[光学]镀膜的定义
中文名称[光学]镀膜英文名称optical thin film deposition定 义在光学零件表面上镀上一层或多层光学薄膜的工艺过程。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），光学仪器一般名词（三级学科）......阅读全文
光学玻璃的定义和功能介绍
能改变光的传播方向，并能改变紫外、可见或红外光的相对光谱分布的玻璃。狭义的光学玻璃是指无色光学玻璃；广义的光学玻璃还包括有色光学玻璃、激光玻璃、石英光学玻璃、抗辐射玻璃、紫外红外光学玻璃、纤维光学玻璃、声光玻璃、磁光玻璃和光变色玻璃。光学玻璃可用于制造光学仪器中的透镜、棱镜、反射镜及窗口等。由光学玻
2024.4.911深圳光学镀膜技术及设备展览展展商报名
CPOE2024中国(深圳)国际精密光学展览会地 点：深圳会展中心展览时间：2024年4月9-11日参展咨询：021-5416 3212大会负责人：李经理 136 5198 3978【指导单位】中国电子器材有限公司工业和信息化部深圳市人民政府各省市电子器材公司台湾区电机电子工业同业公会中国电子元件行
光学显微镜与非光学显微镜的定义区别？
光学显微镜与非光学显微镜的定义区别是光学显微镜一般由载物台、聚光照明系统、物镜，目镜和调焦机构组成。载物台用于承放被观察的物体。利用调焦旋钮可以驱动调焦机构，使载物台作粗调和微调的升降运动，使被观察物体调焦清晰成象。它的上层可以在水平面内沿作精密移动和转动，一般都把被观察的部位调放到视场中心。电子显
真空镀膜的概念
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
与真空镀膜相比，离子镀膜有哪些优点
通过真空镀膜技术的应用,使塑料表面金属化,将有机材料和无机材料结合起来,大提高了它的物理、化学性能.其优点主要表现在：改善美观,表面光滑,金属光泽彩色化,装饰性大大提高；改善表面硬度,原塑胶表面比金属软而易受损害,通过真空镀膜,硬度及耐磨性大大增加；提高耐候性,一般塑料在室外老化很快,主要原因是紫外
光学纤维镜与非光学显微镜定义及区别
光学显微镜一般由载物台、聚光照明系统、物镜，目镜和调焦机构组成。载物台用于承放被观察的物体。利用调焦旋钮可以驱动调焦机构，使载物台作粗调和微调的升降运动，使被观察物体调焦清晰成象。它的上层可以在水平面内沿作精密移动和转动，一般都把被观察的部位调放到视场中心。电子显微镜：1924年法国物理学德布罗意（
光学检测仪的定义和原理叙述
光学检测仪英文名（AutomaticOpticInspection），简称：AOI,是基于光学原理来对焊接生产中遇到的常见缺陷进行检测的设备。 AOI 软件中有一个综合性的验证功能，它能减少检查的误报，保证检测程序无缺陷。它可以检查储存起来的有缺陷的样品，例如，修理站存放的样品，以及印刷了焊膏
电镀膜厚仪
XRF2000镀层测厚仪检测电子电镀,化学镀层厚度,如镀金,镀镍,镀铜,镀铬,镍锌,镀银,镀钯...可测单层,双层,多层,合金镀层,测量范围:0.04-35um测量精度:±5%,测量时间只需30秒便可准确知道镀层厚度全自动台面,操作非常方便简单XRF2000镀层测厚仪,提供金属镀层厚度的测量，同时可
真空镀膜技术与湿式镀膜技术对比
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无
常见的光源与镀膜介绍
光源与镀膜：LED光源、同轴光源、光学镀膜、环形灯；
真空镀膜的技术分类
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时
真空镀膜的方法介绍
真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000
真空镀膜的常用方法
(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放
AR镀膜减反射玻璃－AR镀膜设备应用于哪些领域
AR镀膜减反射玻璃 AR镀膜设备应用于哪些领域 AR镀膜减反射玻璃，是一种将玻璃表面进行特殊处理的玻璃，其与普通玻璃相比具有较低的反射比。 AR镀膜设备主要应用： 在普通的钢化玻璃表面镀膜，从而提高了钢化玻璃表面的透光率以及实现了易清洁功能。同时还延长了玻璃的寿命。AR镀膜
AR镀膜减反射玻璃－AR镀膜设备应用于哪些领域
AR镀膜减反射玻璃 AR镀膜设备应用于哪些领域 AR镀膜减反射玻璃，是一种将玻璃表面进行特殊处理的玻璃，其与普通玻璃相比具有较低的反射比。 AR镀膜设备主要应用： 在普通的钢化玻璃表面镀膜，从而提高了钢化玻璃表面的透光率以及实现了易清洁功能。同时还延长了玻璃的寿命。AR镀膜
变形光学系统的定义和主要应用
中文名称变形光学系统英文名称anamorphotic optical system定 义像面上两正交方向上的横向放大率不等的光学系统。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），光学仪器一般名词（三级学科）
