最常用的氮化钛薄膜合成方法
最常用的氮化钛薄膜合成方法是物理气相沉积法（PVD，通常有溅射沉积，阴极电弧沉积或电子束加热）和化学气相沉积法（CVD）。两种方法都是将纯钛升华，并在高能量真空环境中与氮气反应。1.通过将粉末状金属钛压缩到适当的密度，在1200℃纯氮气中由金属和气体之间的化学反应所释放的Chemicalbook热量烧结成氮化物的反应产物氮化钛粉末，如下反应式：2Ti+N2=2TiN。2.在高温下，由四氯化钛-氮的混合气与氨-氢的混合气反应，如下反应式：6TiCl4+32NH3=6TiN+24NH4Cl+N2。3.将钛-氢-氮混合气加热到高温通过石墨，冷却后沉积在基体材料上形成膜。......阅读全文
氮化钛的生产方法
1.将金属钛放入加热炉中，在氮气气流中，加热至1000～1400℃反应直接得到氮化钛。或者将二氧化钛和碳以一定比例充分混合，放入加热炉中，在氮气气流中加热至1250℃还原氮化制得氮化钛。采用气相沉积法，由四氯化钛、氮气、氢气混合气体可以得到氮化钛涂层。2.往四氯化钛的蒸发器中通入H2和N2的混合气体
氮化钛的理化性质
晶体结构：立方体分子式:TiNCasNo:25583-20-4分子量:61.874密度：5.22g/cm3熔点：2930℃（5310°F;3200K）气味：无臭溶解性：微溶于热的王水Chemicalbook,浓硫酸和氟化氢，不溶于水维氏硬度：2400弹性模量：251GPa热导率：19.2W/(m·°
氮化钛的理化特性和用途
理化性质晶体结构：立方体分子式:TiNCasNo:25583-20-4分子量:61.874密度：5.22g/cm3熔点：2930℃（5310°F;3200K）气味：无臭溶解性：微溶于热的王水,浓硫酸和氟化氢，不溶于水维氏硬度：2400弹性模量：251GPa热导率：19.2W/(m·°C)热膨胀系数：
氮化钛－用途与合成方法
氮化钛的用途1.氮化钛涂层广泛用于金属边缘以保持机械模具的耐腐蚀性，如钻头和铣刀，常常由提高三个或更多的因素改善其寿命。2.由于其具有金属光泽，常用作服装和汽车装饰点缀。作为外层涂层，通常以镍（Ni）或铬（Cr）为镀基板，包装管道和门窗五金。3.该涂层也用在航空航天和军事方面，以及保护的自行车和摩托
最常用的氮化钛薄膜合成方法
最常用的氮化钛薄膜合成方法是物理气相沉积法（PVD，通常有溅射沉积，阴极电弧沉积或电子束加热）和化学气相沉积法（CVD）。两种方法都是将纯钛升华，并在高能量真空环境中与氮气反应。1.通过将粉末状金属钛压缩到适当的密度，在1200℃纯氮气中由金属和气体之间的化学反应所释放的Chemicalbook热量
铀表面氮化对铀上镀钛界面结合的影响
金属铀在核燃料领域有着非常重要的应用,然而由于铀拥有特殊的外层电子,因此性质非常活泼,极易遭受腐蚀,铀的使用过程中必须考虑腐蚀防护。通过物理气相沉积的方法在铀表面制备防腐蚀薄膜是一种有效地防腐蚀手段,但是实际工艺中,铀易氧化的特性使得膜基界面形成氧化层,影响长期应用中的膜基结合力。本文采用离子氮化技
氮化钛涂层晶界涉氯腐蚀微观机理研究获进展
氮化钛涂层具有优异的力学强度、化学稳定性和耐磨损性，在多个领域具有应用价值。但是，氯离子易沿各类晶界入侵，导致氮化钛涂层腐蚀加速甚至涂层结构失效。同时，氯离子在不同晶界上的稳定性和扩散规律尚不清晰，制约了涂层精准设计和可控制备技术发展。近日，中国科学院宁波材料技术与工程研究所联合中国科学技术大学，探
兰州化物所纳米氮化钛的合成及电化学特性研究获进展
在中科院“百人计划”和国家自然科学基金项目支持下，中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室低维材料摩擦学课题组在金属氮化物的制备和电化学特性研究方面取得新进展。 氮化钛具有非常优异的机械及物理化学性能，在硬质薄膜、光学薄膜、集成电路和热传导涂层等领域显示出极大的应用前景。氮化钛同样具
氮化铟制备方法
步骤S1、提供一衬底，在所述衬底上沉积一层介电薄膜；步骤S2、对所述介电薄膜进行图案化，得到均匀排列的多个介电凸台；步骤S3、提供一反应室，将所述形成有介电凸台的衬底放入反应室中并将所述反应室抽真空；步骤S4、在所述介电凸台及衬底上Chemicalbook生长缓冲层，在介电凸台的阻挡下，所述缓冲层的
氮化铟－用途简介
氮化铟(InN)发展成为新型的半导体功能材料，在所有Ⅲ族氮化物半导体材料中，氮化铟具有良好的稳态和瞬态电学传输特性，它有最大的电子迁移率、最大的峰值速率、最大的饱和电子漂移速率、最大的尖峰速率和有最小的带隙、最小的电子有效质量等优异的性质，这些使Chemicalbook得氮化铟相对于氮化铝(AlN)
氮化铬生产方法
生产方法1.将低碳铬铁在真空加热炉于1150℃氮化得到粗氮化铬铁，再经硫酸处理，除去铁杂质。经过滤、水洗、干燥，即得氮化铬。也可由氨和卤化铬反应制得。2.将高纯度电解铬粉末，在150mmHg(1mmHg=133.322Pa)柱的氮气流中，于1060℃下加热160h之后，排出氮气并进行急冷，则制得Cr
氮化铟的结构特点
氮化铟是一种新型的三族氮化物材料。这种材料的引人之处在于它的优良的电子输运性能和窄的能带，有望应用于制造新型高频太拉赫兹通信的光电子器件。氮化铟纳米结构是研制相关量子器件的基础。然而，一直以来，InN纳米材料的生长往往要利用铟的氧化物或氯化物，这会在氮化铟纳米材料中引入许多杂质，致使材料的光学、电学