南京天光所3.2米箱式真空镀膜机通过出厂验收

中国科学院南京天文光学技术研究所委托研制的3.2米箱式真空镀膜机通过出厂验收。 近年来,南京天光所镀膜团队开展了提高膜系光谱反射率、膜系环境适应性和膜系用途多样性等方面的研究,掌握多项关键技术,例如,紫外增强型宽谱段高反射膜系制备、碳化硅材料基底表面改性层制备、极寒环境大口径镜面防霜膜系制备、高精度天文滤光膜系制备等,并应用于多个在研项目,取得了良好效果。2021年初,基于国内大型天文观测设备发展需求,南京天光所正式启动研制3.2米箱式真空镀膜机。 3.2米箱式真空镀膜机最大可为直径2.6米的大型光学镜片提供各类光学膜系制备,包括金属反射膜、增强型金属反射膜、多层介质膜以及碳化硅反射镜改性层,是目前华东地区口径最大的多功能镀膜设备。由于针对大型光学镜面的镀膜工艺需求采用了多项新技术、新结构,膜系质量有保障,安全措施也得到加强。该设备将成为南京天光所研制大口径高精度光学薄膜的又一利器。......阅读全文

真空镀膜的概念

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。

与真空镀膜相比,离子镀膜有哪些优点

通过真空镀膜技术的应用,使塑料表面金属化,将有机材料和无机材料结合起来,大提高了它的物理、化学性能.其优点主要表现在:改善美观,表面光滑,金属光泽彩色化,装饰性大大提高;改善表面硬度,原塑胶表面比金属软而易受损害,通过真空镀膜,硬度及耐磨性大大增加;提高耐候性,一般塑料在室外老化很快,主要原因是紫外

真空镀膜的常用方法

(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放

真空镀膜的方法介绍

真空镀膜的方法很多,计有:(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000

真空金属镀膜(VMD)技术浅谈

真空金属镀膜技术 在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法称为真空镀膜,目前在工业领域应用较多的为真空蒸镀和溅射镀膜两种镀膜技术。真空镀膜技术真正应用是在1930年油扩散泵和机械泵技术推出后。1935年研制出采用真空沉积技术的减反射膜,并在1945年应用于眼镜

真空镀膜技术简介

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的

真空镀膜的技术分类

真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得,它利用某种物理过程,如物质的热蒸发,或受到离子轰击时

真空镀膜技术分类

真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得,它利用某种物理过程,如物质的热蒸发,或受到离子轰击时

真空镀膜技术与湿式镀膜技术对比

真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较,具有下列优点:(1)薄膜和基体选材广泛,薄膜厚度可进行控制,以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜,环境清洁,薄膜不易受到污染,因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好,薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液,也无

真空镀膜的技术优势

真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较,具有下列优点:(1)薄膜和基体选材广泛,薄膜厚度可进行控制,以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜,环境清洁,薄膜不易受到污染,因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好,薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液,也无

真空镀膜机的结构原理

一、电控柜的操作 1. 开水泵、气源 2. 开总电源 3. 开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。 4. 开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。 5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后,关

超高真空多靶磁控溅射镀膜仪

  超高真空多靶磁控溅射镀膜仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器,于2010年2月21日启用。  技术指标  双室磁控溅射系统,极限压力:主溅射室,6.67*10-6Pa,2、永磁靶5套,三个直流电源,两个射频电源,靶材直径60mm;3、6个样品工位,尺寸直径30mm,基片加热最高600度,退火

新越引德国真空镀膜技术

  福建新越金属材料科技公司总投资近12亿的真空连续镀膜生产线近日在福建省永安市投产并举行蓝膜生产基地落成典礼。   此次从德国引进世界最先进的连续真空镀膜设备,主要有太阳能热吸收材料、高反射镜面、装饰性镀膜等。据介绍,新越真空镀膜生产线全长约150米,整条生产线只需8—10名操作者,通过全自动化

真空镀膜机清洗的工艺要求

  真空工艺进行前应清洗真空材料,从工件或系统材料表面清除污染物;真空零部件的表面清洗处理也是非常有必要的,因为由污染物所造成的气体、蒸气源不仅会使真空系统不能获得所要求的真空度。而且由于污染物的存在,同时也会影响真空部件连接处的强度和密封性能。  污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”,根据

真空镀膜中扩散泵为什么预热

扩散泵不是需要预热、而是需要加热,这是扩散泵的工作原理,跟处于什么工艺下进行没有关系。扩散泵属于增压泵,单独是不可以使用的,必须串联机械泵,如旋片泵、滑阀泵等。扩散泵的工作条件是全压强小于10pa才可以开启加热炉。扩散泵没有电机,是通过电炉加热使油蒸发,然后冷凝的一个往复运动,期间将空气通过机械泵排

真空镀膜机原理和各部件分析

  一、真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异,真空腔的大小也不一样,目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔体由不锈钢" target=_blank>不锈钢材料制作,要求不生锈、坚实等,真空腔各部分有连接阀,用来连接各抽气泵浦。  二、辅助抽气系统:排气系统为镀膜机真空系

多功能真空镀膜机的技术指标

  技术指标  电子枪蒸发源:一把成都金雅客公司电子枪,6孔坩埚,每孔40cc容量,电子枪位于真空室下部;电子枪冷却水流量监测,互锁保护,自带自动预熔功能、实现膜厚仪自动控制电子枪镀膜,操作更方便。 电阻蒸发:2组蒸发电极,兼容蒸发舟、螺旋蒸发丝,带有自动档板。1台以色列产TDK蒸发电源功率:1.4

