光刻机原理是什么
光刻机原理是什么，为何在我国如此重要？一台EUV光刻机售价一亿美金以上，比很多战斗机的售价都要贵。先进的光刻机必须要用到世界上最先进的零件和技术，并且高度依赖供应链全球化，荷兰的ASML用了美国提供的世界上最好的极紫外光源，德国蔡司世界上最好的镜片和光学系统技术，还有瑞典提供的精密轴承。另外，为了给光刻机的研发提供充足的资金，ASML还强制让三星，台积电，英特尔等重要客户入股投资了ASML并一起参与开发和反馈光刻机设备存在的问题，ASML得到了最先进的技术和大量的资金支持。中国目前由于瓦纳森条约先进设备禁运，很难买到国外的一些先进设备和技术，中国只能靠自己独立自主发展光刻机，同时我们国家的精密加工和先进制造业还不是很发达，很多零件的性能不如国外，甚至有些零件我们还造不出来，这就导致我们国家先进光刻机的研发进度远远落后于ASML，我们国家自己研发的光刻机目前最好的是上海微电子的90nm制程的光刻机,跟ASML差距很大，虽然这条道路......阅读全文
光刻机为什么不用x射线
因为x射线具有穿透力，而穿透力产生的折射会浪费大量的能量，致使光刻机效率低下，甚至无法工作，所以不用x射线。
光刻机水冷机组定时保养知识须知
按时进行光刻机水冷机组的维修保养，而对于很多企业而言，如果光刻机水冷机组缺少必要的保养与维护，意味着光刻机水冷机组后期运行故障率非常高。 在实际运行光刻机水冷机组的时候，为保持光刻机水冷机组运行靠谱与稳定，建议在使用半年时间之后，需要针对光刻机水冷机组进行面面的清洗。尤其对于容易产生积尘污垢的位
新型光刻机提升微纳实用制造水平
中科院光电技术研究所微电子专用设备研发团队，近日自主研制成功紫外纳米压印光刻机。该机器将新型纳米压印高分辨力光刻技术与紫外光刻技术有机结合，成本仅为国外同类设备的1/3，并在同一加工平台上实现了微米到纳米级的跨尺度图形加工，使我国微纳实用制造水平迈上新的台阶。 光刻机是实现微纳图形加工的专用高
2022年新挑战——光刻机、网络安全......
2月15日，中国工程院信息与电子工程学部、中国信息与电子工程科技发展战略研究中心在京发布“中国电子信息工程科技发展十三大挑战（2022）”。发布会由中国工程院院士、信息与电子工程学部主任卢锡城主持。 中国工程院党组成员、副院长陈左宁院士表示，中国工程院作为中国工程科学技术界最高荣誉性、咨询性学
光刻机冷却循环装置常见系统故障
1、回液：对于使用膨胀阀的制冷系统，回液与膨胀阀选型和使用不当密切相关。膨胀阀选型过大、过热度设定太小、感温包安装方法不正确或绝热包扎破损、膨胀阀失灵都可能造成回液。对于使用毛细管的小制冷系统而言，加液量过大会引起回液。蒸发器结霜严重或风扇故障时传热变差，未蒸发的液体会引起回液。温度频繁波动也会引
28纳米光刻机如何生产5纳米芯片
28纳米光刻机作为先进半导体芯片制造中的重要设备之一，其本身的生产工艺无法支持5纳米的芯片生产。但是，通过使用一系列先进的制造技术和调整设备参数等手段，可以将28纳米光刻机用于5纳米芯片生产。主要方法包括以下几个方面：1. 使用多重曝光技术：将同一影像进行多次叠加曝光，在不同的位置形成复杂图形，在提
宽刀雕细活－我国造出新式光刻机
11月29日，中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。 光刻机相当于一台投影仪，将精细的线条图案投射于感光平板，光就是一把雕刻刀。但线条精细程度有极限——不能低于光波长的一半。“光太胖，门缝太窄，
单面/双面掩模对准光刻机的相关知识
单面/双面掩模对准光刻机支持各种标准光刻工艺，如真空，硬，软接触和接近式曝光模式，可选择背部对准方式。此外，该系统还提供其他功能，包括键合对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速处理和重新加工，以满足不断变化的用户需求，转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念适合初学者到专家级各个阶层用户，
极紫外线光刻机和简介和功能
极紫外线光刻机是芯片生产工具，是生产大规模集成电路的核心设备，对芯片工艺有着决定性的影响。小于5纳米的芯片晶圆，只能用EUV光刻机生产。 2018年4月，中芯国际向阿斯麦下单了一台EUV（极紫外线）光刻机，预计将于2019年初交货。 功能 光刻机（又称曝光机）是生产大规模集成电路的核心设备
