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真空工艺进行前应清洗真空材料，从工件或系统材料表面清除污染物；真空零部件的表面清洗处理也是非常有必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源不仅会使真空系统不能获得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同时也会影响真空部件连接处的强度和密封性能。 污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”，根据污染物的物理状态可分为固体、气体及液体，它们以膜或散粒形式存在。就其化学特征来看，它可以处于离子态或共价态，可以是无机物或有机物。 暴露在空气中的表面最易受到污染，污染的来源有很多种，最初的污染通常是表面本身形成过程中的一部分。吸附现象、化学反应、浸析和干燥过程、机械处理以及扩散和离析过程都使各种成分的表面污染物增加。 真空镀膜加工厂表示，比较常见的真空材料表面上的污染物具体有以下几种类型： 1、油脂：加工、装配、操作时沾染上的润滑剂、切削液、真空油脂等； 2、酸、碱、盐类物质：清洗时的残余物质、手汗、水中的矿物质等； 3、......阅读全文
真空金属镀膜技术 在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法称为真空镀膜，目前在工业领域应用较多的为真空蒸镀和溅射镀膜两种镀膜技术。真空镀膜技术真正应用是在1930年油扩散泵和机械泵技术推出后。1935年研制出采用真空沉积技术的减反射膜，并在1945年应用于眼镜
电子显微镜领域需要对样本进行镀膜处理才能改善样本的成像效果。在样本上形成一层金属导电层可抑制电荷聚积、减少热损伤，并改善SEM对样品拓扑结构检测所需的二次电子信号量。在x射线显微分析中，网格上支持膜，TEM观察复型样品中的背底支撑膜，涉及既对电子束透明但同时具备导电效果的精细碳膜。具体需要采用的镀膜
通过将多个超快光纤激光进行相干合成，可以克服单根光纤的功率限制。在这种相干合成装置中，一般采用偏振分束器（PBS）用于合束（如图1（a）所示），不过这种装置复杂度较高，而且随着合成通道数的增多，占用体积也会越来越大。德国耶拿课题组提出了分段反射率分束器（SMS）的合成办法，如图1（b）（c）
样品制备对扫描电镜观察来说也至关重要，样品如果制备不好可能会对观察效果有重大影响。通常希望观察的样品有尽可能好的导电性，否则会引起荷电现象，导致电镜无法进行正常观察；另外样品还需要有较好的导热性，否则轰击点位置温度升高，使得试样中的低熔点组分挥发，形成辐照损伤，影响真实的形貌观察。如果要进行EDS/
这是首批完成镀膜工艺的6片镜面，它们现在正在宇航局马歇尔空间飞行中心准备接受超低温性能测试。 北京时间9月20日消息，美国宇航局下一代空间望远镜——詹姆斯·韦伯空间望远镜日前迎来其建造过程中的一个里程碑。位于新泽西莫尔斯顿（Moorestown）的量子镀膜公司（Quantum
实验概要本文介绍了扫描电镜的样本处理，主要包括：样品的初步处理，样品的干燥，样品的导电处理，细胞内部结构冷冻割断法和铸型技术。实验步骤1. 样品的初步处理 1) 取材 取材的基本要求和透射电镜样品制备相同。但是，对扫描电镜来说，样品可以稍大些，面积可达8mm×8mm，厚度可达
1样品处理的要求 扫描电子显微镜的优势为可以直接观察非常粗糙的样品表面，参差起伏的材料原始断口。但其劣势为样品必须在真空环境下观察，因此对样品有一些特殊要求,笼统的讲：干燥，无油，导电。 1形貌形态，必须耐高真空。 例如有些含水量很大的细胞，在真空中很快被抽干水分，细胞的形态也发生了改变，
