上海微系统所制备出晶圆级金刚石基氧化镓阵列化单晶薄膜

中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员欧欣团队,联合南京电子器件研究所研究员李忠辉团队,在金刚石基氧化镓异质集成材料与器件领域取得突破性进展。12月9日,研究成果在第70届国际电子器件大会(IEDM 2024)上以口头报告的形式发表。在宽/超宽禁带半导体材料中,氧化镓的热导率最低,不到硅材料的1/5,这使得氧化镓器件在大功率工况下存在严重的自热效应和寿命短等可靠性问题。作为自然界中已知热导率最高的材料,金刚石是大功率、射频器件的理想热沉衬底材料。因此,将金刚石用于异质集成已成为大功率器件热管理的重要研究方向,但通过直接外延生长和晶圆键合实现金刚石基异质集成材料,仍面临巨大挑战。基于欧欣团队开发的异质集成衬底材料(XOI)晶圆转印技术,率先在国际上实现阵列化氧化镓单晶薄膜与1英寸金刚石衬底的异质集成,转移处理后氧化镓单晶薄膜材料的多项指数均为目前已报道最优。基于此制备的射频器件性能和散热能力得到显著提升,相同功率下,器件结区最......阅读全文

单晶石墨烯薄膜生产速度提高150倍

  中国科学家在《自然·纳米技术》杂志上发表论文称,他们在单晶石墨烯制备上取得了一项突破。通过对化学气相沉积法(CVD)的调整和改进,他们将石墨烯薄膜生产的速度提高了150倍。新研究为石墨烯的大规模应用奠定了基础。   石墨烯是由碳原子构成的只有一层原子厚度的二维晶体材料,在电、光、机械强度上的优异

单晶石墨烯薄膜生产速度提高150倍

  中国科学家在《自然·纳米技术》杂志上发表论文称,他们在单晶石墨烯制备上取得了一项突破。通过对化学气相沉积法(CVD)的调整和改进,他们将石墨烯薄膜生产的速度提高了150倍。新研究为石墨烯的大规模应用奠定了基础。  石墨烯是由碳原子构成的只有一层原子厚度的二维晶体材料,在电、光、机械强度上的优异特

我国率先实现铌酸锂单晶薄膜产业化

  济南晶正电子科技有限公司现已研制出铌酸锂单晶薄膜产品并量产,此举使我国具有了全球领先产业化生产铌酸锂单晶薄膜的能力,标志着我国在光电新材料领域实现重大突破。   铌酸锂晶体是集电光、声光、压电、光弹、非线性、光折变及激光活性等效应于一身的人工合成晶体。济南晶正电子科技有限公司采用离子注入及直接

日盲镁锌氧单晶薄膜的电性调控研制获进展

  ZnO基光电子学及透明电子学是近年来信息和材料科学领域的研究热点。理论上通过Mg、Be等元素的掺杂,ZnO基合金的禁带宽度能在很宽波段范围内进行调谐,如通过调整MgxZn1-xO中的Mg组分,其带隙可在3.37~7.8eV(368~159nm)范围内调控,从而可覆盖280~220nm日盲波段,成

大尺寸单晶石墨烯及其薄膜制备和无损转移取得重要进展

金属所大尺寸单晶石墨烯的化学气相沉积法制备及其无损转移取得重要进展  最近,中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室先进炭材料研究部的成会明、任文才研究员带领的石墨烯研究团队,在大尺寸单晶石墨烯及其薄膜的制备和无损转移方面取得重要进展。相关论文于2月28日在《自然—通

基于量子材料的新器件分米级单晶薄膜的制备新方法

  为开辟硅基电子器件之外的新途径,基于量子材料的新器件研究成为前沿热点。作为量子材料的重要分支,二维量子材料厚度只有原子级且量子效应显著,大面积、高质量的二维单晶制备是实现二维器件规模化应用的核心关键,然而晶格的非中心反演对称性给二维单晶生长带来了极大挑战。  在量子调控与量子信息重点专项资助下,

单晶X射线衍射的单晶衍射仪法

此法用射线计数仪直接记录射线的强度。单晶衍射仪有线性衍射仪、四圆衍射仪和韦森堡衍射仪等,其中以四圆衍射仪(图4),(见彩图)最为通用。所谓四圆是指晶体和计数器藉以调节方位的四个圆,分别称为φ圆、圆、w圆和2θ圆。φ圆是安装晶体的测角头转动的圆;圆是支撑测角头的垂直圆,测角头可在此圆上运动;w圆是使圆

