光刻机的紫外光源
曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。 常见光源分为: 可见光：g线：436nm 紫外光（UV），i线：365nm 深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm 极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm 对光源系统的要求 a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高。] b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短； c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度 或者叫 不均匀度 光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布] 常用的紫外光光源是高压弧光灯（高压汞灯），高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g 线（436 nm）或i 线（365 nm）。 对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光（248 nm）、ArF 准分子激光（193 nm）和F2准......阅读全文
紫外可见分光光度计光源资料
氘灯和氙灯从电气指标上来分析，两者差异还是很大的： （1）光谱带指标： 氘灯：常用180－350nm； 卤钨灯：常用350－2000nm； 氙灯：常用250－700nm； 常用的紫外－可见光分析区域是190－1100nm； （2）电压 氙灯的功率为150瓦；氘灯启动功率为100瓦，也有说300瓦，工
光刻机是什么
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电
光刻机是什么
光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。 光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补
光刻机是什么
1、光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.2、一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。3、Photolithogra
什么是光刻机
光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全
佳能光刻机共享
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
光刻机工作原理
1、测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。2、激光器：也就是光源，光刻机核心设备之一。3、光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。4、能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。5、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。6
光刻机工作原理
1、测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。2、激光器：也就是光源，光刻机核心设备之一。3、光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。4、能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。5、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。6
光刻机怎么制作
第一步：制作光刻掩膜版（Mask Reticle）芯片设计师将CPU的功能、结构设计图绘制完毕之后，就可将这张包含了CPU功能模块、电路系统等物理结构的“地图”绘制在“印刷母板”上，供批量生产了。这一步骤就是制作光刻掩膜版。光刻掩膜版：（又称光罩，简称掩膜版），是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图
光刻机的性能指标
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度
光刻机的性能指标
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度
紫外可见分光光度计的光源有哪些
紫外可见分光光度法光源是有稳定的、有足够输出功率的、能提供仪器使用波段的连续光谱可以分光光源：如钨灯、卤钨灯（波长范围350～2500纳米）紫外分光光源：氘灯或氢灯（180～460纳米）
液相色谱仪及各种紫外检测器中氘灯最为理想的紫外光源
下面就氘灯的结构、原理以及使用方法做如下：概述氘灯发出几乎连续的光 谱，它主要依靠等离子体放电（是指始终让氘灯处于一个稳定的氘元素（D2或者重氢）电弧状态下产生紫外波长范围（190-400 nm）直到可见光谱范围（400-800 nm）因此，氘灯是高精度吸收测量的理想光源，比如紫外线可见光
液相色谱仪及各种紫外检测器中的氘灯最为理想紫外光源
下面就氘灯的结构、原理以及使用方法做如下：概述氘灯发出几乎连续的光 谱，它主要依靠等离子体放电（是指始终让氘灯处于一个稳定的氘元素（D2或者重氢）电弧状态下产生紫外波长范围（190-400 nm）直到可见光谱范围（400-800 nm）因此，氘灯是高精度吸收测量的理想光源，比如紫外线可见光
紫外可见的光源选择及比色池的选择有什么关系
紫外光下用石英比色皿，可见光下可用玻璃比色皿，因为玻璃比色皿会吸收紫外光。
光刻机的简介和分类
光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大
光刻机的对准系统
制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊ZL的机械工艺设计。例如Mycro N&Q光刻机采用的全气动轴承设计ZL技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。 对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜
光刻机各个结构的作用
测量台、曝光台：承载硅片的工作台，也就是本次所说的双工作台。 光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。 能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。 光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。 遮光器：在不需要曝
光刻机的三大种类
a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。 1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面； 2.硬接
标准光源箱的光源说明
D65 国际标准人工日光(Artificial Daylight) 色温：6500K 功率：18W TL84 欧洲、日本、中国商店光源 色温：4000K 功率：18W CWF 美国冷白商店光源(Cool White Fluorescent) 色温：4150K 功率：18W F 家庭酒
标准光源箱的光源说明
D65 国际标准人工日光(Artificial Daylight) 色温：6500K 功率：18W TL84 欧洲、日本、中国商店光源 色温：4000K 功率：18W CWF 美国冷白商店光源(Cool White Fluorescent) 色温：4150K 功率：18W F 家庭酒
光电所深紫外光刻机镀膜技术研究取得新进展
193nm 光刻机是目前半导体产业的核心装备。为实现大的数值孔径，光刻机镜头通常包含大量接近于半球形状的凸球面和凹球面，这些球面导致同一镜面上光线入射角度范围高达0°到60°以上。目前通用的热蒸发行星镀膜技术会引起球面上严重的膜厚不均匀；同时在球面上的不同位置，高低折射率材料如LaF3 和MgF
杨学明：“点亮”世界上最耀眼的极紫外光源
一个人如果对一个方向没有兴趣，就很难真正在科学研究上有很好的发展，兴趣是从事科学研究工作的内在推动力。杨学明中国科学院院士、南方科技大学理学院院长“基于可调极紫外相干光源的综合实验研究装置”（以下简称大连相干光源）项目近期传来好消息——分子反应动力学国家重点实验室、大连光源科学研究室研究员江凌和中国
深紫外激光源研究：推倒200nm上的一堵墙
激光技术的发展让人类的视野不断拓宽。但多少年来，波长小于200nm的深紫外波段，一直是个神秘又难以逾越的坎。 200nm上的这堵“墙”把人类挡在了外面。由于深紫外激光源的缺席，许多重要的科学研究只得搁置。 但中科院的一群科学家不能接受这样的现实。30年来，他们不但找到了深紫外光学材
光刻机原理是什么
光刻机原理是什么，为何在我国如此重要？一台EUV光刻机售价一亿美金以上，比很多战斗机的售价都要贵。先进的光刻机必须要用到世界上最先进的零件和技术，并且高度依赖供应链全球化，荷兰的ASML用了美国提供的世界上最好的极紫外光源，德国蔡司世界上最好的镜片和光学系统技术，还有瑞典提供的精密轴承。另外，为了给
佳能光刻机共享应用
仪器名称：佳能光刻机仪器编号：80424600产地：日本生产厂家：日本型号：PLA-500出厂日期：198004购置日期：198004所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>光刻工艺放置地点：微电子所新所一楼微纳平台光刻间固定电话：固定手机：固定email：联系人：窦维治（010-62781090,1
手持光刻机如何使用
手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；光刻（photolithography）工艺是将掩膜版（光刻版）上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。首先光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面，再经过分步重复曝光和显影处理之后，在晶圆上形
光刻机有哪些品牌？
光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类： 高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制
投影式光刻机简介
投影式光刻机一般采用步进-扫描式曝光方法。光源并不是一次把整个掩模上的图形投影在晶圆上，曝光系统通过一个狭缝式曝光带（slit）照射在掩模上，载有掩模的工件台在狭缝下沿着一个方向移动，等价于曝光系统对掩模做了扫描，与掩模的扫描同步，晶圆沿相反的方向以1/4的速度移动。现代光刻机中，掩模扫描的速度
SPLQC标准光源箱的光源区别
工业生产中的颜色管理，品检员虽然已仔细地对比过货品的颜色，但因为环境光源不标准或与客商所使用的光源不一致，不同光线下所看到的颜色各异，货品色差很难判定。客商验货时会因为色差超出标准范围而投诉，甚至退货，从而严重影响了公司商誉。要有效解决上述问题，有用的方法就是在检定货品的颜色时，必须在相同的光源及可