21年来首次！佳能扩产光刻机设备！
据日经新闻报道，佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量，将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。报道称，佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，目标将当前产能提高一倍，总投资额超过500亿日元（约3.45亿美元），工厂计划在2023年动工，2025年开始运营。光刻是半导体电路形成不可或缺的核心技术
接触式光刻机在涂胶工艺上有哪些特殊之处？
2020年11月25日 17:23 来源: 岱美仪器技术服务（上海）有限公司 >>进入该公司展台分享： 作为光刻工艺中zuì重要设备之一，接触式光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高接触式光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。
光刻机冷却循环水装置常见故障知识说明
1、制冷压缩机内无敲击声，压缩机正常运转，膨胀阀开度调节合适，运转中只有压缩机吸、排气声，不产生敲击或其它不正常声响。 2、压缩机各摩擦部位温度正常，无激热现象。压缩机各摩擦部位、轴承与轴颈接触良好，润滑正常，不产生超过环境温度。 3、曲轴箱油面处在正常位置，一般压缩机曲轴箱正常油面应在视油镜
目前我国光刻机的加工精度是多少？
我们日常使用的手机里面的芯片就是光刻机制造出来的，光刻机是芯片制造过程当中一个重要的环节，光刻机直接决定着芯片的质量。而我国作为全球最大的芯片消费国之一，光每年进口的芯片都高达几万亿人民币。 光刻机是芯片制造过程中最重要的一部分，就是我们把想要设计的芯片，用光学技术刻在晶圆上，用光学技术把各种各样
光刻机为什么一定用紫外线
光刻机采用激光将图形刻印在半导体上，但光是电磁波，不同的光线具有不同的波长。如果需要刻印的图形非常微小，而采用的光线波长较大，则刻不出想要的图形。就像你不能用拖把（书写痕迹粗大）在田字格本上写毛笔字（笔划细小）。现在的芯片集成度越来越高，最高端的芯片工艺已经到了2nm级别。而可见光波长在780nm（
光刻机水冷机冷水机安装位置考虑因素有哪些
光刻机水冷机是一种常见的工业冷却设备，光刻机水冷机安装时需要选取合适的安装位置，这样可以减少制冷量损失并且操作更为便利。 1、应当尽量减少光刻机水冷机与被控温设备的距离，这样的好处是可以减少冷冻水在管路中的压降和冷量损失，而且机组没有远程控制功能时方便操作设备； 2、从散热条件来说，将光刻机
光电所研制出实用深紫外光刻机
近日，中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Mask aligner），光刻分辨力达到500nm。 Mask aligner因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最广、使用数量最多的一种光刻设备。在现有的微纳加工工艺中，光刻所采用的波段是决定
工业光刻机冷却系统冷水机开机停机事项
一、光刻机冷却系统冷水机的使用注意事项： 1）光刻机冷却系统冷水机组的正常开、停机须严格按照光刻机冷却系统冷水机厂家提供的操作说明书的步聚进行操作。 2）机组在运行过程中，应及时、正确地做好参数的记录工作，如出现报警停机，应及时通知相关人员对机组进行检查，如无法排除故障，可以直接与光刻机冷却系
清华大学历经10年，光刻机领域《自然》发文
在芯片制造业中，光刻机是必不可少的精密设备——每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术的锻造。也正因为此，与之相关的突破性研究成果备受关注。 2月25日，清华大学的一项科研成果刊登在《自然》上，引起了国内外学术界及产业界的高度关注。《自然》评阅人认为其“展示了一种新的方法论”，“必将引起粒子加速器和
光刻机用低温冷水机组故障原因与排除