单晶X射线衍射的单晶衍射仪法

此法用射线计数仪直接记录射线的强度。单晶衍射仪有线性衍射仪、四圆衍射仪和韦森堡衍射仪等,其中以四圆衍射仪(图4),(见彩图)最为通用。所谓四圆是指晶体和计数器藉以调节方位的四个圆,分别称为φ圆、圆、w圆和2θ圆。φ圆是安装晶体的测角头转动的圆;圆是支撑测角头的垂直圆,测角头可在此圆上运动;w圆是使圆

单晶硅的单晶硅制备与仿真

主要有两种方法:直拉法(Cz法)、区熔法(FZ法);1)直拉法其优点是晶体被拉出液面不与器壁接触,不受容器限制,因此晶体中应力小,同时又能防止器壁沾污或接触所可能引起的杂乱晶核而形成多晶。此法制成的单晶完整性好,直径和长度都可以很大,生长速率也高。所用坩埚必须由不污染熔体的材料制成。因此,一些化学性

上海微系统所制备出晶圆级金刚石基氧化镓阵列化单晶薄膜

中国科学院上海微系统与信息技术研究所研究员欧欣团队,联合南京电子器件研究所研究员李忠辉团队,在金刚石基氧化镓异质集成材料与器件领域取得突破性进展。12月9日,研究成果在第70届国际电子器件大会(IEDM 2024)上以口头报告的形式发表。在宽/超宽禁带半导体材料中,氧化镓的热导率最低,不到硅材料的1

钙钛矿单晶薄膜的可控制备与太阳能电池器件研究获进展

  近年来,能源需求的激增和空气污染的加剧迫使人们寻求新的清洁可再生能源。太阳能被认为是最具发展前景的清洁可再生能源之一。太阳能电池是将太阳能直接转化成电能的装置,可以高效转换并利用太阳能。除了目前主要的硅基太阳能电池外,探寻高效率且廉价的新型太阳能电池成为近年来的研究热点。  近年来有机无机杂化M

单晶射线衍射仪

  单晶射线衍射仪是一种用于化学领域的分析仪器,于2004年1月1日启用。  技术指标  额定功率:50kv 40mA。CCD探测器:62mm 4K CCD芯片,Mo 光源增益>170电子/X光子; X-射线发生器:功率3kW,Mo靶陶瓷X射线光管; 三轴(ω,2θ,φ)测角仪:φ360º旋转≤0.

光学单晶的种类

卤化物单晶卤化物单晶分为氟化物单晶,溴、氯、碘的化合物单晶,铊的卤化物单晶。氟化物单晶在紫外、可见和红外波段光谱区均有较高的透过率、低折射率及低光反射系数;缺点是膨胀系数大、热导率小、抗冲击性能差。溴、氯、碘的化合物单晶能透过很宽的红外波段,其熔点低,易于制成大尺寸单晶;缺点是易潮解、硬度低、力学性

CCD单晶衍射仪

  CCD单晶衍射仪是一种用于物理学领域的分析仪器,于2017年1月5日启用。  技术指标  1.EOSCCD探测器;  2.增强型Mo光源和增强型Cu光源;  3.4圆kappa测角仪。  主要功能  晶体结构或分子结构的常规测定(包括晶体的点阵常数,对称性,分子的三维立体结构,键长、键角、构型、

单晶硅展|2024年上海单晶硅展览会

展会名称:2024中国(上海)国际半导体展览会英文名称:China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间:2024年11月18-20日 论坛时间:2024年11月18-19日 展会地点:上海新国际

单晶硅是什么

单晶硅是硅的单晶体。具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质,是一种良好的半导材料。纯度要求达到99.9999%,甚至达到99.9999999%以上。用于制造半导体器件、太阳能电池等。用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成。

什么叫单晶XRD衍射

X射线是原子内层电子在高速运动电子的轰击下跃迁而产生的光辐射,主要有连续X射线和特征X射线两种。晶体可被用作X光的光栅,这些很大数目的原子或离子/分子所产生的相干散射将会发生光的干涉作用,从而影响散射的X射线的强度增强或减弱。由于大量原子散射波的叠加,互相干涉而产生最大强度的光束称为X射线的衍射线。

什么叫单晶XRD衍射

X射线是原子内层电子在高速运动电子的轰击下跃迁而产生的光辐射,主要有连续X射线和特征X射线两种。晶体可被用作X光的光栅,这些很大数目的原子或离子/分子所产生的相干散射将会发生光的干涉作用,从而影响散射的X射线的强度增强或减弱。由于大量原子散射波的叠加,互相干涉而产生最大强度的光束称为X射线的衍射线。

单晶衍射法的概述

  单晶X 射线衍射分析的基本方法为劳埃法与周转晶体法。  劳埃法  劳埃法以光源发出连续X 射线照射置于 样品台上静止的单晶体样品,用平板底片记录产生的衍射线。根据底片位置的不同,劳埃法可以分为透射劳埃法和背射劳埃法。背射劳埃法不受样品厚度和吸收的限制,是常用的方法。劳埃法的衍射花样由若干劳埃斑组

