我国学者在二维半导体晶圆制造方面取得进展

图 利用“固-液-固”生长策略制备晶圆级InSe高质量晶膜 在国家自然科学基金项目(批准号:52025023、52322205、52250398)等资助下,北京大学刘开辉教授与合作者在二维硒化铟半导体晶圆制造方面取得进展。相关成果以“用于集成电子学的二维硒化铟晶圆(Two-dimensional indium selenide wafers for integrated electronics)”为题,于2025年7月18日在线发表于《科学》(Science)。论文链接:https://www.science.org/doi/10.1126/science.adu3803。 随着人工智能(AI)与物联网(IoT)等前沿应用对计算机算力提出指数级增长需求,传统硅基晶体管技术在10 nm以下工艺节点正逼近物理极限,严重制约了芯片在性能、能效与集成度方面的持续提升。因此,亟需发展新型半导体沟道材料,以突破硅基技术瓶颈,支撑下一代集......阅读全文

我国学者在二维半导体晶圆制造方面取得进展

图 利用“固-液-固”生长策略制备晶圆级InSe高质量晶膜  在国家自然科学基金项目(批准号:52025023、52322205、52250398)等资助下,北京大学刘开辉教授与合作者在二维硒化铟半导体晶圆制造方面取得进展。相关成果以“用于集成电子学的二维硒化铟晶圆(Two-dimensional

半导体产业的根基:晶圆是什么?

  在半导体的新闻中,总是会提到以尺寸标示的晶圆厂,如 8 寸或是 12 寸晶圆厂,然而,所谓的晶圆到底是什么东西?其中 8 寸指的是什么部分?要产出大尺寸的晶圆制造又有什么难度呢?以下将逐步介绍半导体最重要的基础——“晶圆”到底是什么。  何谓晶圆?  晶圆(wafer),是制造各式电脑芯

物理所实现多层MoS2外延晶圆推动二维半导体的器件应用

  以二硫化钼为代表的二维半导体材料,因其极限的物理厚度、极佳的柔性/透明性,是解决当前晶体管微缩瓶颈及构筑速度更快、功耗更低、柔性透明等新型半导体芯片的一类新材料。近年来,国际上已在单层二硫化钼的晶圆制备及大面积器件构筑方面不断突破,在晶圆质量和器件性能方面逐渐逼近极限。例如,中国科学院物理研究所

晶圆推力测试机半导体推拉力测试机

芯片推拉力测试机具有测试动作迅速、准确、适用面广的特点,被广泛应用于半导体封装、光通讯器材件封装、LED封装、COB/COG工艺测试、研究所材料力学研究、材料可靠性测试等应用领域。能满足包含有:金属、铜线、合金线、铝线、铝带等拉力测试、金球、铜球、锡球、晶圆、芯片、贴片元件等推力测试、锡球、Bump

半导体展会|2024上海硅晶圆展览会「上海半导体展」

展会名称:2024中国(上海)国际半导体展览会英文名称:China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间:2024年11月18-20日 论坛时间:2024年11月18-19日 展会地点:上海新国际

晶圆切割设备——晶圆切割机的原理?

  芯片切割机是非常精密之设备,其主轴转速约在30,000至 60,000rpm之间,由于晶粒与晶粒之间距很小而且晶粒又相当脆弱,因此精度要求相当高,且必须使用钻石刀刃来进行切割,而且其切割方式系采磨削的方式把晶粒分开。由于系采用磨削的方式进行切割,会产生很多的小粉屑,因此 在切割过程中必须不断地用

复合半导体纳米线成功整合在硅晶圆上

  据美国物理学家组织网11月9日报道,美国科学家开发出一种新技术,首次成功地将复合半导体纳米线整合在硅晶圆上,攻克了用这种半导体制造太阳能电池会遇到的晶格错位这一关键挑战。他们表示,这些细小的纳米线有望带来优质高效且廉价的太阳能电池和其他电子设备。相关研究发表在《纳米快报》杂志上。   III—

单晶炉:半导体晶圆制造的头道工序设备

半导体设备在整个半导体行业中扮演着重要的支撑角色。由于半导体制造工艺的复杂性,不同的工序需要不同的设备。从流程工序的分类来看,半导体设备主要可以分为晶圆制造设备(前道工序)和封装测试设备(后道工序)等。本文是半导体设备专题栏目的第一篇文章,主要介绍晶圆制造的头道工序设备——单晶炉。直拉式单晶硅生长炉

