常用的物理镀膜方法有几种

一.光学镀膜材料(纯度:99.9%-99.9999%) 1. 高纯氧化物: 一氧化硅、SiO,二氧化铪、HfO2,二硼化铪,氯氧化铪,二氧化锆、ZrO2,二氧化钛、TiO2,一氧化钛、TiO,二氧化硅、SiO2,三氧化二钛、Ti2O3,五氧化三钛、Ti3O5,五氧化二钽、Ta2O5,五氧化二铌、Nb2O5,三氧化二铝、Al2O3,三氧化二钪、Sc2O3,三氧化二铟、In2O3,二钛酸镨、Pr(TiO3)2,二氧化铈、CeO2,氧化镁、MgO,三氧化钨、WO3,氧化钐、Sm2O3,氧化钕、Nd2O3,氧化铋、Bi2O3,氧化镨、Pr6O11,氧化锑、Sb2O3,氧化钒、V2O5,氧化镍、NiO,氧化锌、ZnO,氧化铁、Fe2O3,氧化铬、Cr2O3,氧化铜、CuO等。 2. 高纯氟化物: 氟化镁、MgF2,氟化镱、YbF3,氟化钇、LaF3,氟化镝、DyF3,氟化钕、NdF3,氟化铒、ErF3,氟化钾、KF,氟化锶、SrF......阅读全文

常用的物理镀膜方法有几种

一.光学镀膜材料(纯度:99.9%-99.9999%)  1. 高纯氧化物:  一氧化硅、SiO,二氧化铪、HfO2,二硼化铪,氯氧化铪,二氧化锆、ZrO2,二氧化钛、TiO2,一氧化钛、TiO,二氧化硅、SiO2,三氧化二钛、Ti2O3,五氧化三钛、Ti3O5,五氧化二钽、Ta2O5,五氧化二铌、

光学镀膜简介

光学镀膜由薄膜层组合制作而成,它产生干扰效应来提高光学系统内的透射率或反射性能。光学镀膜的性能取决于层数、个别层的厚度和不同的层接口折射率。用于精密光学的zui常见镀膜类型:增透膜(AR)、高反射(镜)膜、 分光镜膜和过滤光片膜。增透膜包括在高折射率的光学中并用于zui大化光

镀膜过程监控

光谱仪 AvaSpec-ULS2048(200-1100nm)软件 AvaSoft-Full软件和XLS或PROC应用软件光源 AvaLight-DH-S-BAL均衡光谱型氘-卤素灯光纤探头 1根FCR-7UV200-2-ME反射型光纤探头,1根FC-UV600-2光纤和1根FC-UV200-2光纤

与真空镀膜相比,离子镀膜有哪些优点

通过真空镀膜技术的应用,使塑料表面金属化,将有机材料和无机材料结合起来,大提高了它的物理、化学性能.其优点主要表现在:改善美观,表面光滑,金属光泽彩色化,装饰性大大提高;改善表面硬度,原塑胶表面比金属软而易受损害,通过真空镀膜,硬度及耐磨性大大增加;提高耐候性,一般塑料在室外老化很快,主要原因是紫外

电镀膜厚仪

XRF2000镀层测厚仪检测电子电镀,化学镀层厚度,如镀金,镀镍,镀铜,镀铬,镍锌,镀银,镀钯...可测单层,双层,多层,合金镀层,测量范围:0.04-35um测量精度:±5%,测量时间只需30秒便可准确知道镀层厚度全自动台面,操作非常方便简单XRF2000镀层测厚仪,提供金属镀层厚度的测量,同时可

[光学]镀膜的定义

中文名称[光学]镀膜英文名称optical thin film deposition定  义在光学零件表面上镀上一层或多层光学薄膜的工艺过程。应用学科机械工程(一级学科),光学仪器(二级学科),光学仪器一般名词(三级学科)

[光学]镀膜的定义

中文名称[光学]镀膜英文名称optical thin film deposition定  义在光学零件表面上镀上一层或多层光学薄膜的工艺过程。应用学科机械工程(一级学科),光学仪器(二级学科),光学仪器一般名词(三级学科)

真空镀膜技术与湿式镀膜技术对比

真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较,具有下列优点:(1)薄膜和基体选材广泛,薄膜厚度可进行控制,以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜,环境清洁,薄膜不易受到污染,因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好,薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液,也无

AR镀膜减反射玻璃-AR镀膜设备应用于哪些领域

  AR镀膜减反射玻璃 AR镀膜设备应用于哪些领域   AR镀膜减反射玻璃,是一种将玻璃表面进行特殊处理的玻璃,其与普通玻璃相比具有较低的反射比。   AR镀膜设备主要应用:   在普通的钢化玻璃表面镀膜,从而提高了钢化玻璃表面的透光率以及实现了易清洁功能。同时还延长了玻璃的寿命。AR镀膜

AR镀膜减反射玻璃-AR镀膜设备应用于哪些领域

  AR镀膜减反射玻璃 AR镀膜设备应用于哪些领域   AR镀膜减反射玻璃,是一种将玻璃表面进行特殊处理的玻璃,其与普通玻璃相比具有较低的反射比。   AR镀膜设备主要应用:   在普通的钢化玻璃表面镀膜,从而提高了钢化玻璃表面的透光率以及实现了易清洁功能。同时还延长了玻璃的寿命。AR镀膜

