东方超环中性束注入系统成功引出3兆瓦离子束

近日,中科院合肥物质科学研究院等离子体所承担的大科学工程“东方超环”(EAST)辅助加热中性束注入系统(NBI)兆瓦级强流离子源分别完成了氢离子束功率3兆瓦(MW)、脉冲宽度毫秒500(ms)的高能量离子束引出实验,以及束功率1MW、脉冲宽度4s的长脉冲离子束引出实验。本轮实验获得的束能量和功率在国内实属首次,实验结果接近项目设计指标。 中性束注入系统是国家发改委大科学工程“东方超环”(EAST)辅助加热项目的两大辅助系统之一,完全由我国自行研制。中性束注入系统研究涵盖了精密的强流离子源、高真空、低温制冷、高电压及隔离技术、远程测控及等离子体和束诊断等多个科学技术领域。NBI团队的科研人员在一个多月的调试中,分别获得了束能量50keV、束流20A、束功率1MW、脉冲宽度4s的长脉冲离子束引出和束能量80keV、束流38A、脉冲宽度500ms的高能量离子束引出,离子束功率达到3MW;目前最长引束时间达到8秒。......阅读全文

Zeiss-FIB聚焦离子束-共享

仪器名称:聚焦离子束 Zeiss FIB仪器编号:16005806产地:德国生产厂家:蔡司型号:Auriga出厂日期:201506购置日期:201603所属单位:材料学院>材料中心 >电镜中心放置地点:主楼东配楼11-112固定电话:固定手机:固定email:联系人:王永力(010-62773015

聚焦离子束(FIB)技术介绍

1.引言     随着纳米科技的发展,纳米尺度制造业发展迅速,而纳米加工就是纳米制造业的核心部分,纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离子束(FIB)技术利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工,配合扫描电镜(SEM)等高倍数电子显微镜实时观察,成为了纳米级分析、制造的主要方法。目

什么是离子源?

  离子源(英文名称:Ion source)是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。  气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞,带电粒子束使

什么是离子源

离子源是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。

离子源如何清洗

离子源的清洗方法为:对金属的清洗和非金属部件的清洗。对金属部件来说,首先用棉签湿水后沾上专门的氧化铝粉(菲林跟有配)来摩擦金属部件。注意不要让氧化铝粉干燥!氧化铝粉洗完后,用水浸泡金属部件,然后超声15分钟,然后把水倒掉,用丙酮浸泡,再超声15分钟,烘干就可。对于非金属部件,就免掉吵声这一步骤。离子

常用离子源详解

电子轰击电离(Electron Impact Ionization, EI)质谱中最常用的离子源,一般为70 eV的电子束,远大于大多数有机化合物的电离电位(7~15 eV),会使相当多的分子离子进一步裂解,产生广义的碎片离子。优点:1)结构简单,稳定,电离效率高,易于实现;2)质谱图再现性好,便于

“人造太阳”逐日梦-“聚变合肥”加速度

11月28日,记者从中科院合肥物质科学研究院获悉,国家“十三五”重大科技基础设施——“聚变堆主机关键系统综合研究设施”(CRAFT)建设主体工程“进度条”正全力推进,关键子系统和大型测试平台研制取得阶段性重要进展。CRAFT建设从子系统的实验室研发测试阶段进入到了部分关键部件的研制和现场集成及调试阶

中国科学家孙良亭获首届瑞查得杰勒奖

在美国芝加哥日前举行的第18届国际电子回旋共振(ECR)离子源会议上,中国科学院近代物理研究所副研究员孙良亭因其在全永磁ECR离子源技术方面的杰出贡献,获得首届“瑞查得杰勒奖”。 ECR离子源是产生高电荷态强流离子束最有效的装置,在加速器、核物理、原子物理、表面物理及半导体工业等领域有很广泛的应用。

TEM制样聚焦离子束法

聚焦离子束法适用于半导体器件的线路修复和精确切割。聚焦离子束系统(FIB),利用源自液态金属镓的离子束来制备样品。通过调整束流强度,FIB可以对样品的指定区域进行快速和极精细的加工。其汇聚扫描方式可以是矩形、线形或点状。FIB可以制备供扫描透射电镜观测用的各种材料的薄膜样品。

