学与技术安徽省重点实验室/合肥微尺度物质科学国家研究中心教授张斗国研究组提出并实现了一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件，用作被测样本的载波片，可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像，从而获取高对比度的光学显微图像。研究成果以Planar photonic chips with tailored angular transmission for high-contrast-imaging devices为题，发表在Nature Communications上。 光学显微镜利用光学原理，把人眼不能分辨的微小物体放大成像，进而拓宽人类观察物质结构的空间尺度范围。通用的光学显微镜是明视场显微镜（Brightfield Microscopy），它利用光线照明，样本中各点依其光吸收的不同在明亮的背景中成像。但对于一些未经染色处理的生物标本或其他透明样本，由于对光线的吸收少......阅读全文
光学薄膜概论
光学薄膜概论光学工业除了镜片的研磨，系统之设计以外，有一项科技是发展高级光学仪器所不可缺的，就是光学薄膜的蒸镀技术。何谓光学薄膜，就是在镜片上镶上一层或多层非常薄的特殊材料，使镜片能达到某种特定的光学效果。我们所常见的太阳眼镜，抗反射镜片就是一个光学薄膜在日常生活上zui简单的应用 。其他如各种反射
光学薄膜的应用
光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。
光学薄膜的分类
光学薄膜的分类 光学薄膜是由膜的分层介质构成，通过界面传播光束的一类光学介质材料，它的应用始于20世纪30年代，现在已广泛应用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。 传统光学薄膜 传统的光学薄膜是以光的干涉为基础。光波是一种电磁波，根据其波长的不同可分成红外线、可见光和
光学薄膜的定义
由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。
光学薄膜的应用特点
光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而
光学薄膜技术介绍
薄膜应力研究的重要性 光学多层膜系统已经广泛的应用于微电子系统，光学系统等，而由于薄膜应力的存在，对系统的功能与可*性产生很大的影响，它不仅会直接导致薄膜的龟裂、脱落，使薄膜损坏，而且会作用基体，使基体发生形变，从而使通过薄膜组件的光波前发生畸变，影响传输特性。更重要的是，薄膜在激光辐照下，由于
光学薄膜缺陷的特点
光学薄膜缺陷的特点 薄膜缺陷的研究大约从1970开始，刚开始薄膜缺陷被表征为薄膜表面特征，认为是一种典型的粗糙度，在一些文献中薄膜缺陷被描述为节瘤。 Guenther首先对光学薄膜缺陷进行研究，他指出节瘤是在镀膜过程中对外部干扰颗粒形状相似复制而形成的；现在薄膜缺陷越来越引起人们的重视，很多文献建
NanoCalc光学薄膜厚度测量系统
NanoCalc 光学薄膜厚度测量系统NanoCalc是一种用户可配置的膜厚测量系统，它利用分光光谱反射仪来精确地测量光学或非光学薄膜厚度，可广泛应用于半导体、医疗和工业生产中。利用白光干涉测量法的原理，NanoCalc用一个宽波段的光源来测得不同波长的反射数据，由于反射率n和k随膜厚的不同而变化，
光学薄膜的应用和结构特点
光学薄膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4种。光学反射膜用以增加镜面反射率，常用来制造反光、折光和共振腔器件。光学增透膜沉积在光学元件表面，用以减少表面反射，增加光学系统透射，又称减反射膜。光学滤光膜用来进行光谱或其他光性分割，其种类多，结构复杂。光学
豪迈集团海洋光学薄膜分部独立成新公司
微型光子学行业的领军人，海洋光学宣布旗下薄膜分部独立成为一家新公司，取名为海洋薄膜公司(www.oceanthinfilms.com ), 主要应用在科学、生物医药、国防、计量和娱乐行业，设计和制造获得ZL的二向色滤光片及精密光学部件。 始创于1999年，海洋薄膜最初为海洋光学的分部，
