光刻机的紫外光源
曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。 常见光源分为: 可见光：g线：436nm 紫外光（UV），i线：365nm 深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm 极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm 对光源系统的要求 a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高。] b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短； c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度 或者叫 不均匀度 光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布] 常用的紫外光光源是高压弧光灯（高压汞灯），高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g 线（436 nm）或i 线（365 nm）。 对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光（248 nm）、ArF 准分子激光（193 nm）和F2准......阅读全文
“深紫外固态激光源前沿装备研制”项目接受媒体集中采访
10月27日，“深紫外固态激光源前沿装备研制”项目工程总体部及各子项目负责人在理化所接受了新闻媒体集中采访。来自中央电视台、人民日报社、光明日报社、经济日报社、科技日报社、中国青年报社、中国新闻社、科学时报社、科学中国人杂志社9家新闻媒体的记者对项目进行了集中采访。中科院计划财务
紫外光老化试验箱光源如何选择灯管测试
紫外光老化试验箱采用荧光紫外灯为光源,通过模拟自然阳光中的紫外光辐射和冷凝,对材料进行加速耐候性试验,以获得材料耐气候性的结果。广泛适用于非金属材料、有机材料(如：涂料、油漆、橡胶、塑胶及其制品)经在阳光、湿度、温度、凝露等气候条件的变化下检验有关产品及材料老化现象程度及情况。辐照度( 光照强度)的
详细解析紫外线老化试验箱结构和光源
紫外线老化试验箱箱体制作材料：1、箱体外壳材料：进口SUS不锈钢板喷塑处理。2、内胆材料：进口SUS不锈钢板3、箱盖材料：进口SUS不锈钢板喷塑处理。4、在工作室的两边共安装8支UV－B的紫外灯管5、加热方式为内胆水槽式加热，升温快，温度分布均匀6、箱盖为双向翻盖式 ，开闭轻松自如7、内胆水位自动补
追踪深紫外固态激光源研制：从一个晶体开始
由中科院承担的深紫外固态激光源系列前沿装备日前通过验收，我国成为世界上唯一能够制造实用化深紫外全固态激光器的国家。 ■本报记者 陆琦 “这是我国自主研发高精尖仪器的一个成功范例。”9月6日，由中科院承担的国家重大科研装备研制项目——“深紫外固态激光源前沿装备研制项目”通过验收，验收委员会
关于紫外光电子能谱的紫外光源和电子能量分析器介绍
紫外光电子能谱仪包括以下几个主要部分：单色紫外光源(hν = 21.2 1eV)、电子能量分析器、真空系统、溅射离子枪源或电子源、样品室、信息放大、记录和数据处理系统。 1、紫外光源 紫外光电子能谱的激发源常用稀有气体的共振线如He I、He II。它的单色性好，分辨率高。可用于分析样品外壳
光刻机的定位格栅是什么
时光刻机中的一项核心技术，应用于对半导体衬底进行成像的光刻技术，主要用来确定位置。在目前高端光刻机晶圆台的亚纳米级定位需求中，光栅干涉测量具有较大优势，测量分辨率可达17pm，长期测量稳定性可达0.22nm，采用先进的二维平面光栅可以实现空间六自由度测量，是14nm及以下光刻工艺制程的重要技术路线。
