真空镀膜的方法介绍
真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。......阅读全文
真空镀膜的方法介绍
真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000
真空镀膜的常用方法
(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放
真空镀膜的概念
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
真空镀膜的技术分类
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时
真空镀膜的技术优势
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无
真空镀膜技术简介
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的
真空镀膜技术分类
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时
真空镀膜机的结构原理
一、电控柜的操作 1. 开水泵、气源 2. 开总电源 3. 开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。 4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。 5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后，关
真空镀膜机清洗的工艺要求
真空工艺进行前应清洗真空材料，从工件或系统材料表面清除污染物；真空零部件的表面清洗处理也是非常有必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源不仅会使真空系统不能获得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同时也会影响真空部件连接处的强度和密封性能。 污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”，根据
新越引德国真空镀膜技术
福建新越金属材料科技公司总投资近12亿的真空连续镀膜生产线近日在福建省永安市投产并举行蓝膜生产基地落成典礼。 此次从德国引进世界最先进的连续真空镀膜设备，主要有太阳能热吸收材料、高反射镜面、装饰性镀膜等。据介绍，新越真空镀膜生产线全长约150米，整条生产线只需8—10名操作者，通过全自动化
真空镀膜中扩散泵为什么预热
扩散泵不是需要预热、而是需要加热，这是扩散泵的工作原理，跟处于什么工艺下进行没有关系。扩散泵属于增压泵，单独是不可以使用的，必须串联机械泵，如旋片泵、滑阀泵等。扩散泵的工作条件是全压强小于10pa才可以开启加热炉。扩散泵没有电机，是通过电炉加热使油蒸发，然后冷凝的一个往复运动，期间将空气通过机械泵排
多功能真空镀膜机的技术指标
技术指标 电子枪蒸发源：一把成都金雅客公司电子枪，6孔坩埚，每孔40cc容量，电子枪位于真空室下部；电子枪冷却水流量监测，互锁保护，自带自动预熔功能、实现膜厚仪自动控制电子枪镀膜，操作更方便。 电阻蒸发：2组蒸发电极，兼容蒸发舟、螺旋蒸发丝，带有自动档板。1台以色列产TDK蒸发电源功率：1.4
真空镀膜机原理和各部件分析
一、真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔体由不锈钢" target=_blank>不锈钢材料制作，要求不生锈、坚实等，真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。 二、辅助抽气系统：排气系统为镀膜机真空系
与真空镀膜相比，离子镀膜有哪些优点
通过真空镀膜技术的应用,使塑料表面金属化,将有机材料和无机材料结合起来,大提高了它的物理、化学性能.其优点主要表现在：改善美观,表面光滑,金属光泽彩色化,装饰性大大提高；改善表面硬度,原塑胶表面比金属软而易受损害,通过真空镀膜,硬度及耐磨性大大增加；提高耐候性,一般塑料在室外老化很快,主要原因是紫外
多功能真空镀膜机的主要功能简介
多功能真空镀膜机是一种用于物理学、材料科学、电子与通信技术领域的工艺试验仪器，于2019年11月22日启用。 主要功能 系统可镀镀制各种介质膜、光学膜、透明导电膜、铁电薄膜等如：各种金属钛、铂、金等、常见氧化物、Si, Al2O3, TiO2, SiO2,氧化铪等，以及半导体激光器常见膜系，
真空镀膜技术与湿式镀膜技术对比
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无
电镜附件的原理及其应用——离子溅射仪/真空镀膜机
在利用扫描电镜分析非导电样品时，因为样品的不导电性，会在样品表面累积电离子，因此在成像过程中会产生大量的放电现象，严重影响图像质量。因此在观察非导体时一般都要事先用真空镀膜机或离子溅射仪在试样表面上蒸涂（沉积）一层重金属导电膜（我们一般是在试样表面蒸涂一层金膜），这样既可以消除试样荷电现象，又可以增
