打破垄断上下游协同推进国产光刻胶谋出路
近日，光刻胶产能紧缺的新闻见诸报端。上游芯片材料供应紧张引发全球“缺芯”，使得核心材料光刻胶靠“抢”才能获得。这种情况对于光刻胶对外依存度高达90%的我国来说，无疑是雪上加霜。 “我国长期依赖国外胶的参数和工艺，不愿或没有条件调整工艺使用国产胶，这是当下最大的问题。”浙江大学高分子科学与工程学系研究员伍广朋在接受《中国科学报》采访时直言。 实际上，光刻胶研产并非一蹴而就。作为一个劳动、资本和技术高度密集型产业，它需要科研人员无数次验证各种参数，并且需要上游研发和下游芯片制造业进行共同验证。 伍广朋强调，“国产胶要打入市场，需要我国芯片制造商彻底调变光刻参数，使用新工艺。” 高度依赖进口 从智能手机到超级计算机，从汽车导航到航空航天，新型显示和集成电路的应用已“飞入寻常百姓家”。新型显示与集成电路并称“一屏一芯”，是先进制造和新一代电子信息领域的核心基础产业。 作为液晶电视的一种，量子点电视被认为是代替OLED的......阅读全文
预算金额5599万元，南京大学2026年第20批采购意向公开
南京大学2026年政府采购意向公开（第20批）政府采购意向公开，本批包含20个采购项目，计划采购高分辨飞行时间质谱仪、三重串联四极杆电感耦合等离子体质谱仪、高温高压激光浮区炉、四电极电弧熔炼单晶生长炉等仪器设备，预算金额5599万元。序号采购品目意向编号采购项目名称采购需求概况预算金额(万元)预
生物建模的黑科技快捷精准的定制化细胞微环境制备...
生物建模的黑科技-快捷精准的定制化细胞微环境制备系统（一） Alveole PRIMO 的原理定制细胞模型， 研究微环境对细胞内和细胞间机能的影响是细胞和医学研究的重要方向。 如何制备出具有可控性和重复性的微环境， 以便更有效的研究活细胞和疾病模型， 一直以来都是生物学家进行体外细胞研究所面临的巨大
科大在非平整衬底表面三维微纳米加工技术研究中获进展
中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家研究中心教授王晓平和罗毅研究团队发展了光刻胶软掩膜蜡纸印刷技术，成功实现了多种形貌三维超结构的可控制备，同时实现了非平整和曲面衬底上微纳米结构的自由构建。相关研究成果近日以Utilization of Resist Stencil Lithography f
等离子体清洗机在堆积工艺中的运用
等离子体清洗机在堆积工艺中的运用由以下四个进程组成。（1）电子和反响气体发作电子碰撞反响，生成离子和自由基；（2）活性组分从等离子体传输到基底外表；（3）活性组分经过吸附作用或物化反响堆积到基底外表；（4）活性组分或反响产品成为堆积薄膜的组成部分。在高密度等离子体化学气相堆积工艺中，堆积和刻蚀进程往
微流控芯片加工中遇到的一些常见问题
Q：PMMA、玻璃、PDMS这三种材料哪个耐用一点？A：不同材质芯片自身性质不同，在应用时应根据实验需求选择。单从耐用角度讲：玻璃芯片受使用环境影响较小，使用寿命较长，重复利用率高，但玻璃比较容易磕碰碎裂，应避免类似人为损坏；PDMS芯片属软质芯片，外力磕碰不易碎裂，但易受试剂污染，不易清洗，重复利
紫外臭氧清洗机的技术应用
光清洗技术的应用范围十分广泛，在现代信息技术行业中使用光清洗技术比较普遍，随着我国工业现代化的发展，光清洗和光改质技术还将逐步应用于金属、塑料、橡胶等工业生产领域。 1、在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘
喷胶机的使用性能要求
1.可用于对不同形状尺寸的基片进行喷胶.最大喷胶尺寸要求达到8寸。 2.可对不同粘度的胶进行喷涂，供胶分辨率在15uL以内。 3.可对大深宽比结构进行侧壁涂胶，得到厚度均匀的胶膜。 4.喷胶均匀性要求：单片表面≤±15%，片间为≤±10%。 5.计算机系统控制工艺参数。 6.可手动卸载