真空镀膜的概念

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。

真空镀膜的方法介绍

真空镀膜的方法很多,计有:(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000

常见的光源与镀膜介绍

光源与镀膜:LED光源、同轴光源、光学镀膜、环形灯;

真空镀膜的常用方法

(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放

真空金属镀膜(VMD)技术浅谈

真空金属镀膜技术 在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法称为真空镀膜,目前在工业领域应用较多的为真空蒸镀和溅射镀膜两种镀膜技术。真空镀膜技术真正应用是在1930年油扩散泵和机械泵技术推出后。1935年研制出采用真空沉积技术的减反射膜,并在1945年应用于眼镜

磁控溅射镀膜机共享

仪器名称:磁控溅射镀膜机仪器编号:13001328产地:中国生产厂家:创世威纳科技公司型号:MSP-3200T出厂日期:201301购置日期:201301所属单位:集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点:一楼平台固定电话:固定手机:固定email:联系人:魏治乾(010-62781090,19

为什么要在镜片上镀膜?

当光源(波)由一种传播介质到另外一种传播介质时,初始光源的强度将会由透过部分和反射部分以及材质本身吸收衰减三部分组成,材质的吸收衰减只能通过更换材质来降低,而被反射的部分就需要通过不同的膜料膜层堆叠来减少,以达到增加光源在该镜片基材的透过率。在使用该光学镜片时,就能得到更小的光衰,按照这个思路就不难

真空镀膜技术简介

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的

真空镀膜的技术分类

真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得,它利用某种物理过程,如物质的热蒸发,或受到离子轰击时

真空镀膜技术分类

真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得,它利用某种物理过程,如物质的热蒸发,或受到离子轰击时

真空镀膜的技术优势

真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较,具有下列优点:(1)薄膜和基体选材广泛,薄膜厚度可进行控制,以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜,环境清洁,薄膜不易受到污染,因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好,薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液,也无

镀膜机使用注意事项

  1、定期清洁真空室并尽量抹干,每次都彻底洗干净,以免造成越来越难洗的现象。烘干后再镀膜,头一炉应比原来延长四倍时间才镀膜。  2、定期更换扩散泵油,更换真空泵及罗茨泵油。更换扩散泵油前一定要确认真空度是否低于1X102Pa,扩散泵里面的油温是否彻底冷却到常温状态后,方可进行加热或充大气进行拆卸,

磁控溅射镀膜机共享应用

仪器名称:磁控溅射镀膜机仪器编号:13001328产地:中国生产厂家:创世威纳科技公司型号:MSP-3200T出厂日期:201301购置日期:201301所属单位:集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点:一楼平台固定电话:固定手机:固定email:联系人:魏治乾(010-62781090,19

真空镀膜机的结构原理

一、电控柜的操作 1. 开水泵、气源 2. 开总电源 3. 开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。 4. 开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。 5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后,关

超高真空多靶磁控溅射镀膜仪

  超高真空多靶磁控溅射镀膜仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器,于2010年2月21日启用。  技术指标  双室磁控溅射系统,极限压力:主溅射室,6.67*10-6Pa,2、永磁靶5套,三个直流电源,两个射频电源,靶材直径60mm;3、6个样品工位,尺寸直径30mm,基片加热最高600度,退火

苹果公司提交稀土磁体镀膜ZL申请

苹果公司提交稀土磁体镀膜ZL申请   北京时间7月12日凌晨消息,苹果公司已经提交了一项ZL申请,内容是一种对稀土磁体进行镀膜的方法,可令便携式电子设备变成冰箱磁体和iWatch元素。   这项ZL申请的文件名称是“Unibody Magnet”(一体化磁体),文件指出标准的稀土磁体(例如用

新越引德国真空镀膜技术

  福建新越金属材料科技公司总投资近12亿的真空连续镀膜生产线近日在福建省永安市投产并举行蓝膜生产基地落成典礼。   此次从德国引进世界最先进的连续真空镀膜设备,主要有太阳能热吸收材料、高反射镜面、装饰性镀膜等。据介绍,新越真空镀膜生产线全长约150米,整条生产线只需8—10名操作者,通过全自动化

光学玻璃的种类及其镀膜方法介绍

  光学玻璃的种类及其镀膜方法介绍   玻璃作为一种较古老的材料,不但能用于建筑、艺术领域,现在还经常用在医疗、仪表等方面。不同种类的玻璃有着不同的特性,在使用时必须要注意。然而大部分人对于玻璃不够了解,经常造成一些误会与麻烦。我们将在本篇文章中分析光学玻璃有哪些不同种类,介绍玻璃表面有几种镀膜

光学玻璃的种类及其镀膜方法介绍

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光学玻璃的种类及其镀膜方法介绍

  光学玻璃的种类及其镀膜方法介绍   玻璃作为一种较古老的材料,不但能用于建筑、艺术领域,现在还经常用在医疗、仪表等方面。不同种类的玻璃有着不同的特性,在使用时必须要注意。然而大部分人对于玻璃不够了解,经常造成一些误会与麻烦。我们将在本篇文章中分析光学玻璃有哪些不同种类,介绍玻璃表面有几种镀膜