一、样品处理的要求 扫描电子显微镜的优势为可以直接观察非常粗糙的样品表面，参差起伏的材料原始断口。但其劣势为样品必须在真空环境下观察，因此对样品有一些特殊要求,笼统的讲：干燥，无油，导电。 1 形貌形态，必须耐高真空。 例如有些含水量很大的细胞，在真空中很快被抽干水分，细胞的形态也发生了改
通过冷冻断裂生成图像 冷冻断裂和冷冻蚀刻技术往往采用高真空精细镀膜技术，将超细腻重金属和碳薄膜沉积于断裂表面。冷冻断裂样本在一定角度下用金属覆盖，然后在碳背衬膜（徕卡EM ACE600冷冻断裂或徕卡EM ACE900与徕卡EM VCT500）上生成复型进行TEM成像或在SEM的试块面上进行
光学镀膜由薄膜层组合制作而成，它产生干扰效应来提高光学系统内的透射率或反射性能。光学镀膜的性能取决于层数、个别层的厚度和不同的层接口折射率。用于精密光学的zui常见镀膜类型：增透膜(AR)、高反射（镜）膜、 分光镜膜和过滤光片膜。增透膜包括在高折射率的光学中并用于zui大化光
1.对试样的要求：试样可以是块状或粉末颗粒，在真空中保持稳定，含有水分的试样应先烘干除去水分，或使用临界点干燥设备进行处理。表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干。新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的结构状态。有些试样的表面、断口需要进行适当
1 ．对试样的要求：试样可以是块状或粉末颗粒，在真空中能保持稳定，含有水分的试样应先烘干除去水分，或使用临界点干燥设备进行处理。表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干。新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的结构状态。有些试样的表面、断口需要进行
成都中科唯实根据公司整体战略发展规划，与北京中科科仪结成战略合作伙伴，进入真空领域，具备了真空技术的研发能力，继真空阀门和真空计实现批量生产后，近期以全自动镀膜设备的研制为切入点，进军战略新兴产业。 为进一步提升成都中科唯实的真空技术实力，加快真空事业的发展，公司引进了成都腾工米尼真空镀膜
目前市场上常见的金黄色、钴铜色、黑色等钻头、铣刀、模具等，这些器具都是经过镀膜技术加工后的涂层工具。经过涂层处理后的硬质合金刀片可以延长刀具寿命并且满足一些特殊的应用，刀具上的颜色不同也就说明涂镀不同的涂层。 镀膜机检漏原因：镀膜机需要在高真空环
目前市场上常见的金黄色、钴铜色、黑色等钻头、铣刀、模具等，这些器具都是经过镀膜技术加工后的涂层工具。经过涂层处理后的硬质合金刀片可以延长刀具寿命并且满足一些特殊的应用，刀具上的颜色不同也就说明涂镀不同的涂层。 镀膜机检漏原因：镀膜机需要在高真空环
光偏振现象的应用在日常生活中无处不在，比如液晶显示屏、3D眼镜等；在光伏、纳米、半导体芯片等高端制造中，也常用到一种利用光偏振现象的仪器，那就是椭偏仪，它最拿手的就是测量纳米级薄膜的厚度、折射率、消光系数等参数。椭偏仪为非接触
近日，成都中科唯实仪器有限责任公司技术研发部门通过自主设计，完成光学膜厚智能测控仪研发任务。 传统的光学镀膜采用极值法膜厚监控方式，正确判定极值点是镀膜操作人员的重要操作技术，它决定着每一炉镀膜的质量。镀膜过程中镀膜操作人员必须全神贯注地注视着膜厚监控仪显示膜厚相对值的变化，
扫描电镜的成像原理是通过detecter获得二次电子和背散射电子的信号，而若样品不导电造成样品表面多余电子或游离粒子的累积不能及时导走，一定程度后就反复出现充电放电现象（charging)，最终影响电子信号的传递，造成图像扭曲，变形、晃动等等一些现象。本文罗列了一些常见的样品表面的导电处理方法。
紫外可见分光光度计是通过测定被测物质在特定波长处或一定波长范围内光的吸收度，对物质进行定性和定量分析的仪器。在生物制药、精细化工、环境监测等领域有着广泛应用，并被纳入《中华人民共和国强制检定的工作计量器具明细目录》，需要根据检定规程定期检定。虽然目前检定机构在检定紫外可见分光光度计时均严格执行JJG
