匀胶机的分类选型

匀胶机是在旋转的基片上,滴注胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备,膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。选购技巧从其原理来说,可以看出选购匀胶机需要注意的几个细节旋转速度转速的快慢和控制直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速大。真空吸附系统的构造如果真空吸附力不够的时候,不会开始旋转。材质的选择对于半导体化工行业的应用来说,材质的选择尤为关键,大部分匀胶机采用的是不锈钢或者普通塑料材质,因为这种材质的成本很低,不锈钢的对于各类化工胶液的抗腐蚀性不太好,塑料对于温度和压力下易产生变形。如果这种变形引起托盘的位置失去水平的话,将会导致旋涂时,时高时低的颠簸状态。......阅读全文

匀胶机

旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机  型号:MHY-26227产品简介:MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪      主要用于液体,胶体在材料表面形成薄膜。      MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷,不锈钢,金属等制版表面涂覆工艺。      MH

匀胶机概述

  匀胶机主要用于晶片涂光刻胶,有自动、手动和半自动三种工作方式。  送片盒中的晶片,自动送到承片台上,用真空吸附,在主轴电机的带动下旋转,转速100—9900转/分(±10转/分),起动加速度可调。每道程序的持续时间,转速、加速度、烘烤温度、烘烤时间、预烘时间等工艺参数均可通过编程控制。  匀胶机

自动滴胶匀胶机

自动滴胶匀胶机/真空旋转涂层机  型号:MHY-29071MHY-29071产品简介:主要用于液体,胶体在材料表面薄膜的形成,适用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研,教育,生产中应用。 MHY-29071主要特点:1可设定存储26个不同样片的旋转涂敷工艺过程。2每个涂敷工艺过程可以

匀胶机的特点

  从其原理来说,匀胶机有以下两个特点。  (1)旋转速度  转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速误差很大,对于要求精密涂覆的科研人员来说是无法获得准确的实验数据的。转速控制方面有国际认定标准,如美国NIST标准等。  (2)真空吸附系统  真空

匀胶机的原理

  匀胶机是在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备,膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。   概述   该设备主要用于晶片涂光刻胶,有自动、手动和半自动三种工作方式。   送片盒中的晶片,自动送到承片台上,用真空吸附,在主轴电机的带动

匀胶机的选购技巧

  怎么选购匀胶机,从其原理来说需要注意的几个细节:  旋转速度  转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速误差很大,对于要求精密涂覆的科研人员来说是无法获得准确的实验数据的。国产的某些匀胶机只能提供转速范围,并不能精确标定实时的转速。进口的匀胶机虽

匀胶机的操作步骤

  1、片托选择合适的(相比于样片尺寸略小),使缺口与螺钉对准。在安装片托时必须要到底。  2、将电源开启,将控制键按下。  3、将匀胶时间和转速调节合适,转速为低速,转速Ⅱ为高速。  4、值得注意的是放片要放正。  5、将“吸片”键按下,抽气开始,值得注意的是在将“吸片”键按下以前,转速电位器上的

匀胶机的分类选型

匀胶机是在旋转的基片上,滴注胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备,膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。选购技巧从其原理来说,可以看出选购匀胶机需要注意的几个细节旋转速度转速的快慢和控制直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速大。真空吸附系统的构

匀胶机的主要介绍

匀胶机是在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备,膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。主要用于晶片涂光刻胶,有自动、手动和半自动三种工作方式。送片盒中的晶片,自动送到承片台上,用真空吸附,在主轴电机的带动下旋转,转速100-9900转/分(±10转/

匀胶机应用流程剖析讲解

  匀胶旋涂全过程按基片转动速率及胶原纤维的转变,分好多个环节:滴胶,加快转动摊胶,均速转动匀胶及其去边,在其中第 3 环节均速转动环节是胶原纤维镀层薄厚和匀称性操纵的关键环节。   1.滴胶   在滴胶前,胶质需历经亚微米级別的过虑解决,不然塑料薄膜有将会产生彗星图,星状图,戒造成汽泡。滴胶环

简述匀胶机使用小技巧

  1、依次接上 真空泵的导气管、废液接收罐、废液接收罐上方是排废气的软管。  2、充氮 N2/干燥气体 CDA 的连接,一般这个细管(如上图 4 所示,口径为 6mm)需要接到氮气瓶或者实验室已有的氮气接口。  3、氮气瓶的接口如下图所示,这种接口是箍橡皮管,需要换成找转接头接上旋涂仪的 6mm

匀胶机使用步骤分析解读

匀胶旋涂过程按基片旋转速度及胶质的变化,分几个阶段:滴胶,加速旋转摊胶,匀速旋转匀胶以及去边,其中第 3 阶段匀速旋转阶段是胶质涂层厚度和均匀性控制的重要阶段。1.滴胶在滴胶前,胶质需经过亚微米级别的过滤处理,否则薄膜有可能形成彗星图,星状图,戒产生气泡。滴胶阶段是将胶质溶剂沉积在基片上中心位置的过

智能程控匀胶机有哪些特点?