扫描电子显微镜生物样品制备技术详细介绍（三）
为了取得上述效果，所镀的金属膜应符合以下要求：金属膜尽可能保持均匀的厚度，膜本身没有结构，或者是微细到难以看出的程度。膜要薄，不会掩盖样品表面原来的细微结构。二次电子发射率好。膜本身不因电子轰击而发生变化，在大气中保存样品不易变性(即化学稳定性好)。根据上述要求，多采用金、钯、铂和金一钯、铂一钯及铂
真空镀膜机为何要安装天寒水汽捕集器
1.在真空系统中，水蒸气是影响抽真空装置抽气速度最大的障碍，天寒-135℃水汽捕集器可以快速有效捕捉系统残余空气中%65到95%的水蒸气，减少抽水蒸气所耗费的时间，效率高达80%。若在现有的抽真空系统中加装天寒-135℃水汽捕集器，可以增加生产能力30%到100%，还能改善镀膜品质。2.在真空系统中
南京天光所3.2米箱式真空镀膜机通过出厂验收
中国科学院南京天文光学技术研究所委托研制的3.2米箱式真空镀膜机通过出厂验收。 近年来，南京天光所镀膜团队开展了提高膜系光谱反射率、膜系环境适应性和膜系用途多样性等方面的研究，掌握多项关键技术，例如，紫外增强型宽谱段高反射膜系制备、碳化硅材料基底表面改性层制备、极寒环境大口径镜面防霜膜系制备、
扫描电镜样品形态和制备方法
样品形态和制备方法 制备合格的扫描电镜样品是能否获得扫描电镜观察预期最佳结果的先决条件，除环境扫描电镜外，其它扫描电镜的样品必须是固体，且在真空条件下能够保持长时间稳定。对于含水的样品必须进行干燥，表面被污染的样品要选择合适的溶剂进行清洗。有些样品必须用化学试剂腐蚀后才能显露显微结构，如金属样品、
脱落细胞发现提取技术及设备（一）
什么是脱落细胞DNA？脱落细胞DNA，也称为接触痕迹DNA，遵循“洛卡德物质交换理论”，是指由于人体接触物体后遗留在客体表面的痕迹，通过有效的提取方式得到人体上皮细胞，并针对这些细胞进行DNA检验。人体每天脱落约40万个上皮细胞，但这些上皮细胞是获得DNA分型成功率最低的人体组织，由于每个人的生活方
真空金属镀膜（VMD）技术浅谈
真空金属镀膜技术 在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法称为真空镀膜，目前在工业领域应用较多的为真空蒸镀和溅射镀膜两种镀膜技术。真空镀膜技术真正应用是在1930年油扩散泵和机械泵技术推出后。1935年研制出采用真空沉积技术的减反射膜，并在1945年应用于眼镜
ELISA方法的标记方法介绍
良好的酶结合物取决于两个条件：即高效价的抗体和高活性的酶。抗体的活性和纯度对制备标记抗体至关重要，因为特异性免疫反应随抗体活性和纯度的增加而增强。在酶标记过程中，抗体的活性有所降低，故需要纯度高、效价高及抗原亲和力强的抗体球蛋白，最好使用亲和层析提纯的抗体，可提高敏感性，而且可稀释使用，减少非特异性
萃取的方法介绍
向待分离溶液（料液）中加入与之不相互溶解（至多是部分互溶）的萃取剂，形成共存的两个液相。利用原溶剂与萃取剂对各组分的溶解度（包括经化学反应后的溶解）的差别，使它们不等同地分配在两液相中，然后通过两液相的分离，实现组分间的分离。如碘的水溶液用四氯化碳萃取，几乎所有的碘都移到四氯化碳中，碘得以与大量的水
分离方法的介绍
蒸馏利用液体混合物中各组分挥发性的不同，将它们分离的方法和过程，它可以将液体混合物中各组分部分地或全部地分离。除了简单的蒸馏技术外，还有分馏、减压蒸馏、共沸蒸馏、水汽蒸馏、萃取蒸馏、等温蒸馏和亚沸点蒸馏等。升华固态物质不经液态直接转变成气态的现象，可作为一种应用固-气平衡进行分离的方法。可分为常压升
升华的方法介绍
常压升华在一个标准大气压（1.013×10^5 Pa）下固体的升华。常温升华在室温（25 ℃）下固体的升华。真空升华又称减压升华，由于升华与固体蒸气压和外压的相对大小有关，降低外压可以降低升华温度，在常压下不能升华或升华很慢的物质可以采用真空升华。真空升华还可防止被升华的物质因温度过高而分解或在升华
灼烧的方法介绍
灼烧的方法是将固体放在坩埚中，直接用煤气灯或电炉加热，或置于高温电炉中按要求温度进行加热。例如：重量分析祛中灼烧硫酸钡晶体，分解矿石（煅烧石灰石为氧化钙和二氧化碳）的反应。高岭土熔烧脱水使其结构疏松多孔，进一步加工生产氧化铝；焙烧二氧化钛使其改变晶型和性质等,都是高温灼烧固体的实例。实验室中常用的电
洗脱的方法介绍
洗脱也可以分为两种：一种是选择与配体有亲和力的物质进行洗脱，另一种是选择与待分离物质有亲和力的物质进行洗脱。前者在洗脱时，选择一种和配体亲和力较强的物质加入洗脱液，这种物质与待分离物质竞争对配体的结合，在适当的条件下，如这种物质与配体的亲和力强或浓度较大，配体就会基本被这种物质占据，原来与配体结合的
纳米薄膜的制备方法
针对有机半导体粉料和金属粉料蒸发温度低的特点,设计并制作了新型低温辐射式薄膜加热蒸发器,通过对有机粉料的蒸发及溅射时样片衬底的加热实验,取得了良好效果,通过观测装置,可以观测到,薄膜监控测厚仪未能反映出的10纳米薄膜厚度。其制作成本低,加热效率高,同时又提高了设备功效;是一种多功能辐射式加热器,在物