光刻胶软烘
软烘的目的是去掉光刻胶中的溶剂、增强光刻胶的粘附性、释放旋转涂胶产生的内应力、改善线宽控制、防止光刻胶粘附到其他器件上。软烘在真空热板上进行，软烘设备工作原理如图2.17所示，硅片放在真空热板上，热量从硅片背面通过热传导方式加热光刻胶。一般软烘温度为85~120℃，时间为30~60S。软烘后将硅片转移到轨道系统的冷板上冷却以便下一步操作。以光学紫外曝光为例，首先将硅片定位在光学系统的聚焦范围内，硅片的对准标记与掩模版上相匹配的标记对准后，紫外光通过光学系统和掩模版图形进行投影。掩模版图形若以亮暗的特征出现在硅片上，这样光刻胶就曝光了。 ......阅读全文
光刻胶软烘
软烘的目的是去掉光刻胶中的溶剂、增强光刻胶的粘附性、释放旋转涂胶产生的内应力、改善线宽控制、防止光刻胶粘附到其他器件上。软烘在真空热板上进行，软烘设备工作原理如图2.17所示，硅片放在真空热板上，热量从硅片背面通过热传导方式加热光刻胶。一般软烘温度为85~120℃，时间为30~60S。软烘后将硅片转
光刻机是什么
1、光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.2、一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。3、Photolithogra
接触式光刻机在涂胶工艺上有哪些特殊之处？
2020年11月25日 17:23 来源: 岱美仪器技术服务（上海）有限公司 >>进入该公司展台分享： 作为光刻工艺中zuì重要设备之一，接触式光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高接触式光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。
2024上海光刻胶展「2024中国大型光刻胶博览会」
展会名称：2024中国（上海）国际半导体展览会英文名称：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间：2024年11月18-20日 论坛时间：2024年11月18-19日 展会地点：上海新国际
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
烘箱真能把水分全部烘出来吗
烘箱烘水分理论上是可以烘干全部水分。但是实际操作过程中，由于时间和样品的关系，有可能不能烘出所有水分，比如有些样品在加热过程中会结块，那么有可能水分会锁在样品中，还有有些高分子材料，可能需要很长时间才能把水分烘干。有些样品中如果含有易挥发性物质的话，有可能水分和易挥发性物质一起蒸发。烘干原理：砂型和
光刻机是什么
光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。 光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补
佳能光刻机共享应用
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
佳能光刻机共享
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
佳能PLA500光刻机共享应用
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
匀胶机概述
匀胶机主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动三种工作方式。 送片盒中的晶片，自动送到承片台上，用真空吸附，在主轴电机的带动下旋转，转速100—9900转/分（±10转/分），起动加速度可调。每道程序的持续时间，转速、加速度、烘烤温度、烘烤时间、预烘时间等工艺参数均可通过编程控制。 匀胶机
慢性淋巴水肿的烘绷治疗和各种手术治疗
1.烘绷疗法烘绷疗法是发掘祖国医学遗产的一种治疗方法。其治疗原理是利用持续辐射热，使患肢皮肤血管扩张，大量出汗，局部组织间隙内的液体回入血液，改善淋巴循环。对于淋巴水肿尚未发生肢体皮肤严重增生者可选用烘绷疗法。有电辐射热治疗和烘炉加热两种方法。医学教育网整理温度控制在80～100℃，每日1次，每
光刻机工作原理和组成
光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准
软琼脂法
软琼脂法是一种克隆化的方法。克隆化是指使单个细胞无性繁殖而获得该细胞团体的整个培养过程。
日本光刻胶大厂计划提价－增幅约10％20％
据韩媒《The Elec》报道，业内人士透露，日本住友化学子公司东友精密化学（Dongwoo Fine-Chem）向韩国半导体企业表示，由于原材料和劳动力成本上涨，拟提高氟化氪（KrF）和L线光刻胶价格，增幅因产品而异，约为10%-20%。 光刻胶是半导体制作的关键材料，能够利用光化学反应，经
实验仪器非正常使用指南之“烘”趴神器