NanoCalc光学薄膜厚度测量系统产品主要优势和特点
产品主要优势和特点UV/VIS/NIR高分辨率的配置测量准确度在1nm，精度在0.1nm可测量最大10层薄膜膜厚测量最小可至1nm，最大可至1mm可测量最小1nm厚的透明金属层提供试验台及附件用于复杂外形材料的测量对表面缺陷和光滑度不敏感庞大的材质数据库，保证各种材料的精确测量快 速：每次
Nature－Communications:我国研制光学薄膜的平面显微成像元件
近日，中国科大物理学院光电子科学与技术安徽省重点实验室/合肥微尺度物质科学国家研究中心张斗国教授研究组提出并实现了一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件，用作被测样本的载波片，可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像，而获取高对比度的光学显微图像。研究成果以“Planar phot
高性能特种光学薄膜技术及应用研讨会
现代光学技术领域中，光学薄膜技术在需求的牵引下已经成为产业化技术, 它已涉及物理、化学、电子学、冶金学等学科，有着十分广泛的应用，尤其是在国防、通讯、航空、航天、电子工业、光学工业等方面有着特殊的应用。为了推动我国高性能特种光学薄膜技术的发展，中国光学工程学会联合多家单位举办光学薄膜技
光电所在光学薄膜厚度均匀性控制技术方面取得进展
中国科学院光电技术研究所深紫外镀膜课题组在光刻机镜头镀膜技术上取得一系列进展，提出并实现了数种提高光学薄膜厚度均匀性的办法，克服了大口径大曲面镜头上薄膜厚度均匀性控制的难题。 光刻机镜头中包含大量的曲面光学镜头，随着光刻机数值孔径增大，部分光学镜面的口径增大且形状逐步接近于半球，镜面上镀膜后的
我国光学薄膜精密微复制技术取得重大突破
经过3年科技攻关，我国光学薄膜精密微复制技术取得重大突破，成功打破国外技术垄断。这是记者10日从湖北省国防科工办和湖北航天化学技术研究所获得的消息。 据介绍，光学薄膜精密微复制技术是在光学薄膜基材表面精密涂布特定配方树脂，然后在拥有特定设计纳微尺度几何结构的雕刻辊上成型的技术。其广泛应用于液
中国科大研制出基于光学薄膜的平面型显微成像元件
近日，中国科学技术大学物理学院光电子科学与技术安徽省重点实验室/合肥微尺度物质科学国家研究中心教授张斗国研究组提出并实现了一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件，用作被测样本的载波片，可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像，从而获取高对比度的光学显微图像。研究成果以Planar ph
光学薄膜检测和测水质的光纤光谱仪科谱介绍
在薄膜的实际生产过程中，由于各方面因素的影响，薄膜表面会出现诸如孔洞、蚊虫、黑点、晶点、划伤、斑点等瑕疵，严重影响了薄膜的质量，给生产商带来了不必要的损失。人眼往往不能及时准确的判断出瑕疵，而薄膜表面瑕疵缺陷检测系统能在线对生产过程中产生的表面缺陷瑕疵进行高速、精确的检测，显示和识别薄膜表面上的
中国科大研制出基于光学薄膜的平面型显微成像元件
近日，中国科学技术大学物理学院光电子科学与技术安徽省重点实验室/合肥微尺度物质科学国家研究中心教授张斗国研究组提出并实现了一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件，用作被测样本的载波片，可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像，从而获取高对比度的光学显微图像。研究成果以Planar
大连化物所揭示化学激光腔镜薄膜自洁净机理
近日，中国科学院大连化学物理研究所化学激光研究室研究员金玉奇、李刚团队在化学激光腔镜薄膜与增益介质的相互作用机理研究中取得进展，揭示了环境吸附对化学激光腔镜薄膜表面润湿性能的重要影响，并进一步通过引入纯化和钝化处理工艺，实现了对薄膜亲疏水特性的显著调控，为解决环境污染易影响高品质强光元件的损伤阈
韩国KMAC诚招代理商
韩国K-MAC 成立于1996年，专业研发和生产光学测量仪器设备，产品包括光学薄膜测厚仪、微型紫外/可见分光光度计、表面等离子共振仪等，广泛运用于半导体、平板显示器，电子物质，生命科学和化学分析上。韩国K-MAC进入中国市场以来，一直致力于为客户提供最优质的产品和技术