等离子体/化学刻蚀设备中刻蚀的解释
刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻 [1] 相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。刻蚀是
QA：微流控芯片加工中遇到的一些常见问题
在微流控芯片加工过程中，我们经常会遇到一些问题。这次我们从反馈的问题中，挑选出最多的几个问题来咨询一下我们的技术工程师。Q：PMMA、玻璃、PDMS这三种材料哪个耐用一点？A：不同材质芯片自身性质不同，在应用时应根据实验需求选择。单从耐用角度讲：玻璃芯片受使用环境影响较小，使用寿命较长，重复利用率高
电子束光刻的特点
电子束曝光是用低功率密度的电子束照射电致抗蚀剂，经显影后在抗蚀剂中产生图形的一种微细加工技术。 这种曝光方式分辨率高、掩膜版制作容易、工艺容限大，而且生产效率高，但由于电子束在光刻胶膜内的散射，使得图案的曝光剂量会受到临近图案曝光剂量的影响（即临近效应），造成的结果是，显影后，线宽有所变化或图
面临海外供应链安险－国产半导体向“专”而行－“精”益求精
至诚财经APP获悉，中金发布研究报告称，半导体产业链呈全球化分工，中国大陆以承接低附加值的封测为主，制造端上游设备、材料、EDA工具及设计等与海外技术差距仍较大，面临海外供应链安全风险。该行认为，国产替代对于中国大陆在科技领域“破局”有着举足轻重的战略意义，同时也需通过“专精”企业的研发转化帮助企
PCR－微流控芯片微通道有哪些加工手段
热压法热压法是20世纪90年代后期兴起的一种在高聚物表面加工微通道的方法,瑞士的Uppsala大学的Lena Kintberg等采用热压法将激励微泵或者微阀的激励器集成到了PC(聚碳酸酯)基的微流控芯片表面。热压法的工艺过程是:采用光刻化学腐蚀法在硅表面制作出微通道,溅射沉积镍金属,获得镍模板,通过
QA：微流控芯片加工中遇到的一些常见问题
在微流控芯片加工过程中，我们经常会遇到一些问题。这次我们从反馈的问题中，挑选出最多的几个问题来咨询一下我们的技术工程师。 Q：PMMA、玻璃、PDMS这三种材料哪个耐用一点？ A：不同材质芯片自身性质不同，在应用时应根据实验需求选择。单从耐用角度讲：玻璃芯片受使用环境影响较小，使用
高精度掩膜对准光刻机
高精度掩膜对准光刻机是一种用于农学、生物学、化学、物理学领域的分析仪器，于2017年11月7日启用。 技术指标 支持4英寸晶圆；曝光波长：350-450nm；曝光灯功率：350W；分辨率：优于0.8mm（光刻胶厚度1微米时）；套刻精度：0.5mm；光强均匀度：优于±2％；更换汞灯后及汞灯全寿
全自动匀胶显影系统简介
全自动匀胶显影系统是一种用于信息科学与系统科学、物理学、工程与技术科学基础学科、材料科学领域的工艺试验仪器，于2019年12月5日启用。 技术指标 衬底支持：4英寸，6英寸基片。7个可独立进行控温的热板，高精度热板温度精度+/-0.2℃。匀胶单元每个Cup配置4条光刻胶管路，具备背洗、边缘清
显微薄膜测厚仪的详细介绍
显微薄膜测厚仪的详细介绍：大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。
超5.2亿元，武汉大学2025年仪器采购意向
近期，武汉大学连续发布9项仪器采购意向，预算金额高达52148.19万元。涉及仪器设备包括数字PCR仪、磁性细胞分选仪、细胞能量代谢分析仪、真空纳米压印设备、皮秒相干反斯托克斯拉曼光谱仪、超高效液相色谱-质谱联用仪、超高速离心机等。预计采购时间2025年4月~6月。 采购意向只是政府采购的初步
半导体集成电路的工艺保障
1)原材料控制。包括对掩膜版、化学试剂、光刻胶、特别对硅材料等原材料的控制。控制不光采用传统的单一检验方式，还可对关键原材料采用统计过程控制(statisticalprocesscontrol，SPC)技术，确保原材料的质量水平高，质量一致性好。 2)加工设备的控制。除采用先进的设备进行工艺加