聚焦离子束技术(FIB)技术应用

   聚焦离子束技术(Focused Ion beam,FIB)是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表面,实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。随着纳米科技的发展,纳米尺度制造业发展迅速,而纳米加工就是纳米制造业的核心部分,纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离

Zeiss-FIB聚焦离子束共享应用

仪器名称:聚焦离子束 Zeiss FIB仪器编号:16005806产地:德国生产厂家:蔡司型号:Auriga出厂日期:201506购置日期:201603所属单位:材料学院>材料中心 >电镜中心放置地点:主楼东配楼11-112固定电话:固定手机:固定email:联系人:王永力(010-62773015

离子注入机的结构组成

  离子注入机由5部分组成:离子源、离子引出和质量分析器、加速管、扫描系统、工艺腔。  1、离子源  离子注入机利用离子源中灯丝产生的热电子在电场的作用下轰击气体分子,使之电离。待注入的杂质源如果是气态,便可以直接引入到离子源的电场中,如果是固态,则还需加热蒸发,变为气相后引入到这个电场中。气相的杂

原位电性能测试

 聚焦离子束(Focused Ion beam, FIB)的系统是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微切割仪器。目前商用系统的离子束为液相金属离子源,金属材质为镓(Ga),因为镓元素具有低熔点、低蒸气压及良好的抗氧化力;典型的离子束显微镜包括液相金属离子源、电透镜、扫描电极、二次粒子侦测器、5

第十九届回旋加速器及应用国际会议在兰州召开

  第19届回旋加速器及应用国际会议(The 19th International Conference on Cyclotrons and Their Applications)于9月6日至10日在兰州召开。会议由中科院近代物理研究所主办,来自21个国家、50多所研究机构的170多

如何强清洗离子源

清洗离子源的程序从工作站中tune and vacuum/vacuum/power-on temps将离子源和四极杆温度设为0 ,拆卸离子源用专用绿色砂纸或三氧化二铝粉(用无水乙醇混成糊状)打磨除灯丝及螺丝外的金属零件表面,特别注意离子轨道内各部分。用水仔细冲洗HPLC级甲醇清洗,再用二氯甲烷清洗,

离子源加热的问题

现象:      今天我更换5975的离子源,换上一个清洗过的离子源,刚开始抽真空时便嗅到一股强烈的塑料烧焦的味道从MSD中传出,打开instrument control界面时发现离子源温度显示为511摄氏度随后离子源报错。放真空后重新安装离子源后,再抽真空又能嗅到强烈的焦味,检查真空状态时仍显示离

质谱仪离子源的清洗

    1、降低接口温度、离子源温度、四极杆温度(以四极杆质谱仪为例),关闭质谱仪电源。  2、打开卸压阀,缓慢卸压到常压。  3、打开离子源舱门(此步骤开始最好佩带口罩以及不掉毛手套)。  4、使用专用工具按照拆卸步骤将离子源整体取出放置在的清洗台面。  5、使用专用工具将离子源各部件一一拆开,分

质谱仪离子源的维护

离子源的维护离子源的维护主要是离子源的清洗。这里以目前较为常用的ESI离子源为例,简单阐述其清洗要点,ESI离子源的清洗非常重要一般情况下,每隔几天就需对离子源进行一次清洗。各个仪器厂家的ESI离子源虽然存在一定差别,但清洗的方法却大同小异。首先是离子源的拆卸,每个仪器厂商的离子源耦合到质谱上的方式

高辉度离子源

  随着中国汽车工业的迅猛发展,汽车产量和保有量年年上升。根据国家相关法律法规规定,为了保障人民的财产安全,汽车到了一定的使用年限必须报废,我国2016年汽车产量为2000多万辆,由此可见报废汽车对带来的环境与资源压力日益严重。为了减少报废汽车对生态环境的破坏,保护人体健康安全,提高整个汽车产业链的

质谱常用离子源

  无信号/荧光强度弱  不正确的信号补偿:检查流式细胞仪阳性单一颜色对照是否正确,通道和补偿设置是否能正确地捕获所有粒子;没有足够的抗体来检测:增加抗体的量/浓度;无法接近细胞内目标:检查目标蛋白是否在细胞内。  对于胞内染色,确保有足够的通透性。为防止细胞表面蛋白质的内化,该过程应用冰冷的试剂,