[光学]镀膜的定义
中文名称[光学]镀膜英文名称optical thin film deposition定 义在光学零件表面上镀上一层或多层光学薄膜的工艺过程。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），光学仪器一般名词（三级学科）
[光学]镀膜的定义
中文名称[光学]镀膜英文名称optical thin film deposition定 义在光学零件表面上镀上一层或多层光学薄膜的工艺过程。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），光学仪器一般名词（三级学科）
上半年安徽省高新技术领域一批重大项目通过验收
今年上半年，安徽省高新领域“基于数字电视的智能语音交互平台研发及应用示范”等12项重大项目顺利通过验收。 这批通过验收的项目取得了一大批创新技术成果。据统计，12项通过验收的重大项目共申请ZL166项，其中申请发明ZL66项；获得ZL授权89项，其中获得发明ZL授权20项。还制定了各类行业
我国学者研制出可拓展成像质量的新型光学元件
记者从中国科学技术大学获悉，近期该校张斗国教授研究组研制出一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件，用于被测样本的载玻片，可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像，获取高对比度的光学显微图像。 利用光学原理，光学显微镜可把人眼不能分辨的微小物体放大成像。常规的光学显微镜是明场显微镜
Horiba－Jobin－Yvon－椭圆偏振光谱仪共享应用
仪器名称：椭圆偏振光谱仪仪器编号：10013202产地：中国生产厂家：Horiba Jobin Yvon型号：UVISEL出厂日期：201009购置日期：201009所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>测试与分析放置地点：集成电路学院一层超净间内测试间固定电话：固定手机：固定email：sux@m
Horiba－Jobin－Yvon－椭圆偏振光谱仪共享应用
仪器名称：椭圆偏振光谱仪仪器编号：10013202产地：中国生产厂家：Horiba Jobin Yvon型号：UVISEL出厂日期：201009购置日期：201009所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>测试与分析放置地点：集成电路学院一层超净间内测试间固定电话：固定手机：固定email：sux@m
纳米压痕仪仪器介绍
纳米压痕仪主要用于测量纳米尺度的硬度与弹性模量，可以用于研究或测试薄膜等纳米材料的接触刚度、蠕变、弹性功、塑性功、断裂韧性、应力-应变曲线、疲劳、存储模量及损耗模量等特性。可适用于有机或无机、软质或硬质材料的检测分析，包括PVD、CVD、PECVD薄膜，感光薄膜，彩绘釉漆，光学薄膜，微电子镀膜，保护
纳米压痕仪的介绍
纳米压痕仪主要用于测量纳米尺度的硬度与弹性模量，可以用于研究或测试薄膜等纳米材料的接触刚度、蠕变、弹性功、塑性功、断裂韧性、应力-应变曲线、疲劳、存储模量及损耗模量等特性。可适用于有机或无机、软质或硬质材料的检测分析，包括PVD、CVD、PECVD薄膜，感光薄膜，彩绘釉漆，光学薄膜，微电子镀膜，
深圳市政府资助500万项目补助用于购买仪器设备
深纺织A(000045)晚间公告称，公司全资子公司深圳市盛波光电科技有限公司近日收到深圳市政府给予的500万元项目补助资金，将用于购买仪器设备。 公告显示，深纺织A获得补助的项目是“深圳偏光材料及技术工程实验室”，该实验室总投资为2439万元，建设期为2012-2013年，建成后将开展偏光
纳米压痕仪的概述
纳米压痕技术也称深度敏感压痕技术，是最简单的测试材料力学性质的方法之一，在材料科学的各个领域都得到了广泛的应用。 纳米压痕仪，又称纳米压入仪，主要用于微纳米尺度薄膜材料的硬度与杨氏模量测试，测试结果通过力与压入深度的曲线计算得出，无需通过显微镜观察压痕面积。适用于有机或无机、软质或硬质材料的检