微纳3D打印，更精准更宏观
飞秒激光直写无机纳米结构的光场分布示意图。（郑美玲提供） 飞秒激光被用于眼科手术治疗近视，已经为人熟知。 但它能做得远不止于此。飞秒激光直写作为一种有效的三维微纳精细加工技术，可以在多种透明光学材料中实现微小型
微纳3D打印，更精准更宏观
飞秒激光直写无机纳米结构的光场分布示意图。（郑美玲提供） 飞秒激光被用于眼科手术治疗近视，已经为人熟知。 但它能做得远不止于此。飞秒激光直写作为一种有效的三维微纳精细加工技术，可以在多种透明光学材料中实现微小型
依托于科技成果转化和推进－江苏制造业集群高端攀升
2018年江苏省科技成果转化专项资金工作，聚焦江苏优势产业，瞄准关键核心技术攻关，培育行业龙头骨干企业。本年度建议专项资金立项的重大产业创新专题项目共99项，拟安排省级财政资助经费7.64亿，其中面向新型电力（新能源）装备等13个先进制造业产业集群的项目有78项，拟安排省级财政资助经费6.12
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
科学家设计出细胞运输机器人
中国研究团队设计出一种微型机器人，有望在人体内运输细胞，在精准治疗、再生医学和微创手术等领域有广泛应用前景。 6月27日发表在美国《科学·机器人学》杂志上的研究显示，香港城市大学孙东课题组使用3D激光打印技术，制备出一种具有球形孔状结构的微型机器人，其尺寸相当于人类头发丝直径。 香港城市大学
等离子体去胶机
等离子体去胶机，是在（RIE）反应离子刻蚀机的基础上简化改进而来，为小型等离子去胶机，具有体积小，性能优良、用途多、工艺速率高、均匀性及重复性好、价格低、使用方便等特点。是各电子器件企业及科研单位、大专院校的机型。适合于微电子制作工艺中光刻胶的去胶工艺，同时有RIE刻蚀功能，可以刻蚀Si、SiO2、
ICP设备(刻蚀机)共享
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定emai
石墨烯主要制备方法
1、微机械剥离法方法：用光刻胶将其粘到玻璃衬底上，再用透明胶带反复撕揭，然后将多余的高定向热解石墨去除并将粘有微片的玻璃衬底放入丙酮溶液中进行超声，最后将单晶硅片放入丙酮溶剂中，利用范德华力或毛细管力将单层石墨烯“捞出”。缺点：产物尺寸不易控制，无法可靠地制备出长度足够的石墨烯，不能满足工业化需求。
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
微流控技术原理及起源
微型化、集成化和智能化，是现代科技发展的一个重要趋势。伴随着微机电加工系统（ MEMS ）技术的发展，电子计算机已由当年的”庞然大物”演变成由一个个微小的电路集成芯片组成的便携系统，甚至是一部微型的智能手机。 MEMS技术全称Micro Electromechanical System ， M
微流控技术起源及原理解析
微型化、集成化和智能化，是现代科技发展的一个重要趋势。伴随着微机电加工系统（ MEMS ）技术的发展，电子计算机已由当年的”庞然大物”演变成由一个个微小的电路集成芯片组成的便携系统，甚至是一部微型的智能手机。MEMS技术全称Micro Electromechanical System ， MEM
第二届“半导体材料与器件量测和检测技术”培训班开班：强化技能，驱动产业升级
半导体行业生产工艺复杂，设备精密度要求高，整体流程涉及众多工序。随着工艺不断提升，制造难度及品质管控难度呈指数级增长，对材料纯度、制造精度等要求极高，材料、器件的分析检测技术面临巨大挑战。为应对这些挑战，培养半导体分析检测技术专业人才，由中国科学院人事局资助、中国科学院上海硅酸盐研究所主办，上海材料