全自动匀胶显影系统简介
全自动匀胶显影系统是一种用于信息科学与系统科学、物理学、工程与技术科学基础学科、材料科学领域的工艺试验仪器，于2019年12月5日启用。 技术指标 衬底支持：4英寸，6英寸基片。7个可独立进行控温的热板，高精度热板温度精度+/-0.2℃。匀胶单元每个Cup配置4条光刻胶管路，具备背洗、边缘清洗功能。显影单元每个Cup配置1条显影液管路，具备独立清洗管路。自带废液回收装置。匀胶均匀性：片内（Wafer in 6inch）≤ 3%；显影均匀性：片内（Wafer in 6inch）≤ 5%。 主要功能 设备能支持130nm工艺技术，与光刻机相连作业，完成全自动光刻。系统包括2个匀胶单元、2个显影单元、7个热处理单元，可实现全自动匀胶、显影及烘烤工艺操作。......阅读全文
全自动匀胶显影系统简介
全自动匀胶显影系统是一种用于信息科学与系统科学、物理学、工程与技术科学基础学科、材料科学领域的工艺试验仪器，于2019年12月5日启用。 技术指标 衬底支持：4英寸，6英寸基片。7个可独立进行控温的热板，高精度热板温度精度+/-0.2℃。匀胶单元每个Cup配置4条光刻胶管路，具备背洗、边缘清
300mm晶圆匀胶显影设备研发成功
4月14日，“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备研发”任务圆满完成，突破了193nm光刻工艺超薄胶膜均匀涂敷等多项关键核心技术，成功研制出具有自主知识产权的300mm晶圆匀胶显影设备考核测试机和上线示范应用机，并在项目实施期间销售5台匀胶显影设备。
EVG高级匀胶系统共享
仪器名称：高级匀胶系统仪器编号：04001156产地：奥地利生产厂家：EVG型号：EVG101C出厂日期：200303购置日期：200403所属单位：物理系>纳米中心>纳米中心加工平台放置地点：纳米楼超净间固定电话：62796022固定手机：18701647330固定email：andong3014
什么叫正胶显影和负胶显影
正胶显影：正性光刻胶的曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。负胶显影：在负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。正胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率，其他特性如，台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。负胶的特性为，具有良好的
匀胶机
旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机 型号:MHY-26227产品简介：MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 主要用于液体，胶体在材料表面形成薄膜。 MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不锈钢，金属等制版表面涂覆工艺。 MH
自动滴胶匀胶机
自动滴胶匀胶机/真空旋转涂层机 型号：MHY-29071MHY-29071产品简介：主要用于液体，胶体在材料表面薄膜的形成，适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研，教育，生产中应用。 MHY-29071主要特点：1可设定存储26个不同样片的旋转涂敷工艺过程。2每个涂敷工艺过程可以
匀胶机概述
匀胶机主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动三种工作方式。 送片盒中的晶片，自动送到承片台上，用真空吸附，在主轴电机的带动下旋转，转速100—9900转/分（±10转/分），起动加速度可调。每道程序的持续时间，转速、加速度、烘烤温度、烘烤时间、预烘时间等工艺参数均可通过编程控制。 匀胶机
智能程控匀胶机简介和技术指标
智能程控匀胶机是高精密的旋转涂膜仪。主要为高等院校、科研院所、研发中心等进行研究，开发各种功能薄膜所用。适用于半导体硅片、晶片、ITO导电玻璃、光学玻璃、生物薄膜、制版等工艺表面涂覆。 技术指标 镀膜时间设置： 1～9999 sec/ step 旋涂速度：0～ 5,000 rpm 旋涂加