可调极紫外相干光源的综合实验研究装置项目启动会
签约仪式现场 3月12日，国家自然科学基金委国家重大科研仪器设备研制专项“基于可调极紫外相干光源的综合实验研究装置”项目启动会在中科院大连化学物理研究所召开。 基金委计划局局长孟宪平、化学部副主任梁文平在大会致辞中祝贺项目顺利启动，并指出该项目是基金委25年以来单项资助额度最大的
极紫外激光的可靠光源？少周期飞秒驱动源激光脉冲产生
少周期飞秒驱动源是产生极紫外波段孤立阿秒脉冲的重要条件，采用常规方案需要经过光谱展宽与脉冲压缩两个过程，不仅效率低，而且压缩元件对大能量脉冲的承受能力也极为有限。近年来人们利用光谱展宽过程中的非线性效应实现色散补偿，即自压缩效应，为这一问题的解决提供了新的思路，不仅简化了脉冲压缩过程，也有利于大
紫外可见分光光度计中使用的光源有哪些
紫外可见分光光度计用到的是钨灯和氘灯两个光源，仪器本身具有这两个光源的切换控制功能。
紫外可见分光光度计中使用的光源有哪些
紫外可见分光光度计用到的是钨灯和氘灯两个光源，仪器本身具有这两个光源的切换控制功能。
CWF印刷标准光源箱的光源区别
CWF印刷标准光源箱的光源区别，国际标准多光源灯箱，英式标准光源对色灯箱，美式标准光源比色灯箱，国产标准光源验色灯箱，纺织印染对色标准光源箱销售维修批发一条long服务，度娘《昆山找普泰克》找袁S 即可安排全国免费发货！ 标准光源箱广泛应用在纺织品印染印刷塑胶颜料油漆油墨摄影等颜色领域，用
一篇文章说清半导体制程发展史（二）
第二个问题，为什么现在的技术节点不再直接反应晶体管的尺寸呢？原因也很简单，因为无法做到这个程度的缩小了。有三个主要原因：首先，原子尺度的计量单位是埃，为0.1nm。10nm的沟道长度，也就只有不到100个硅原子而已。未来晶体管物理模型是这样的：用量子力学的能带论计算电子的分布，但是用经典的电
“深紫外固态激光源前沿装备研制项目”子项目通过验收
“深紫外拉曼光谱仪研制”和“深紫外激光光发射电子显微镜（PEEM）的研制”项目通过验收 5月17日，由中科院大连化学物理研究所承担的国家重大科研装备研制项目“深紫外固态激光源前沿装备研制项目”子项目——“深紫外拉曼光谱仪研制”和“深紫外激光光发射电子显微镜（PEEM）的研制”项目通过中国科学院计划
光刻机是什么东西
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常
光刻机工作原理和组成
光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准
光刻机移动精度怎么控制
光刻机移动精度要在雕刻的过程中，晶圆需要被快速移动,每次移动10厘米来控制。这种误差级别相当于眨眼之间端着一盘菜从北京天安门冲到上海外滩，恰好踩到预定的脚印上，菜还保持端平不能洒。这种方法也叫视频图像处理对准技术，是指在光刻套刻的过程中，掩模图样与硅片基板之间基本上只存在相对旋转和平移，充分利用这一
光刻机投影式曝光分类
扫描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工艺；掩膜板1：1，全尺寸； 步进重复投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～
紫外可见分光光度计光源部分常见故障的排除
（1）故障：钨灯不亮；原因：钨灯灯丝烧断（此种原因几率最高）；检查：钨灯两端有工作电压，但灯不亮；取下钨灯用万用表电阻档检测。处置：更换新钨灯； （2）故障：钨灯不亮；原因：没有点灯电压；检查：保险丝被熔断；处置：更换保险丝，（如更换后再次烧断则要检查供电电路）； （3）故障：氘灯不亮；原因：氘灯寿
冷光源与传统光源相比的优势