什么叫单晶XRD衍射

X射线是原子内层电子在高速运动电子的轰击下跃迁而产生的光辐射,主要有连续X射线和特征X射线两种。晶体可被用作X光的光栅,这些很大数目的原子或离子/分子所产生的相干散射将会发生光的干涉作用,从而影响散射的X射线的强度增强或减弱。由于大量原子散射波的叠加,互相干涉而产生最大强度的光束称为X射线的衍射线。

薄膜测厚仪

薄膜测厚仪 型号:CHY-CACHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量方式,严格符合标准要求,有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度测量。   ◆ 严格按照标准设计的接触面积和测量压力,同时支持用户的各种非标定制   ◆ 测试过程

薄膜测量

薄膜测量薄膜测量系统是基于白光干涉的原理来确定光学薄膜的厚度。白光干涉图样通过数学函数被计算出薄膜厚度。对于单层膜来说,如果已知薄膜介质的n和k值就可以计算出它的物理厚度。 AvaSoft-Thinfilm应用软件内包含有一个大部分常用材料和膜层n和k值的内置数据库。 AvaSoft-Thi

薄膜测量

薄膜测量薄膜测量系统是基于白光干涉的原理来确定光学薄膜的厚度。白光干涉图样通过数学函数被计算出薄膜厚度。对于单层膜来说,如果已知薄膜介质的n和k值就可以计算出它的物理厚度。 AvaSoft-Thinfilm应用软件内包含有一个大部分常用材料和膜层n和k值的内置数据库。 AvaSoft-Thi

xrd薄膜法能够测定薄膜什么性质

不知道你所说的薄膜法指什么.一般对于薄膜材料,XRD能够做:掠入射(GIXRD):    分析晶态薄膜物相,残余应力反射率测量(XRR):    对膜质量要求较高,晶态非晶皆可.一般分析纳米级别薄膜的厚度,深入一点可通过拟合的方法来分析密度,表面界面的粗糙度掠入射小角散射(GISAXS):    分

薄膜拉力试验薄膜拉伸测试仪

薄膜拉力试验薄膜拉伸测试仪拉伸、撕裂、剥离等力学性能,当使用反向器时,可进行材料的压缩试验。 本机是一种新型经济性电子拉力试验机,配备力传感器,在试验过程中,微机不断采集力传感器的信号,并根据试验要求,进行格式化数据处理,其特点是使用简单,性能稳定,技术先进,自动化水平高,测试精度高。 2 主要技术

常用的光学单晶特性介绍

常用的光学单晶有:①卤化物单晶。分为氟化物单晶,溴、氯、碘的化合物单晶,铊的卤化物单晶。氟化物单晶在紫外、可见和红外波段光谱区均有较高的透过率、低折射率及低光反射系数;缺点是膨胀系数大、热导率小、抗冲击性能差。溴、氯、碘的化合物单晶能透过很宽的红外波段,其熔点低,易于制成大尺寸单晶;缺点是易潮解、硬

单晶炉的简介及构成

  单晶炉简介:  单晶炉是一种在惰性气体(氮气、氦气为主)环境中,用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生长无错位单晶的设备。  单晶炉构成:  提拉头:主要由安装盘 减速机 籽晶腔 划线环 电机 磁流体 籽晶称重头 软波纹管等其他部件组成  副室:主要是副室筒以及上下法兰组成  炉盖:副室

X射线单晶衍射的简介

  X射线单晶衍射(X-ray diffraction of single crystal)是2014年全国科学技术名词审定委员会公布的药学名词,出自《药学名词》第二版。  当晶体被X射线照射时,晶体中各原子的散射X射线会叠加起来。当X射线为单色时,各原子的散射X射线发生干涉,在特定的方向上产生强的

单晶培养科研实验知识分享

好多同学/老师一直培养不出单晶,或者周期太长了,希望这个分享能得到一些帮助。单晶培养的方法多种多样,如升华法、共结晶法等。最简单的最实用常用的有1.溶剂缓慢挥发法;2.液相扩散法;3.气相扩散法。99%的单晶是用以上三种方法培养出来的。一、单晶培养要点 1、一般以10--25mg 为佳,如果你只有2

高精薄膜厚度测厚仪薄膜企业必备仪器

薄膜测厚仪中的高精薄膜厚度测厚仪的适用范围很广,可以测量的塑料、金属、涂层材料等多种材料的厚度,是我们设计制作物品的测量工具,帮助我们判断物体的质量是否合格,而且还能帮助我们节约物体设计制作成本,可以说购买了高精度薄膜厚度测厚仪就是提高了物体设计制作的质量。 高精薄膜厚度测厚仪       济南辰驰