纳米压印光刻（NIL）技术取得重大进展
纳米压印光刻是一种直接机械图案化的纳米制造技术，通过模具与可变形抗蚀剂接触，将预设结构转印到基底。与传统依赖光学或电子束曝光的光刻不同，NIL的特征由模具几何决定，不受光学衍射限制，因此可实现亚十纳米特征复制，并去除昂贵的光学投影系统与高能光源，显著降低资本与运维成本，同时兼容硅、熔融硅、镍与弹性体等多种模具材料。 核心数据方面，现代系统通过膜式或卷对卷机制先以点、线接触再实现全 conformal 接触，将 alignment 精度维持在十纳米以内，压力范围约十千帕至十兆帕，最大限度减少夹气并保证均匀受压。Jet-and-Flash压印光刻采用步进重复，喷墨分配液相抗蚀剂、液相对准、紫外固化后脱模，融合硅石 stamp 具工程柔性，目标吞吐超每小时一百片晶圆，且具纳米级对准精度，适合大批量制造。 实验流程为：先用电子束光刻制备纳米图案模具（覆抗粘层以便洁净脱模），在基底旋涂均匀聚合物抗蚀剂；模具在压力下使抗蚀剂经机械变形与毛......阅读全文
纳米压印光刻（NIL）技术取得重大进展
纳米压印光刻是一种直接机械图案化的纳米制造技术，通过模具与可变形抗蚀剂接触，将预设结构转印到基底。与传统依赖光学或电子束曝光的光刻不同，NIL的特征由模具几何决定，不受光学衍射限制，因此可实现亚十纳米特征复制，并去除昂贵的光学投影系统与高能光源，显著降低资本与运维成本，同时兼容硅、熔融硅、镍与弹性
光刻技术与纳米光刻简介
距离理查德·菲利普斯·费曼著名的演讲“There’s plenty of room at the bottom”有将近60年历史。在他的论文中，他曾问到：“我们怎么样写小？”在今天的科学技术研究中，仍有同样的问题。虽然自上世纪60年代以来，科研技术已经大大进步，半导体行业中使用的线宽已经大幅度下
光刻技术与纳米光刻简介
距离理查德·菲利普斯·费曼著名的演讲“There’s plenty of room at the bottom”有将近60年历史。在他的论文中，他曾问到：“我们怎么样写小？”在今天的科学技术研究中，仍有同样的问题。虽然自上世纪60年代以来，科研技术已经大大进步，半导体行业中使用的线宽已经大幅度下
光刻技术与纳米光刻简介
距离理查德·菲利普斯·费曼著名的演讲“There’s plenty of room at the bottom”有将近60年历史。在他的论文中，他曾问到：“我们怎么样写小？”在今天的科学技术研究中，仍有同样的问题。虽然自上世纪60年代以来，科研技术已经大大进步，半导体行业中使用的线宽已经大幅度下
紫外纳米压印光刻机提升我国微纳级制造业能力
记者日前从中科院光电技术研究所获悉，该所微电子专用设备研发团队已自主研制出一种新型紫外纳米压印光刻机，其成本仅为国外同类设备1/3，将有力推进我国芯片加工等微纳级结构器件制造水平迈上新的台阶。 光刻机是微纳图形加工的专用高端设备。光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍，这套设备采用新型纳米对准
欧盟纳米压印光刻技术实现低成本批量生产感应薄膜
纳米结构传感器阵列（NSA），以其在单一检测装置有效检测样品中分子或分子一部分的大面积多参数传感优势，而在制药业、环保等其它行业得到广泛应用。但直到目前，其实验室规模小批量生产导致相对较高的制造成本，一定程度上限制了新兴技术在更大范围内的商业化推广应用。欧盟第七研发框架计划（FP7）提供490
28纳米光刻机如何生产5纳米芯片
28纳米光刻机作为先进半导体芯片制造中的重要设备之一，其本身的生产工艺无法支持5纳米的芯片生产。但是，通过使用一系列先进的制造技术和调整设备参数等手段，可以将28纳米光刻机用于5纳米芯片生产。主要方法包括以下几个方面：1. 使用多重曝光技术：将同一影像进行多次叠加曝光，在不同的位置形成复杂图形，在提
光刻技术首次绘出银纳米结构
德国柏林亥尔姆茨材料和能源研究中心与联邦材料测试与研究机构合作，首次在银材料底层上完成光刻纳米结构，为未来光计算机数据处理、新型电子器件制造开辟了新的途径。这项成果刊登在美国化学学会的《应用材料和界面》杂志上。 要想在材料表面获得精细结构图样，最佳选择是采用电子显微镜扫描技术，利用电子束在其
美开发出热蘸笔纳米光刻技术