匀胶机的特点
从其原理来说，匀胶机有以下两个特点。 （1）旋转速度 转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速误差很大，对于要求精密涂覆的科研人员来说是无法获得准确的实验数据的。转速控制方面有国际认定标准，如美国NIST标准等。 （2）真空吸附系统 真空
匀胶机的原理
匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。 概述 该设备主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动三种工作方式。 送片盒中的晶片，自动送到承片台上，用真空吸附，在主轴电机的带动
全自动喷胶机简介
全自动喷胶机是一种专门针对水性胶水自动喷涂的自动化设备，他主要分为硬件和软件两大部分。其中硬件部分主要是由四轴（X轴、Y轴、Z轴、U轴）和控制轴运动的伺服电机组成。软件部分则是一个程序控制系统，整个机器的运作都是通过程序控制轴运动来配合完成整个喷胶动作的完成。
匀胶仪旋涂仪
旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机 型号:MHY-26227产品简介：MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 主要用于液体，胶体在材料表面形成薄膜。 MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不锈钢，金属等制版表面涂覆工艺。 MH
匀胶机的主要介绍
匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动三种工作方式。送片盒中的晶片，自动送到承片台上，用真空吸附，在主轴电机的带动下旋转，转速100-9900转/分(±10转/
匀胶机的分类选型
匀胶机是在旋转的基片上，滴注胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。选购技巧从其原理来说，可以看出选购匀胶机需要注意的几个细节旋转速度转速的快慢和控制直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速大。真空吸附系统的构
匀胶机的操作步骤
1、片托选择合适的（相比于样片尺寸略小），使缺口与螺钉对准。在安装片托时必须要到底。 2、将电源开启，将控制键按下。 3、将匀胶时间和转速调节合适，转速为低速,转速Ⅱ为高速。 4、值得注意的是放片要放正。 5、将“吸片”键按下，抽气开始，值得注意的是在将“吸片”键按下以前，转速电位器上的
匀胶机的选购技巧
怎么选购匀胶机，从其原理来说需要注意的几个细节： 旋转速度 转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速误差很大，对于要求精密涂覆的科研人员来说是无法获得准确的实验数据的。国产的某些匀胶机只能提供转速范围，并不能精确标定实时的转速。进口的匀胶机虽
全自动喷胶机结构简介
全自动喷胶机就动力单元4轴全部采用伺服电机控制（X、Y 、Z 、U, 共4轴），其中X、Y轴根据喷胶轨迹走平面运动；Z轴走控制喷胶头上下运动，以方便绕过被喷原料上较高的部位，避免点胶头与原料碰撞；U轴控制选择不同喷胶头，做旋转运动；原料输送带的运行控制采用感应马达控制。
芯源公司“集束型匀胶显影设备”获辽宁优秀新产品二等奖
芯源公司“集束型匀胶显影设备”获辽宁省优秀新产品二等奖 近日，经第八届辽宁省优秀新产品奖评审委员会审查，省政府批准，中科院沈阳自动化研究所持股公司芯源公司申报的“集束型匀胶显影设备”被授予辽宁省优秀新产品二等奖。在本届辽宁省新产品评选中，共有31项产品获得一等奖，二等奖59项。评选省
匀胶机应用流程剖析讲解
匀胶旋涂全过程按基片转动速率及胶原纤维的转变，分好多个环节：滴胶，加快转动摊胶，均速转动匀胶及其去边，在其中第 3 环节均速转动环节是胶原纤维镀层薄厚和匀称性操纵的关键环节。 1.滴胶 在滴胶前，胶质需历经亚微米级別的过虑解决，不然塑料薄膜有将会产生彗星图，星状图，戒造成汽泡。滴胶环