最近，各路大神们开始在X音上分享自己特殊的做菜方法，瞬时掀起一番“龙争虎斗”，引得一众粉丝竞相追捧。对此，号称实验室厨神的诸位表示十分不服！嚷嚷着要奉献出自己闯荡实验室多年的感悟——实验仪器小妙招之化身厨神篇！
真空干燥箱对于所烘的物料有什么要求？
真空干燥箱对于所烘的物料是有要求的，其一是不能含有大量的水，其二是不能含有有机化合物;二者在抽真空的同时会被泵抽进体内，从而产生一系列的不良反应，影响泵的使用寿命。如果物料含水或者是有机溶剂，得加液态水过滤器和冷凝器，起到一个过滤的作用。我们在使用真空干燥箱的同时， 也一定要加强对于真空泵的维护，及
微流控技术起源及原理解析
微型化、集成化和智能化，是现代科技发展的一个重要趋势。伴随着微机电加工系统（ MEMS ）技术的发展，电子计算机已由当年的”庞然大物”演变成由一个个微小的电路集成芯片组成的便携系统，甚至是一部微型的智能手机。MEMS技术全称Micro Electromechanical System ， MEM
微流控技术原理及起源
微型化、集成化和智能化，是现代科技发展的一个重要趋势。伴随着微机电加工系统（ MEMS ）技术的发展，电子计算机已由当年的”庞然大物”演变成由一个个微小的电路集成芯片组成的便携系统，甚至是一部微型的智能手机。 MEMS技术全称Micro Electromechanical System ， M
匀胶机的主要介绍
匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动三种工作方式。送片盒中的晶片，自动送到承片台上，用真空吸附，在主轴电机的带动下旋转，转速100-9900转/分(±10转/
温湿度监测仪在烘茧系统中的应用
随着现代科技的发展，农业种植中越来越多的科技仪器取代了人工的应用，尤其是在温室大棚中的应用比较多。比如温湿度监测仪的使用是常见的一个。对于该仪器从过去简单的传感器设计到现代的单片机的应用使得其具有更好的测量精度。 温湿度监测仪的测量阶段，单片机每10s向温湿度传感器发送一次温度和湿度测量指令，并接受
如何简单烘好金银花？金银花烘干机
金银花传统的烘干做法是用土烤房烘烤，质量参差不齐、烘干效率低、烘干温度难控制等问题，逐渐适应不了金银 花产业的规模化、集约化、现代化，季节性化的发展，适应不了高品质、快节奏的现代生活。 中草药加工企业 随着机械化、自动化及科研信息技术的发展，自动化、智能化的高温热泵烘干机在最近成为了烘干加工企
电泳漆在200摄氏度下烘多少时间能干
在保持200℃的条件下，不包括从零到200的升温过程，环氧漆一般20-30min吧；至于其它的漆如丙烯酸的温度倒是不用烤的这么高的，150-170℃就OK了，15-20min差不多了就。
烘箱烘潮粮玉米第一次用多少样品
第一次用80克玉米。玉米水分含量烘箱法检测1.仪器：天平、烘箱、粮食粉碎机、干燥器、铝盒2.操作方法：（1）烘干铝盒：调节烘箱温度至105℃,取洁净空铝盒放在烘箱内的烘网上,烘干30min至1h。取出后置于干燥器内冷却至室温,取出称量;再烘30 min,置于干燥器内冷却至室温,取出称量。烘干至前后质
软电离的定义
由于离子化所需要的能量随分子不同差异很大，因此，对于不同的分子应选择不同的离解方法。通常称能给样品较大能量的电离方法为硬电离方法，而给样品较小能量的电离方法为软电离方法，后一种方法适用于易破裂或易电离的样品。“软”是相对于最常用的电子电离EI而言。采用软电离技术容易获得能指明相对分子质量的准分子离子
打破垄断－上下游协同推进－国产光刻胶谋出路
近日，光刻胶产能紧缺的新闻见诸报端。上游芯片材料供应紧张引发全球“缺芯”，使得核心材料光刻胶靠“抢”才能获得。这种情况对于光刻胶对外依存度高达90%的我国来说，无疑是雪上加霜。 “我国长期依赖国外胶的参数和工艺，不愿或没有条件调整工艺使用国产胶，这是当下最大的问题。”浙江大学高分子科学与工程
关于2024上海国际光刻胶展览会开展通知|
展会名称：2024中国（上海）国际半导体展览会英文名称：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间：2024年11月18-20日 论坛时间：2024年11月18-19日 展会地点：上海新国际
2024邀您参展|中国(上海)国际光刻胶博览会
展会名称：2024中国（上海）国际半导体展览会英文名称：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间：2024年11月18-20日 论坛时间：2024年11月18-19日 展会地点：上海新国际
温湿度监测仪在烘茧连续动态系统中应用
烘茧温湿度连续动态测量系统的软件包括两部分，一部分是温湿度监测仪器中自动进行语言程序汇编的单片机组成，其作用是主要用于对于相关指令的发送；另外重要的一部分便是语言编写软件，这部分的主要功能是实现温湿度监测仪测定数据的接受和自动处理过程。 温湿度监测仪上电后，单片机内部的程序就开始运行，首先检查与24