据美国物理学家组织网11月7日报道，美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用，据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能在物质表面构造大小为20纳米的结构。借助这一技术，科学家们能廉价地在多种材料表面构造和种植出纳米结构，用以制造电路和化学传感器，或者研究药物如何依附于蛋白质和病
我国纳米光刻技术研究取得突破
日前，中科院光电技术研究所微光刻技术与微光学实验室首次提出基于微结构边际的LSP超分辨光刻技术。该技术利用微纳结构边际作为掩模图形，对表面等离子体进行有效激发，其采用普通I-line、G-line光源获得了特征尺寸小于30纳米的超分辨光刻图形。 据相关负责人介绍，传统的微光刻工艺采用尽可能
几秒内！显微镜投影光刻实现高分辨率制造
最新发表在《光：先进制造》上的一篇新论文中，德国汉诺威莱布尼茨大学科学家开发了一种低成本且用户友好的制造技术——基于UV—LED的显微镜投影光刻（MPP），能在几秒钟内以快速高分辨率制造光学元件。这种方法能在紫外光照射下，将光掩模上的结构图案转移到光刻胶涂层的基板上。A：采用基于UV—LED的显
巧用沾笔纳米光刻技术获得超材料
沾笔纳米光刻工艺示意图 你或许没有想过将坚硬的金属或半导体与柔软的有机物或生物产品结合起来会是何种情景，不过美国科学家可以告诉你的是，他们获得了自然界从没有见过的混合材料，而这些混合材料在医学和制造业中将具有惊人的应用前景。 美国佛罗里达州立大学综合纳米研究所（INSI）的科学家
新型光刻机提升微纳实用制造水平
中科院光电技术研究所微电子专用设备研发团队，近日自主研制成功紫外纳米压印光刻机。该机器将新型纳米压印高分辨力光刻技术与紫外光刻技术有机结合，成本仅为国外同类设备的1/3，并在同一加工平台上实现了微米到纳米级的跨尺度图形加工，使我国微纳实用制造水平迈上新的台阶。 光刻机是实现微纳图形加工的专用高
21年来首次！佳能扩产光刻机设备！
据日经新闻报道，佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量，将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。报道称，佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，目标将当前产能提高一倍，总投资额超过500亿日元（约3.45亿美元），工厂计划在2023年动工，2025年开始运营。光刻是半导体电路形成不可或缺的核心技术
一文盘点当前微纳加工技术
微纳加工技术指尺度为亚毫米、微米和纳米量级元件以及由这些元件构成的部件或系统的优化设计、加工、组装、系统集成与应用技术，涉及领域广、多学科交叉融合，其最主要的发展方向是微纳器件与系统（MEMS和NEMS）。微纳器件与系统是在集成电路制作上发展的系列专用技术，研制微型传感器、微型执行器等器件和系统
光电所在基于纳米压印技术纳米球碗阵列制备中取得进展
纳米结构由于在众多领域的应用潜能引起了越来越多的关注，如光催化、生物传感、电磁学和超疏水材料等方面。目前先进的纳米结构加工技术包括电子束曝光、聚焦离子束直写、探针直写技术等。这些加工方法可以制备出高分辨率的纳米结构，但是较低的加工效率和高额的加工成本使得大规模生产仍然是一个巨大挑战。 中国科学
澳大利亚研制纳米电子束曝光系统
据澳大利亚莫纳什大学网站报道，澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之——电子束曝光系统(EBL)。该系统可标记纳米级的物体，还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。 电子束曝光技术可直接刻画精细的图案，是实验室制作微小纳米电子元件的最佳选择。这款耗资数百万美元的曝光系统将
精密仪器“印”出来－纳米压印技术可应用于高端制造
半导体工艺替代传统机床 在位于城阳区兴阳路上的青岛博士创业园里，宛天巍手里拿着一个巴掌大小的展示板，给客户展示精密仪器印刷术的成果——亚毫米级精密零件。在这个展示板上，精致地排列着各种很小的零部件，看起来只有小拇指甲的十分之一大小。“这些都是我们用纳米压印技术方法制造的超精密手表零件，按照传统
复旦大学研发半导体性光刻胶，实现特大规模集成度芯片制造
复旦大学高分子科学系设计了一种新型半导体性光刻胶，成功在全画幅芯片上集成2700万个有机晶体管，实现特大规模集成度（ULSI）。 据复旦大学高分子科学系消息，该校研究团队设计了一种新型半导体性光刻胶，利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了 2700 万个有机晶体管并实现了互连，集成度达到特大规模
桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟
美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，并结合新型三维纳米打印技术，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。研究团队表示，除芯片制造外，该技术还有望应用于纳米药物、量子计算和新材料合成等领域。相关研究发表于新一期《纳米快报》。
纳米压印重大项目入驻北京纳米科技产业园
在北京市科委的积极推动下，8月16日，美国工程院院士、普林斯顿大学终身教授周郁团队纳米压印LED图形衬底产业化项目与北京纳米科技产业园签订意向入驻协议，这是继纳米绿色印刷、超顺排碳纳米管项目入园之后的又一重量级项目，为北京纳米科技产业园建成全国纳米科技创新高地书写新的华章。北京市科委副主任张继红
电子束光刻相关介绍
电子束曝光（electron beam lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。 光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短，光刻能够达到的精度越高。根据德布罗意的物质波理论，电子是一种波长极短的波。这样，电子束曝光的精度可以达到纳
微纳3D打印，更精准更宏观
飞秒激光直写无机纳米结构的光场分布示意图。（郑美玲提供） 飞秒激光被用于眼科手术治疗近视，已经为人熟知。 但它能做得远不止于此。飞秒激光直写作为一种有效的三维微纳精细加工技术，可以在多种透明光学材料中实现微小型
微纳3D打印，更精准更宏观
飞秒激光直写无机纳米结构的光场分布示意图。（郑美玲提供） 飞秒激光被用于眼科手术治疗近视，已经为人熟知。 但它能做得远不止于此。飞秒激光直写作为一种有效的三维微纳精细加工技术，可以在多种透明光学材料中实现微小型
科学家研制出绿色太阳能电池板
太阳能电池板在提供价格实惠的可再生能源方面拥有巨大潜力，但很多人觉得，传统的黑色和蓝色电池板很难看。如果能安装融入景观的绿色电池板、可放在屋顶上的红色电池板以及伪装成墙壁的白色电池板，建筑设计师、业主和城市规划者可能会更加欢迎这项技术。 一项日前发表于美国物理联合会下属《应用物理学杂志》的最新
科学家研制出绿色太阳能电池板
太阳能电池板在提供价格实惠的可再生能源方面拥有巨大潜力，但很多人觉得，传统的黑色和蓝色电池板很难看。如果能安装融入景观的绿色电池板、可放在屋顶上的红色电池板以及伪装成墙壁的白色电池板，建筑设计师、业主和城市规划者可能会更加欢迎这项技术。 一项日前发表于美国物理联合会下属《应用物理学杂志》的最
复旦团队实现特大规模集成度有机芯片制造
7月4日，复旦大学高分子科学系、聚合物分子工程国家重点实验室研究员魏大程团队设计了一种功能型光刻胶，利用光刻技术，在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连，达到特大规模集成度（单片集成器件数量大于221）水平，且高密度阵列可以转移到柔性衬底上，可实现仿生视网膜应用。相关研究发表于《
化学所纳米粒子精确图案化组装研究取得进展
纳米粒子作为构筑精细结构和器件的基本材料单元，在光电器件等领域具有巨大的应用前景。因而纳米粒子的精确组装与图案化组装成为纳米科技研究领域的一个热点。 在国家自然科学基金委、科技部和中国科学院的大力支持下，中国科学院化学研究所绿色印刷重点实验室和有机固体重点实验室的科研人员在纳米粒子制备、组装和
利用三维飞秒激光光刻技术制备纳米晶体结构
材料本身的光学性质不仅取决于其化学性质，还取决于其亚波长结构。由此而来的诸如光子晶体和超材料等，拓展了人们对于光学结构和光学材料的认识，展现出不同于自然材料的新奇现象和功能。然而，在过去的研究中，光学晶体的纳米结构集中于材料的二维表面。这是因为应力诱导的裂纹形成和传播使得高精度的三维体积加工具有
STEM在金属“墨水”上书写图案－宽度不到发丝一半
近日，美国能源部橡树岭国家实验室的科学家，首次利用扫描式投射显微镜直接在金属“墨水”中书写图案，且图案宽度还不到人头发丝的一半。 自动化过程的控制是将STEM设备中电子束聚焦到充满液体的区域，使金属沉积在硅微芯片来实现的，沉积得到的图案尺寸是纳米级别或是原子、分子级别。 通常来说，纳米图案