质谱常用离子源

  最常用的离子源五种离子源为电子轰击源(EI)、化学电离源(CI)、电喷雾电离源(ESI)、大气压化学电离源(APCI)和基质辅助激光解吸电离源(MALDI)。目前我们所测试中心配备的主要是电子轰击源(EI)、电喷雾电离源(ESI)和大气压化学电离源(APCI)。那么我们配备的离子源的离子化原理及

二次离子质谱仪原理简介

二次离子质谱仪原理简介二次离子质谱仪(Secondary Ion Mass Spectrometry, SIMS)又称离子探针(Ion Microprobe),是一种利用高能离子束轰击样品产生二次离子幵迚行质谱测定的仪器,可 以对固体或薄膜样品迚行高精度的微区原位元素和同位素分析。由于地学样品的复杂

离子源的作用是什么,试述几种常见离子源的原理

离子源的作用是什么,试述几种常见离子源的原理利用稀薄气体中的高频放电现象使气体电离,一般用来产生低电荷态正离子,有时也从中引出负离子,作为负离子源使用。在高频电场中,自由电子与气体中的原子(或分子)碰撞,并使之电离。带电粒子倍增的结果,形成无极放电,产生大量等离子体。高频离子源的放电管一般用派勒克斯

离子源可不能污啊!详细拆分离子源清洗步骤!

  一、离子源清洗准备工作  1. 按照硬件说明书拆卸离子源。  2. 重要的是所有陶瓷片、入口和离子聚焦镜绝缘体,离子加热块,所有的螺母和灯丝都应该放置在一张干净,无纤维材料(例如经过溶剂洗涤的或火焰处理过的锡纸)上,并且避免与任何溶剂接触。  3. 将金属元件分离开来有助于更加容易地清洗离子源。

聚焦离子束(FIB)直写技术研究

现代半导体制造业迅速发展,对产品的质量要求越来越高,对相关的微分析技术的要求也越来越高。除了IC 制造以外,纳米结构在新元件上应用越来越多,特别是纳米光子和纳米光学。聚焦离子束(Focused Ion Beam,FIB)系统是在常规离子束和聚焦电子束系统研究的基础上发展起来的,除具有扫描电子显微镜具

液质联用的离子束接口介绍

  离子束接口( particle-beam interface,PB ) 是从单分散 气溶胶界面(monodisperse aerosol generating interface for chromatography, MAGIC)发展来的。该接口将液相色谱的流动相在 常压下借助气动雾化产生气溶

聚焦离子束加工中的主要缺陷

聚焦离子束(FIB)是一种微纳米加工技术,其基本原理与扫描电子显微镜(SEM)类似,采用离子源发射的离子束经过加速聚焦后作为入射束,高能量的离子与固体表面原子碰撞的过程中可以将固体原子溅射剥离,因此,FIB更多的是被用作直接加工微纳米结构的工具。结合气体注入系统(GIS),FIB可以辅助进行化学气相

聚焦离子束在LiNbO_3及KTP等晶体上的亚微米刻蚀研究

    正聚焦离子束(focused ion beam,简写FIB)是一个微纳加工和观察分析设备。在强电场下金属离子溢出液态离子源,形成束流,经光圈限束、加速、聚焦、象散校正、偏转,打到样品指定点上。利用其溅射效应,FIB可用于样品表面亚微米尺寸的刻蚀,控制其扫描路径可以在无掩模下刻蚀任意正聚焦离子

中科院大化所高灵敏离子源检测恶臭含硫化合物获新进展

   4月30日 中科院大连化物所快速分离与检测李海洋研究团队成功研制了一种光致二溴甲烷阳离子化学电离源,该电离源与质谱技术相结合,显著提高了恶臭含硫化合物的检测灵敏度,该成果已发表在美国化学会Analytical Chemistry上。   《国家恶臭污染控制标准》规定的八大恶臭气体(硫化氢、甲硫

国际首台低能量强流高电荷态重离子研究装置通过验收

  12月7日至9日,国际首台低能量强流高电荷态重离子研究装置在中国科学院近代物理研究所(以下简称“近代物理所”)成功通过国家自然科学基金委员会组织的专家验收。该装置由45吉赫兹超导高电荷态电子回旋共振(ECR)离子源、高压平台、强流多电荷态束流分析和制备系统等多个子系统组成,旨在为核天体物理、原子