单晶炉:半导体-晶圆制造的头道工序设备

半导体设备对整个半导体行业起着重要的支撑作用。因半导体制造工艺复杂,各个环节需要的设备也不同,从流程工序分类来看,半导体设备主要可分为晶圆制造设备(前道工序)、封装测试设备(后道工序)等。本文是半导体设备专题栏目的第 1 篇文章,介绍晶圆制造的头道工序设备——单晶炉。直拉式单晶硅生长炉是一种高效率制

单晶炉:半导体-晶圆制造的头道工序设备

半导体设备对整个半导体行业起着重要的支撑作用。因半导体制造工艺复杂,各个环节需要的设备也不同,从流程工序分类来看,半导体设备主要可分为晶圆制造设备(前道工序)、封装测试设备(后道工序)等。本文是半导体设备专题栏目的第 1 篇文章,介绍晶圆制造的头道工序设备——单晶炉。直拉式单晶硅生长炉是一种高效率制

「官网」2025深圳13届国际半导体晶圆制造展「半导体展会」

「官网」2025深圳13届国际半导体技术展「半导体展会」展会时间:2025年4月9日-11日论坛时间:2024年4月9日-11日举办地点:深圳福田会展中心 (深圳市福田中心区福华三路)展会规模: 面积10万平米,展商1800余家,展位3600多个,观众近10万人次展会报名:136 (李先生)中间四位

「官网」2025深圳13届国际半导体晶圆制造展「半导体展会」

「官网」2025深圳13届国际半导体技术展「半导体展会」展会时间:2025年4月9日-11日论坛时间:2024年4月9日-11日举办地点:深圳福田会展中心 (深圳市福田中心区福华三路)展会规模: 面积10万平米,展商1800余家,展位3600多个,观众近10万人次展会报名:136 (李先生)中间四位

2025深圳13届国际晶圆级封装展「半导体展会」

官网」2025深圳13届国际半导体技术展「半导体展会」展会时间:2025年4月9日-11日论坛时间:2025年4月9日-11日举办地点深圳福田会展中心 (深圳市福田中心区福华三路)展会规模: 面积10万平米,展商1800余家,展位3600多个,观众近10万人次展会报名:136 (李先生)中间四位数:

晶圆产能遭遇瓶颈-比亚迪半导体本次上市宣告终止

近日,比亚迪公告称终止推进子公司比亚迪半导体本次分拆上市事项,后者拟开展大规模晶圆产能投资建设,以应对车规级功率半导体模块产能瓶颈。11月15日,比亚迪董事会审议通过《关于终止分拆所属子公司比亚迪半导体股份有限公司至创业板上市的议案》,宣布终止推进比亚迪半导体此次分拆上市事项,并撤回相关上市申请文件

「官网」2025深圳13届国际半导体晶圆制造工艺展「半导体展会」

「官网」2025深圳13届国际半导体技术展「半导体展会」展会时间:2025年4月9日-11日论坛时间:2024年4月9日-11日举办地点:深圳福田会展中心 (深圳市福田中心区福华三路)展会规模: 面积10万平米,展商1800余家,展位3600多个,观众近10万人次展会报名:136 (李先生)中间四位

硅晶圆展|2024年上海硅晶圆展览会

展会名称:2024中国(上海)国际半导体展览会英文名称:China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间:2024年11月18-20日 论坛时间:2024年11月18-19日 展会地点:上海新国际

晶圆搬送机的晶圆卡匣装置的制作方法

   半导体晶圆由于需经过各种不同流程的处理且需配合工艺设备,因此会被搬运到不同的工作站。为了方便晶圆的搬运且避免受到外力碰撞,会将多个晶圆收纳于晶圆暂存卡匣中。  一般来说,晶圆暂存卡匣内设置有逐层排列的多个插槽可水平容置多个晶圆,且其一侧面具有一开口可供晶圆的载出及载入。再者,于开口处亦设置有可

半导体乍暖还寒-降价潮席卷晶圆代工厂

  半导体晶圆代工降价潮开始从二线厂向一线蔓延,从成熟制程向先进制程扩散。  台积电7nm制程降价,降幅5%-10%左右,以缓解产能利用率下滑的状况。  此前曾有消息指出,台积电明年将针对部分成熟制程恢复价格折让,折让幅度在2%左右,但当时代工价格并未调降,价格折让主要是在光罩费用折抵,本次的7nm

2024北京半导体展|2024北京晶圆制造及封装展览会

2024中国(北京)国际半导体展览会时 间:2024 年 9 月 5 一 7 日地 点:中国·北京 · 北人亦创国际会展中心参展咨询:021-5416 3212大会负责人:李经理 136 5198 3978(同微)地点:北京 · 北人亦创国际会展中心2024中国(北京)国际半导体博览会”将于2024