光刻机用低温冷水机组操作者可对设备运行过程中的相关故障以及解决办法做一定的了解，以便更好的使用光刻机用低温冷水机组，那么其故障原因是怎么样的呢？ 1、制冷剂泄漏： 系统中制冷剂泄漏后制冷量不足，吸、排气压力低，蒸发器不挂霜或挂角少量的浮霜，若调大膨胀阀孔，吸气压力仍无大变化，停机后系统内平衡压
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
新型光刻机加紧研制，未来芯片技术或将迎来变革
据悉，全球最先进的光刻机厂商ASML正在开发一款新版本的EUV光刻机，研制成功后它将是世界上最先进的芯片制造设备。该光刻机名为High NA，目前第一台机器正在研发之中，预计摇到2023年才会提供先行体验，可以让芯片制造商更快地学习如何使用。客户可以在 2024 年和 2025 年将以此进行自己的研
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
不鸣则已、一鸣惊人，国产先进光刻机问世只是时间问题
半导体产业可以说是一个国家工业的战略高地，而光刻机又是半导体产业的基础核心，所以美国、荷兰、日本等国均对光刻机的出口进行了严格限制，要想不被“卡脖子”，只能走自主研发、自主可控的道路，对此本文将着重探讨三个方面的问题，一是光刻机产业的现状？二是当前国产光刻机技术究竟发展到了什么程度？三是国产光刻
细说接触式光刻机的使用原理及性能指标
大家也许还不是非常的清楚，刻录机的种类有非常的多，其中的技术原理也不尽相同，下面就由我来给大家简单介绍一下有关接触式光刻机的使用原理及性能指标。 接触式光刻机的使用原理： 其实在我国对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。 我
紫外纳米压印光刻机提升我国微纳级制造业能力
记者日前从中科院光电技术研究所获悉，该所微电子专用设备研发团队已自主研制出一种新型紫外纳米压印光刻机，其成本仅为国外同类设备1/3，将有力推进我国芯片加工等微纳级结构器件制造水平迈上新的台阶。 光刻机是微纳图形加工的专用高端设备。光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍，这套设备采用新型纳米对准
光电所在光学薄膜厚度均匀性控制技术方面取得进展
中国科学院光电技术研究所深紫外镀膜课题组在光刻机镜头镀膜技术上取得一系列进展，提出并实现了数种提高光学薄膜厚度均匀性的办法，克服了大口径大曲面镜头上薄膜厚度均匀性控制的难题。 光刻机镜头中包含大量的曲面光学镜头，随着光刻机数值孔径增大，部分光学镜面的口径增大且形状逐步接近于半球，镜面上镀膜后的
我国芯片行业要多久可以赶上美国？
来源：远望智库预见未来 军民融合观察 观察者网 作者：远方青木在芯片领域，中美差距到底有多大? 因为中国经济起步太晚，在追赶方面我们肯定是按先易后难的顺序搞的。芯片技术遵循摩尔定律，在同样价格的前提下，每18~24个月元器件的数目就会翻一倍，也就是性能翻一倍。这恐怖的进化速度代表整个芯片产业链
光刻机龙头阿斯麦举行投资者日－芯片业或迎来新转折？
全球光刻机龙头阿斯麦将在当地时间周三午后举行投资者日。在事前发布的声明中，公司明确表示对高端光刻机业务前景和“钱”景持续乐观的立场。 作为向芯片制造业提供关键生产工具的龙头企业，阿斯麦预期这一轮电子行业的全球大趋势，将继续向半导体市场的增长注入动力。与此同时，芯片终端市场的增长和光刻强度的增加
集成电路关键技术迎来黄金发展期
研讨会现场（主办方供图）8月23日，集成电路关键技术研讨会在北京举办。与会专家围绕着我国集成电路产业链条中的光刻机、软硬件质量保障等集成电路关键技术问题进行了研讨交流，以促进国内集成电路行业发展。“未来十年，集成电路关键技术迎来黄金发展期，机遇和挑战并存。”此次研讨会主持人、中国科学院自动化研究所高
合肥研究院承担的国家科技重大专项课题通过验收
3月12日至14日，中国科学院合肥物质科学研究院安徽光学精密机械研究所承担的课题“双腔同步全固化激光电源及输出能量稳定系统研究”通过了国家科技重大专项实施管理办公室的验收。该课题成功为MOPA结构的准分子激光器提供低抖动全固化的高脉冲快放电电源，并实现了通过反馈控制系统实现激光输出能量稳定。该课