附加光学系统的定义和主要应用
中文名称附加光学系统英文名称attachment optical system定 义在光学系统中，为了改变焦距、放大率等目的而附加的一种光学系统。应用学科机械工程（一级学科），光学仪器（二级学科），光学仪器一般名词（三级学科）
「主办方」精密光学展/2024深圳真空镀膜设备展览会丨官宣
CPOE2024中国(深圳)国际精密光学展览会地 点：深圳会展中心展览时间：2024年4月9-11日参展咨询：021-5416 3212大会负责人：李经理 136 5198 3978【指导单位】中国电子器材有限公司工业和信息化部深圳市人民政府各省市电子器材公司台湾区电机电子工业同业公会中国电子元件行
光学显微镜效率怎么定义和计算
一、数值孔径数值孔径简写NA，数值孔径是物镜和聚光镜的主要技术参数，是判断两者（尤其对物镜而言）性能高低的重要标志。其数值的大小，分别标刻在物镜和聚光镜的外壳上。数值孔径（NA）是物镜前透镜与被检物体之间介质的折射率（n）和孔径角（u）半数的正弦之乘积。用公式表示如下：NA=nsinu/2孔径角又称
真空镀膜的技术优势
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无
常用的物理镀膜方法有几种
一.光学镀膜材料（纯度：99.9%-99.9999%） 1. 高纯氧化物： 一氧化硅、SiO，二氧化铪、HfO2，二硼化铪，氯氧化铪，二氧化锆、ZrO2，二氧化钛、TiO2，一氧化钛、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二钛、Ti2O3，五氧化三钛、Ti3O5，五氧化二钽、Ta2O5，五氧化二铌、
为什么要在镜片上镀膜？
当光源（波）由一种传播介质到另外一种传播介质时，初始光源的强度将会由透过部分和反射部分以及材质本身吸收衰减三部分组成，材质的吸收衰减只能通过更换材质来降低，而被反射的部分就需要通过不同的膜料膜层堆叠来减少，以达到增加光源在该镜片基材的透过率。在使用该光学镜片时，就能得到更小的光衰，按照这个思路就不难
磁控溅射镀膜机共享
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
真空镀膜技术分类
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时
真空金属镀膜（VMD）技术浅谈
真空金属镀膜技术 在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法称为真空镀膜，目前在工业领域应用较多的为真空蒸镀和溅射镀膜两种镀膜技术。真空镀膜技术真正应用是在1930年油扩散泵和机械泵技术推出后。1935年研制出采用真空沉积技术的减反射膜，并在1945年应用于眼镜
真空镀膜技术简介
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的
真空镀膜机的结构原理
一、电控柜的操作 1. 开水泵、气源 2. 开总电源 3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。 4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。 5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关
磁控溅射镀膜机共享应用
仪器名称：磁控溅射镀膜机仪器编号：13001328产地：中国生产厂家：创世威纳科技公司型号：MSP-3200T出厂日期：201301购置日期：201301所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：一楼平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：魏治乾（010-62781090,19
镀膜机使用注意事项
1、定期清洁真空室并尽量抹干，每次都彻底洗干净，以免造成越来越难洗的现象。烘干后再镀膜，头一炉应比原来延长四倍时间才镀膜。 2、定期更换扩散泵油，更换真空泵及罗茨泵油。更换扩散泵油前一定要确认真空度是否低于1X102Pa，扩散泵里面的油温是否彻底冷却到常温状态后，方可进行加热或充大气进行拆卸，
真空镀膜机清洗的工艺要求
真空工艺进行前应清洗真空材料，从工件或系统材料表面清除污染物；真空零部件的表面清洗处理也是非常有必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源不仅会使真空系统不能获得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同时也会影响真空部件连接处的强度和密封性能。 污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”，根据