水滴角测量仪应用芯片半导体行业(晶圆wafer)的关键

半导体芯片行业特别是晶圆制程中对于清净度的要求非常高,只有符合要求的晶圆才可视为合格品。作为测试等离子清洗效果评估的唯一手段,水滴角测量仪是评估晶圆品质的最有效的工具。2018年以来,中国的芯片行业得到了迅速发展,因而,对于水滴角的测试提出了更高要求。根据水滴角测试基本原理:固体样品表面因本身存在的

晶圆切割设备的目的

  晶圆切割的目的,主要是要将晶圆上的每一颗晶粒(Die)加以切割分离。首先要将晶圆(Wafer)的背面贴上一层胶带(Wafer Mount),之后再将其送至晶圆切割机加以切割。切割完后,一颗颗的晶粒会井然有序的排列黏贴在胶带上,同时由于框架的支撑可避免晶粒因胶带皱褶而产生碰撞,而有利于搬运过程。此

晶圆清洗设备的前景

  预计未来几年,全球晶圆清洁设备市场将以可观的复合年增长率增长。诸如MEMS,PCB,存储设备,IC和半导体晶圆之类的组件是任何电子设备的基本构建块。电子设备的性能主要取决于单独组件的性能。此外,由于这些组件相对较小,杂质会极大地影响其可靠性和性能。微电子清洗在任何电子设备的有效工作中都起着至关重

晶圆测试与探针台

  晶圆测试是在半导体器件制造过程中执行的一个步骤。在此步骤中,在将晶圆送至芯片准备之前执行,晶圆上存在的所有单个集成电路都通过对其应用特殊测试模式来测试功能缺陷。晶圆测试由称为晶圆探针器的测试设备执行。晶圆测试过程可以通过多种方式进行引用:晶圆最终测试 (WFT)、电子芯片分类 (EDS) 和电路

晶圆如何通过testkey监控

晶圆特性测试系统由测试仪(tester)与探针台(prober)共同组成,探针台上具有包括多个探针的探针卡,在测试之前的第一步是将探针卡上的探针扎到零点testkey对应的焊垫(pad)上,扎针动作由探针台主导;第一步扎针完成之后,需要在探针台侧进行人工确认扎针对应的零点testkey位置和针迹效果

半导体展会|2024上海硅晶圆及IC封装载板展览会「上海半导体展」

展会名称:2024中国(上海)国际半导体展览会英文名称:China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间:2024年11月18-20日 论坛时间:2024年11月18-19日 展会地点:上海新国际

2024北京硅晶圆展|2024第21届北京半导体展览会

2024第二十一届中国国际半导体博览会(IC China)时 间:2024 年 9 月 5 一 7 日地 点:中国·北京 · 北人亦创国际会展中心参展咨询:021-5416 3212大会负责人:李经理 136 5198 3978(同微)(IC China)自2003年起已连续成功举办二十届,是我国半

晶圆切割设备的切割方法

  目前,硬脆材料切割技术主要有外圆切割、内圆切割和线铭切割。外圆切割组然操作简便,但据片刚性差,切割过程中锯片易跑偏.导致被切割工们的平行度差:而内圆切割只能进行直线切割.无法进行曲面切割.线锯切割技术具有切缝窄、效率高、切片质量好、可进行曲线切别等优点成为口前广泛采用的切割技术。  内圆切割时晶

VCSEL晶圆探针台招标项目

标讯类别: 国内招标招标编号:资金来源: 其他招标人:开标时间:招标代理:  VCSEL晶圆探针台招标项目的潜在投标人应在网上报名获取招标文件,并于2023年07月10日 14时00分(北京时间)前在线递交投标文件。逾期提交的投标文件恕不接受。本项目电子投标文件最大容量为100MB,超过此容量的文件

半导体所等实现晶圆级高质量InAs纳米结构的维度调控

   最近,国际期刊《纳米快报》(Nano Letters, DOI: 10.1021/acs.nanolett.8b04561)报道了中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室研究员赵建华团队与合作者在晶圆级高质量InAs纳米结构维度调控方面的最新研究成果。  InAs是一种重要的III-V

AML晶圆键合机共享应用

仪器名称:晶圆键合机仪器编号:13003988产地:英国生产厂家:AML型号:AWB-04出厂日期:201208购置日期:201303所属单位:集成电路学院>微纳加工平台>封装工艺放置地点:微电子所新所一楼微纳平台固定电话:固定手机:固定email:联系人:郑瑶(010-62798268,13811