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我自主知识产权硅基液晶显示芯片投产

全球第三条硅基液晶微型虚拟显示芯片设计、制造及其液晶屏封装生产线,在深圳建成投产。这标志着我国拥有自主知识产权研发生产的硅基液晶显示芯片结束了内地虚拟显示核心器件完全依赖进口的历史,也标志着深圳长江力伟跻身世界三大掌握硅基液晶显示芯片技术的公司之列。 硅基液晶是液晶显示技术与半导体大规模集成电路工艺技术有机结合的新型显示技术。硅基液晶显示技术的应用产品,可将丰富多彩但通过传统平面显示技术无法体现的影像信息,立体全息地展示出来,让人们充分体验到新型显示技术带来的便利和快乐。可广泛应用于通讯、娱乐等电子消费领域,典型产品包括LCOS微型虚拟投影机,具有投影功能的手机、照相机等,能够让消费者直接从便携电子产品中投影出静态照片、动态影片或者演示文稿资料,把人手一机的数字装置从目前只能个人独享进化为与人分享。此外还可广泛应用于医疗、教育等领域,主要产品包括手术显微镜、可佩戴式B超仪、便携式移动显示教学设备等,以及用于安防、治安和......阅读全文

如何正确地选择空间光调制器?(一)

在光通信、显微和望远等成像系统、自适应光学、光镊等许多应用领域中,都会涉及到光相位的调制,这时就需要用到一种新型的可编程光学仪器——空间光调制器。空间光调制器是采用LCOS(Liquid Crystal On Silicon, 硅基液晶)芯片来调节光波前的振幅或相位的光学器件。LCOS芯片是由液

质谱/光谱/能谱等分析检测技术入选产业关键共性技术

  四、消费品工业   (一)纺织   1. 仿棉聚酯纤维及其纺织品产业化技术   主要技术内容:   通过仿棉PET、PTT分子结构与体系组成的设计优化、高比例改性组分在线添加与高效分散、亲水聚酯体系稳定纺丝、纤维形态与力学性能调控等关键技术攻关开发,解决超仿棉聚酯纤维吸湿透汽、抗起毛

想洞悉细胞线粒体内部精细结构?SIM超分辨技术有话讲!

生物圈的小伙伴肯定还记得前段时间的一则刷屏新闻:北京大学陈良怡教授团队和华中科技大学谭山教授团队合作,成功发明了一种新型结构光照明超分辨显微成像技术——海森结构光照明显微镜。研究成果于高水平学术期刊Nature Biotechnology(IF=41.67)进行了发表。之所以轰动,是因为该技

细胞线粒体内部精细结构研究(二)

2、改良了传统SIM方法产生衍射光栅的方法2D-SIM成像需要通过产生两束互相干涉的光来形成三种不同偏振方向,且光强在空间上呈正弦变化的结构光。在传统的SIM成像方法中,这一过程除了要依靠液晶硅基的空间光调制器(LCOS-SLM)对光相位进行调制之外,还需要一种特殊的光学器件来改变光的偏振方向——旋

工信部印发产业关键共性技术发展指南 包含色谱和传感器

  分析测试百科网讯 近日,工业和信息化部组织修订了《产业关键共性技术发展指南(2015年)》(以下简称指南),并印发。指南在仪器仪表类中对色谱类分析仪器的关键制造技术、工业控制巨磁电阻传感器微型化和集成化技术、硅基压力传感器无引线封装制造技术、DCS/PLC冗余设计关键技术等做出了技术内容指南,如

科技部公布2015年国家科学技术奖初评结果

  分析测试百科网讯 今日,科技部网站发布2015年度国家科学技术奖初评结果。初评共通过46项国家自然科学奖项目、50项国家技术发明奖通用项目和141项国家科学技术进步奖通用项目(含3个创新团队),另有17项国家技术发明奖专用项目和45项国家科学技术进步奖专用项目。公开发布的文件显示,与分

ElliTOP量拓:椭偏测量的开拓者

  光偏振现象的应用在日常生活中无处不在,比如液晶显示屏、3D眼镜等;在光伏、纳米、半导体芯片等高端制造中,也常用到一种利用光偏振现象的仪器,那就是椭偏仪,它最拿手的就是测量纳米级薄膜的厚度、折射率、消光系数等参数。椭偏仪为非接触

2011年度北京市电子显微学年会在国家图书馆成功举行

  2011年12月21日,北京市电子显微学年会在国家图书馆顺利举行。本届年会由北京市电镜学会和北京理化分析测试技术学会主办,旨在推动北京及周边省市广大电子显微学的学术及技术水平,促进电子显微学工作者在材料科学、生命科学等领域的应用、发展和交流。来自科研院所、高等院校、仪器耗材厂商的200余位专家学

中国化工新材料产业到底有多厉害?

  材料是人类一切生产和生活的物质基础,历来是生产力的标志,对材料的认识和利用的能力,决定社会形态和人们的生活质量。新材料则是战略新兴产业发展的基石。新材料种类  一、我国新材料产业现状我国新材料生产情况  几乎所有的新材料我国都能够生产并且正在生产,包括:  高性能工程材料  POK聚酮、PPO聚

一文读懂半导体制程技术进步的“燃料”——光刻胶

  一文读懂半导体制程技术进步的“燃料”——光刻胶   光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。依据