一、直接观察法 1.基本描述:样品不经过任何处理,直接粘贴到样品托上入镜观察 2.适用范围:适合于低倍条件下, 观察含水量少的、表面有一定导电能力的、对分辨率要求不高的样品. 3.基本步骤:取材→风洗水洗后风干或不洗→粘样→常压或低压观察 4.适用样品: 植物干标本,干种籽,干果、果壳,
索取资料TIP1. 选择PTFE镀膜真空泵的三大好处实验室的真空泵种类很多，不论是无油式真空泵、油式真空泵、耐腐蚀真空泵...等，依照实验类型所需要使用的真空泵都不一样，依使用的严苛程度，其价格也迥然不同。如何找到最适合的真空泵一直是个学问。以下先跟大家介绍一款由洛科全新推出的PTFE镀膜
1、磁控溅射镀膜设备：应用于信息存储领域，如磁信息存储、磁光信息存储等 2、磁控溅射镀膜机：应用于防护涂层，如飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等 3、磁控溅射镀Al膜生产线：应用于太阳能利用领域，如太阳能集热管、太阳能电池等 4、光学镀膜设备：应用于光学薄膜领域，如增透膜、高反膜、截止滤
2013年5月17日，由中国化学会主办、厦门大学承办、复旦大学、浙江大学协办的第八届全国微全分析系统学术会议、第三届全国微纳尺度生物分离分析学术会议暨第五届国际微化学与微系统学术会议在美丽的海滨城市厦门隆重召开，400余名国内外学者参加了这一盛会。
苹果公司提交稀土磁体镀膜专利申请 北京时间7月12日凌晨消息，苹果公司已经提交了一项专利申请，内容是一种对稀土磁体进行镀膜的方法，可令便携式电子设备变成冰箱磁体和iWatch元素。 这项专利申请的文件名称是“Unibody Magnet”(一体化磁体)，文件指出标准的稀土磁体(例如用
生物样品经过脱水、干燥处理后，其表面不带电，导电性能也差。用扫描电镜观察时，当入射电子束打到样品上，会在样品表面产生电荷的积累，形成充电和放电效应，影响对图象的观察和拍照记录。因此在观察之前要进行导电处理，使样品表面导电。常用的导电方法有以下几种：1) 金属镀膜法金属镀膜法是采用特殊装置将电阻率小的
微分干涉显微镜是一种特殊形式的干涉显微镜。通常被观察物体内各点的折射率不同,光通过时造成光程差的不同。微分干涉显微镜是通过在正交的偏光镜之间,放置一个微分干涉棱镜(诺玛斯基棱镜)及其滑行器把极微小的光程差转变为振幅(光强度)的变化,从而可观察到物体内或表面的微细结构。诺玛斯基棱镜可将一束光分解成偏
应用本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液中，通过预先设置的浸渍时间、提拉速度、提拉高度、镀膜次数等参数，将浸渍后的基片以一定速度慢慢提拉起来，在基片的表面形成一层纳米级的薄膜。膜层厚度由提拉速度，液体浓度和液体粘度决定。采用溶胶-凝胶法镀膜，随着基片从溶胶中提拉出
vaSpec In-Stock预配置型光纤光谱仪Avantes公司有多款预配置型In-Stock光谱仪，提供给那些想在短时间内得到Avantes高品质光谱仪的客户。 AvaSpec-Fast技术参数光谱仪型号 AvaSpec ULS3648-UA-25A
中国科学院光电技术研究所深紫外镀膜课题组在光刻机镜头镀膜技术上取得一系列进展，提出并实现了数种提高光学薄膜厚度均匀性的办法，克服了大口径大曲面镜头上薄膜厚度均匀性控制的难题。 光刻机镜头中包含大量的曲面光学镜头，随着光刻机数值孔径增大，部分光学镜面的口径增大且形状逐步接近于半球，镜面上镀膜后的
CCD上那片滤光片,正确名称叫”光学低通滤波器”(OLPF)。 滤光片的功用:1.滤除红外线：2.修整进来的光线 滤除红外线: 彩色CCD也可感应红外线,就是因为会感应红外线,会导致D.S.P无法算出正确颜色； 因此须加一片滤光片,把光线中红外线部份隔开,所以只