匀胶机使用步骤分析解读
匀胶旋涂过程按基片旋转速度及胶质的变化，分几个阶段：滴胶，加速旋转摊胶，匀速旋转匀胶以及去边，其中第 3 阶段匀速旋转阶段是胶质涂层厚度和均匀性控制的重要阶段。1.滴胶在滴胶前，胶质需经过亚微米级别的过滤处理，否则薄膜有可能形成彗星图，星状图，戒产生气泡。滴胶阶段是将胶质溶剂沉积在基片上中心位置的过
简述匀胶机使用小技巧
1、依次接上 真空泵的导气管、废液接收罐、废液接收罐上方是排废气的软管。 2、充氮 N2/干燥气体 CDA 的连接，一般这个细管（如上图 4 所示，口径为 6mm）需要接到氮气瓶或者实验室已有的氮气接口。 3、氮气瓶的接口如下图所示，这种接口是箍橡皮管，需要换成找转接头接上旋涂仪的 6mm
简介全自动喷胶机的优势
全自动喷胶机以其特有的灵活上胶，精准上胶，质量保证的优势，逐渐取代传统的成箱/盒的上胶工艺。诸如其他激光切割机，激光雕版机等制板、制版设备及工艺的进步，也为提升纸箱/彩盒自动化生产的进程，提供了切实有效的辅助和提升。
操作匀胶机的注意事项
1、在每次开机以前，值得注意的是要抬起控制键以及吸片键，将电源开启以后，分别将各键按下进行操作，从而使没有启动电机就转动得以避免。 2、片子尺寸不一样，选用的片托的尺寸也不一样，厚度低于1.5毫米的片子对带吸气槽的片托进行选用，厚度高于1.5毫米的片子，对O型圈的片托进行选用。 3、相比于片
旋转匀胶机相关内容
旋转匀胶机是一种用于工程与技术科学基础学科领域的计量仪器，于2014年12月12日启用。 技术指标 可以自动定量滴加光刻胶（支持的光刻胶年度在10cp-500cp）,也可以实验手动滴加光刻胶；匀胶的时间可以在0.1s到999s范围内调整且连续；满足旋涂3mm到150mm直径范围的样品；稳定的
智能程控匀胶机有哪些特点？
1、 机身选用耐酸碱、耐冲击、耐腐蚀不锈钢、永不生锈，便于清洗。 2、 采用全色7英寸触摸屏控制面板，直观简单更方便操作。 3、 图形显示即时旋涂速度和时间，设置的参数旋涂过程一目了然。（图1） 4、内置电脑控制，Windows操作界面，USB接口与打印机等外部设备连接（可选）。 5、不
全自动喷胶机的系统方案设计
控制系统采用高集成度的运动控制控制器PEC-3240为核心控制单元。PEC-3240采用Intel Celeron M处理器，支持Windows XPEmbedded操作系统，内建4轴运动控制和32通道光电隔离的数字量I/O，集成运算、控制、双网口及串口通信等功能。 控制系统核心采用PEC-3
MHY29071高精度自动滴胶匀胶机旋涂仪
自动滴胶匀胶机/真空旋转涂层机 型号：MHY-29071MHY-29071产品简介：主要用于液体，胶体在材料表面薄膜的形成，适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研，教育，生产中应用。 MHY-29071主要特点：1可设定存储26个不同样片的旋转涂敷工艺过程。2每个涂敷工艺过程可以
恒温混匀器简介
采用了直流无刷电机以及微处理技术结合智能化PID控制能够在达到目标温度后快速的保持稳定，可节省等待的时间而形成将恒温和振荡两种功能完美地结合在一起，极大地缩短了实验操作的时间，提高了工作人员的效率。是样品孵化、催化、混匀以及保存等反应过程理想的自动化工具。
恒温混匀仪简介
TMR恒温混匀仪（恒温振荡器，恒温孵育器,振荡型恒温金属浴）采用了直流无刷电机以及微处理技术结合智能化PID控制能够在达到目标温度后快速的保持稳定，可节省等待的时间而形成将恒温和振荡两种功能完美地结合在一起，极大地缩短了实验操作的时间，提高了工作人员的效率。是样品孵化、催化、混匀以及保存等反应过
MHY26227高性能匀胶机旋涂仪
旋转涂层机/匀胶机/匀胶仪旋涂仪/甩胶机/旋涂机 型号:MHY-26227产品简介：MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 主要用于液体，胶体在材料表面形成薄膜。 MHY-26227高性能匀胶机旋涂仪 适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不锈钢，金属等制版表面涂覆工艺。 MH