PTFE镀膜真空泵的三大结构优势介绍

索取资料TIP1. 选择PTFE镀膜真空泵的三大好处实验室的真空泵种类很多,不论是无油式真空泵、油式真空泵、耐腐蚀真空泵...等,依照实验类型所需要使用的真空泵都不一样,依使用的严苛程度,其价格也迥然不同。如何找到最适合的真空泵一直是个学问。以下先跟大家介绍一款由洛科全新推出的PTFE镀膜真空泵,此

真空镀膜机为何要安装天寒水汽捕集器

1.在真空系统中,水蒸气是影响抽真空装置抽气速度最大的障碍,天寒-135℃水汽捕集器可以快速有效捕捉系统残余空气中%65到95%的水蒸气,减少抽水蒸气所耗费的时间,效率高达80%。若在现有的抽真空系统中加装天寒-135℃水汽捕集器,可以增加生产能力30%到100%,还能改善镀膜品质。2.在真空系统中

多功能真空镀膜机的主要功能简介

  多功能真空镀膜机是一种用于物理学、材料科学、电子与通信技术领域的工艺试验仪器,于2019年11月22日启用。  主要功能  系统可镀镀制各种介质膜、光学膜、透明导电膜、铁电薄膜等如:各种金属钛、铂、金等、常见氧化物、Si, Al2O3, TiO2, SiO2,氧化铪等,以及半导体激光器常见膜系,

镀膜过程监控

光谱仪 AvaSpec-ULS2048(200-1100nm)软件 AvaSoft-Full软件和XLS或PROC应用软件光源 AvaLight-DH-S-BAL均衡光谱型氘-卤素灯光纤探头 1根FCR-7UV200-2-ME反射型光纤探头,1根FC-UV600-2光纤和1根FC-UV200-2光纤

光学镀膜简介

光学镀膜由薄膜层组合制作而成,它产生干扰效应来提高光学系统内的透射率或反射性能。光学镀膜的性能取决于层数、个别层的厚度和不同的层接口折射率。用于精密光学的zui常见镀膜类型:增透膜(AR)、高反射(镜)膜、 分光镜膜和过滤光片膜。增透膜包括在高折射率的光学中并用于zui大化光

高真空蒸发镀膜仪的设计让其操作更容易实现

  高真空蒸发镀膜仪是全自动程序控制,彩色触摸屏界面,操作简单,它可以镀金(AU),铂(PT)和其他非氧化的贵金属,也可以镀铱(IR),铬(CR),铝(AL)和其他易氧化膜材料的细颗粒。它特别适用于场发射电子显微镜,透射电子显微镜和非晶碳熔覆/TEM网格支撑膜的样品制备,还可以为薄膜应用和其他材料领

电镜附件的原理及其应用——离子溅射仪/真空镀膜机

在利用扫描电镜分析非导电样品时,因为样品的不导电性,会在样品表面累积电离子,因此在成像过程中会产生大量的放电现象,严重影响图像质量。因此在观察非导体时一般都要事先用真空镀膜机或离子溅射仪在试样表面上蒸涂(沉积)一层重金属导电膜(我们一般是在试样表面蒸涂一层金膜),这样既可以消除试样荷电现象,又可以增

南京天光所3.2米箱式真空镀膜机通过出厂验收

  中国科学院南京天文光学技术研究所委托研制的3.2米箱式真空镀膜机通过出厂验收。  近年来,南京天光所镀膜团队开展了提高膜系光谱反射率、膜系环境适应性和膜系用途多样性等方面的研究,掌握多项关键技术,例如,紫外增强型宽谱段高反射膜系制备、碳化硅材料基底表面改性层制备、极寒环境大口径镜面防霜膜系制备、

[光学]镀膜的定义

中文名称[光学]镀膜英文名称optical thin film deposition定  义在光学零件表面上镀上一层或多层光学薄膜的工艺过程。应用学科机械工程(一级学科),光学仪器(二级学科),光学仪器一般名词(三级学科)

[光学]镀膜的定义

中文名称[光学]镀膜英文名称optical thin film deposition定  义在光学零件表面上镀上一层或多层光学薄膜的工艺过程。应用学科机械工程(一级学科),光学仪器(二级学科),光学仪器一般名词(三级学科)

电镀膜厚仪

XRF2000镀层测厚仪检测电子电镀,化学镀层厚度,如镀金,镀镍,镀铜,镀铬,镍锌,镀银,镀钯...可测单层,双层,多层,合金镀层,测量范围:0.04-35um测量精度:±5%,测量时间只需30秒便可准确知道镀层厚度全自动台面,操作非常方便简单XRF2000镀层测厚仪,提供金属镀层厚度的测量,同时可

AR镀膜减反射玻璃-AR镀膜设备应用于哪些领域

  AR镀膜减反射玻璃 AR镀膜设备应用于哪些领域   AR镀膜减反射玻璃,是一种将玻璃表面进行特殊处理的玻璃,其与普通玻璃相比具有较低的反射比。   AR镀膜设备主要应用:   在普通的钢化玻璃表面镀膜,从而提高了钢化玻璃表面的透光率以及实现了易清洁功能。同时还延长了玻璃的寿命。AR镀膜

AR镀膜减反射玻璃-AR镀膜设备应用于哪些领域

  AR镀膜减反射玻璃 AR镀膜设备应用于哪些领域   AR镀膜减反射玻璃,是一种将玻璃表面进行特殊处理的玻璃,其与普通玻璃相比具有较低的反射比。   AR镀膜设备主要应用:   在普通的钢化玻璃表面镀膜,从而提高了钢化玻璃表面的透光率以及实现了易清洁功能。同时还延长了玻璃的寿命。AR镀膜