冷光源光照培养箱与冷光源人工气候箱使用的冷光源灯泡是利用荧光或磷光发光原理做成的灯泡，在常态工作下冷光光源基本无热辐射所以称之为冷光。冷光源灯泡是利用LED的光源原理做成的灯泡，半导体照明自身对环境没有任何污染，与传统的白炽灯、荧光灯相比，节电效率可以达到90%以上。在同样亮度下，耗电量仅为普通白炽
雾度仪的A光源跟C光源的区别
A光源和C光源是色温不同的两种模拟光源体。A光源和C光源条件下测量的雾度和透光率会有微小差异。不同行业标准要求雾度仪的光源类型也不相同，国标或ASTM建议C光源或A光源，ISO建议使用D65光源。
冷光源紫外激光器让你不再担心布料水洗掉色
355纳秒固体紫外激光器打标布料，颜色明显，水洗不掉色 冷光源紫外激光器让你不再担心布料水洗掉色 短脉冲，重复频率高，紫外激光器不愧为布料水洗的优选 在现代社会当中，人们对于生活质量的追求已经不再是果腹这么简单，而是对服装、建筑都有了更高的审美要求，从避寒取暖到追赶时髦，流行服饰的不断发展也让这条产
紫外可见分光光度计指标检测常用的标准物质、标准光源
紫外可见分光光度计, 必须要经常检查仪器的主要技术指标, 如光度准确度、波长准确度、杂散光、光谱带宽等是否可靠, 以保证仪器工作在最佳状态。因此, 这就要了解或掌握用于紫外可见分光光度计主要技术指标检测的有关标准物质的使用与检测方法, 熟悉各种标准灯的光电特性、基本物理量的转换等。如果不经常
标准光源对色灯箱采用多种光源的原理
标准光源对色灯箱广泛应用于纺织、玩具、印染、塑胶、油漆、油墨、印刷、颜料、化工、包装、陶瓷、鞋业、皮革、五金、食品、化妆品及各行各业的目测评定、配色打样、鉴别色差、荧光物质等颜色管理。在了解标准光源对色灯箱的多种光源照明时，我们先来了解产生色差的基本条件——光。光照是产生颜色的基本条件，也正是因
高精度掩膜对准光刻机
高精度掩膜对准光刻机是一种用于农学、生物学、化学、物理学领域的分析仪器，于2017年11月7日启用。 技术指标 支持4英寸晶圆；曝光波长：350-450nm；曝光灯功率：350W；分辨率：优于0.8mm（光刻胶厚度1微米时）；套刻精度：0.5mm；光强均匀度：优于±2％；更换汞灯后及汞灯全寿
光刻机为什么不用x射线
因为x射线具有穿透力，而穿透力产生的折射会浪费大量的能量，致使光刻机效率低下，甚至无法工作，所以不用x射线。
ICP光源
ICP光源 ICP光源是ICP发射光谱仪的核心部分。原子发射光谱常用的激发源有火焰，电弧（直流电弧、交流电弧）、火花（高压火花、低压火花）、辉光放电、等离子体（直流等离子体DCP、电感耦合等离子体ICP、微波感生等离子体MIP、微波耦合等离子体CMP）。 等离子体光源是20世纪60年代发展起来的
不鸣则已、一鸣惊人，国产先进光刻机问世只是时间问题
半导体产业可以说是一个国家工业的战略高地，而光刻机又是半导体产业的基础核心，所以美国、荷兰、日本等国均对光刻机的出口进行了严格限制，要想不被“卡脖子”，只能走自主研发、自主可控的道路，对此本文将着重探讨三个方面的问题，一是光刻机产业的现状？二是当前国产光刻机技术究竟发展到了什么程度？三是国产光刻
判断光源的标准
物理学上指能发出一定波长范围的电磁波（包括可见光与紫外线、红外线、X光线等不可见光）的物体.光源常指能发出可见光的发光体.凡物体自身能发光者,称做光源,又称发光体,如太阳、恒星、灯以及燃烧着的物质等都是.但像月亮表面、桌面等依靠它们反射外来光才能使人们看到它们,这样的反射物体不能称为光源
光源的设计要求
①面光源的面积应足够大，要能覆盖住被测镜头的最大视场，而且其相关色温是2856. 6±200K。②光源面上各位置处的辐射亮度不均匀度应在其最大辐射亮度的5%以下，测量时亮度随时间的变动必须在±2%以内。③为便于整个测量系统的调整，面光源亮度可调。为获得测量所需的高稳定度、高均匀度面光源，在比较了漫射
ICP光源的组成
ICP光源的组成 ICP光源由高频电源和ICP炬管构成。 ICP炬管由三个同心石英管和管外上部环绕的高频感应圈组成（一般为2~4圈空心铜管），存在三个进气管。