  1、 机身选用耐酸碱、耐冲击、耐腐蚀不锈钢、永不生锈,便于清洗。  2、 采用全色7英寸触摸屏控制面板,直观简单更方便操作。  3、 图形显示即时旋涂速度和时间,设置的参数旋涂过程一目了然。(图1)  4、内置电脑控制,Windows操作界面,USB接口与打印机等外部设备连接(可选)。  5、不

旋转匀胶机相关内容

  旋转匀胶机是一种用于工程与技术科学基础学科领域的计量仪器,于2014年12月12日启用。  技术指标  可以自动定量滴加光刻胶(支持的光刻胶年度在10cp-500cp),也可以实验手动滴加光刻胶;匀胶的时间可以在0.1s到999s范围内调整且连续;满足旋涂3mm到150mm直径范围的样品;稳定的

操作匀胶机的注意事项

  1、在每次开机以前,值得注意的是要抬起控制键以及吸片键,将电源开启以后,分别将各键按下进行操作,从而使没有启动电机就转动得以避免。  2、片子尺寸不一样,选用的片托的尺寸也不一样,厚度低于1.5毫米的片子对带吸气槽的片托进行选用,厚度高于1.5毫米的片子,对O型圈的片托进行选用。  3、相比于片

智能程控匀胶机简介和技术指标

  智能程控匀胶机是高精密的旋转涂膜仪。主要为高等院校、科研院所、研发中心等进行研究,开发各种功能薄膜所用。适用于半导体硅片、晶片、ITO导电玻璃、光学玻璃、生物薄膜、制版等工艺表面涂覆。  技术指标  镀膜时间设置: 1~9999 sec/ step  旋涂速度:0~ 5,000 rpm  旋涂加

MHY29071高精度自动滴胶匀胶机旋涂仪

自动滴胶匀胶机/真空旋转涂层机  型号:MHY-29071MHY-29071产品简介:主要用于液体,胶体在材料表面薄膜的形成,适用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研,教育,生产中应用。 MHY-29071主要特点:1可设定存储26个不同样片的旋转涂敷工艺过程。2每个涂敷工艺过程可以

MHY26227高性能匀胶机旋涂仪

旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机  型号:MHY-26227产品简介:MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪      主要用于液体,胶体在材料表面形成薄膜。      MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷,不锈钢,金属等制版表面涂覆工艺。      MH

MHY26227高性能匀胶机旋涂仪

旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机  型号:MHY-26227产品简介:MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪      主要用于液体,胶体在材料表面形成薄膜。      MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷,不锈钢,金属等制版表面涂覆工艺。      MH

快速了解匀胶机旋涂仪的工作原理

匀胶过程介绍一个典型的匀胶过程包括滴胶,高速旋转以及干燥(溶剂挥发)几个步骤。滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上,高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成簿层,干燥这一步除去胶层中多余的溶剂。两种常用的滴胶方式是静态滴胶和动态滴胶。静态滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心,滴胶量为1-10ml不

匀胶仪旋涂仪

旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机  型号:MHY-26227产品简介:MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪      主要用于液体,胶体在材料表面形成薄膜。      MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷,不锈钢,金属等制版表面涂覆工艺。      MH

匀胶热板一体机相关内容

  匀胶热板一体机是一种用于材料科学、机械工程、自然科学相关工程与技术、电子与通信技术领域的工艺试验仪器,于2019年5月27日启用。  技术指标  最大可完成8英寸晶圆的匀胶烘烤,向下兼容;Windows操作系统,PC控制;密码设定保护。 匀胶机:最大转速12000 rpm,转速精度

EVG高级匀胶系统共享

仪器名称:高级匀胶系统仪器编号:04001156产地:奥地利生产厂家:EVG型号:EVG101C出厂日期:200303购置日期:200403所属单位:物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点:纳米楼超净间固定电话:62796022固定手机:18701647330固定email:andong3014

全自动匀胶显影系统简介

  全自动匀胶显影系统是一种用于信息科学与系统科学、物理学、工程与技术科学基础学科、材料科学领域的工艺试验仪器,于2019年12月5日启用。  技术指标  衬底支持:4英寸,6英寸基片。7个可独立进行控温的热板,高精度热板温度精度+/-0.2℃。匀胶单元每个Cup配置4条光刻胶管路,具备背洗、边缘清

匀胶机选购需不容忽视的的3个细节

  匀胶机有很多种称谓,英文叫SpinProcessor或者SpinCoater,又称甩胶机、匀胶台,既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。   下面给大家分享3各匀胶机购买时需注意的3个

MHY26227高性能匀胶机旋涂仪-工作腔可氮气保护

旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机  型号:MHY-26227产品简介:MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪      主要用于液体,胶体在材料表面形成薄膜。      MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷,不锈钢,金属等制版表面涂覆工艺。      MH

匀质机的选购细则

1.*小试用量:越小越好,可以节约物料。目前某些药品的原料达到几千元/克,用户当然是希望用*少物料就能完成一次均质实验。而且实验是一个多次反复的过程,*少试样量越大,浪费的物料就越多。2.匀质机的均质压力:*高工作压力越高越好。首先:从某种意义上来讲,压力越高,物料的的粒径就可以处理到越小;其次,压

简介冷胶喷胶机的供胶装置

  组成部份说明:胶桶、泵  胶桶的容量为30L,桶盖用于安装活塞泵活塞泵 4:1活塞泵用于泵起和供应胶水,配有不锈钢胶管和过滤器过滤器 不锈钢过滤器具有过滤胶水和消除泵的震动双重功能调压器 4:1不锈钢调压器能自动控制胶量 I/P自动压力追踪阀 根据糊盒机的速度自动调节胶水的压力与流量技术参数泵的

MHY26227高性能匀胶机旋涂仪-高精度26程序控制器

旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机  型号:MHY-26227产品简介:MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪      主要用于液体,胶体在材料表面形成薄膜。      MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷,不锈钢,金属等制版表面涂覆工艺。      MH

300mm晶圆匀胶显影设备研发成功

   4月14日,“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备研发”任务圆满完成,突破了193nm光刻工艺超薄胶膜均匀涂敷等多项关键核心技术,成功研制出具有自主知识产权的300mm晶圆匀胶显影设备考核测试机和上线示范应用机,并在项目实施期间销售5台匀胶显影设备。