光刻机为什么一定用紫外线
光刻机采用激光将图形刻印在半导体上，但光是电磁波，不同的光线具有不同的波长。如果需要刻印的图形非常微小，而采用的光线波长较大，则刻不出想要的图形。就像你不能用拖把（书写痕迹粗大）在田字格本上写毛笔字（笔划细小）。现在的芯片集成度越来越高，最高端的芯片工艺已经到了2nm级别。而可见光波长在780nm（红）～400nm（紫）之间，刻不出小于400nm的图形。紫外线波长在400nm～10nm之间，采用极紫光才可能刻印10nm宽的线条。现在最高集成度的芯片，都在10nm以下，已经属于X射线范畴了。......阅读全文
光刻机是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工
光刻机水冷机冷水机安装位置考虑因素有哪些
光刻机水冷机是一种常见的工业冷却设备，光刻机水冷机安装时需要选取合适的安装位置，这样可以减少制冷量损失并且操作更为便利。 1、应当尽量减少光刻机水冷机与被控温设备的距离，这样的好处是可以减少冷冻水在管路中的压降和冷量损失，而且机组没有远程控制功能时方便操作设备； 2、从散热条件来说，将光刻机
细说接触式光刻机的使用原理及性能指标
大家也许还不是非常的清楚，刻录机的种类有非常的多，其中的技术原理也不尽相同，下面就由我来给大家简单介绍一下有关接触式光刻机的使用原理及性能指标。 接触式光刻机的使用原理： 其实在我国对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。 我
紫外纳米压印光刻机提升我国微纳级制造业能力
记者日前从中科院光电技术研究所获悉，该所微电子专用设备研发团队已自主研制出一种新型紫外纳米压印光刻机，其成本仅为国外同类设备1/3，将有力推进我国芯片加工等微纳级结构器件制造水平迈上新的台阶。 光刻机是微纳图形加工的专用高端设备。光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍，这套设备采用新型纳米对准
不鸣则已、一鸣惊人，国产先进光刻机问世只是时间问题
半导体产业可以说是一个国家工业的战略高地，而光刻机又是半导体产业的基础核心，所以美国、荷兰、日本等国均对光刻机的出口进行了严格限制，要想不被“卡脖子”，只能走自主研发、自主可控的道路，对此本文将着重探讨三个方面的问题，一是光刻机产业的现状？二是当前国产光刻机技术究竟发展到了什么程度？三是国产光刻
光刻机巨头阿斯麦：美限制芯片出口中国对公司影响有限
据彭博社20日报道，荷兰光刻机生产企业阿斯麦（ASML）周三向投资者保证，美国限制中国获取尖端半导体技术的最新出口管制措施，对该公司的影响“相当有限”。ASML的言论让市场感到出乎意料，一直以来，受美国政府对华贸易打压影响，芯片设备行业蒙受损失，但ASML认为，公司未来销售额会高于市场预期。阿斯麦
800万！清华大学双面对准光刻机采购项目公开招标公告
近日，清华大学发布双面对准光刻机采购项目，详情如下：项目编号：清设招第2022114号（0873-2201HW3L0236）项目名称：清华大学企业信息双面对准光刻机采购项目预算金额：800.0000000 万元（人民币）采购需求：1.本次招标共1包：包号名称数量预算金额（人民币万元）是否接受进口产品
碳化硅展会|2024上海国际光刻机展览会「上海半导体展」
2024年第二十一届中国国际半导体博览会（IC CHINA）时 间：2024 年 9 月 5 一 7 日地 点：中国·北京 · 北人亦创国际会展中心参展咨询：021-5416 3212大会负责人：李经理 136 5198 3978（同微）作为中国半导体行业协会主办的唯一展览会，自 2003 年起已连
光电所深紫外光刻机镀膜技术研究取得新进展
193nm 光刻机是目前半导体产业的核心装备。为实现大的数值孔径，光刻机镜头通常包含大量接近于半球形状的凸球面和凹球面，这些球面导致同一镜面上光线入射角度范围高达0°到60°以上。目前通用的热蒸发行星镀膜技术会引起球面上严重的膜厚不均匀；同时在球面上的不同位置，高低折射率材料如LaF3 和MgF
光刻机龙头阿斯麦举行投资者日－芯片业或迎来新转折？
全球光刻机龙头阿斯麦将在当地时间周三午后举行投资者日。在事前发布的声明中，公司明确表示对高端光刻机业务前景和“钱”景持续乐观的立场。 作为向芯片制造业提供关键生产工具的龙头企业，阿斯麦预期这一轮电子行业的全球大趋势，将继续向半导体市场的增长注入动力。与此同时，芯片终端市场的增长和光刻强度的增加
2025深圳半导体光刻机设备展览会半导体IC制造与封装展览会
深圳电子元器件展，电子仪器仪表展，深圳电子仪器仪表展，电子元器件展，深圳电子设备展，电子设备展，电子元器件展览会，电子仪器展，深圳电子仪器展，电仪器展览会，深圳继电器展，深圳电容器展，深圳连接器展，深圳集成电路展2025中国（深圳）国际半导体与封装设备展览会2025 China (Shenzhen)
攻克“光源中的光源”，中国芯走上新道路
当前，芯片问题广受关注，而半导体工业皇冠上的明珠——以极紫外（EUV）光刻机为代表的高端光刻机，则是我国集成电路（IC）产业高质量发展必须迈过的“如铁雄关”。 如何在短期内加快自主生产高端光刻机的步伐，打破国外的技术封锁和市场垄断？笔者认为，应找准关键技术，攻克核心设备，跻身上游产业。认清光刻关
光电所在光学薄膜厚度均匀性控制技术方面取得进展
中国科学院光电技术研究所深紫外镀膜课题组在光刻机镜头镀膜技术上取得一系列进展，提出并实现了数种提高光学薄膜厚度均匀性的办法，克服了大口径大曲面镜头上薄膜厚度均匀性控制的难题。 光刻机镜头中包含大量的曲面光学镜头，随着光刻机数值孔径增大，部分光学镜面的口径增大且形状逐步接近于半球，镜面上镀膜后的
我国芯片行业要多久可以赶上美国？
来源：远望智库预见未来 军民融合观察 观察者网 作者：远方青木在芯片领域，中美差距到底有多大? 因为中国经济起步太晚，在追赶方面我们肯定是按先易后难的顺序搞的。芯片技术遵循摩尔定律，在同样价格的前提下，每18~24个月元器件的数目就会翻一倍，也就是性能翻一倍。这恐怖的进化速度代表整个芯片产业链
2024上海国际半导体光刻机设备展览会暨半导体芯片设备展览会
展会名称：2024中国（上海）国际半导体展览会英文名称：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间：2024年11月18-20日 论坛时间：2024年11月18-19日 展会地点：上海新国际
集成电路关键技术迎来黄金发展期
研讨会现场（主办方供图）8月23日，集成电路关键技术研讨会在北京举办。与会专家围绕着我国集成电路产业链条中的光刻机、软硬件质量保障等集成电路关键技术问题进行了研讨交流，以促进国内集成电路行业发展。“未来十年，集成电路关键技术迎来黄金发展期，机遇和挑战并存。”此次研讨会主持人、中国科学院自动化研究所高
合肥研究院承担的国家科技重大专项课题通过验收
3月12日至14日，中国科学院合肥物质科学研究院安徽光学精密机械研究所承担的课题“双腔同步全固化激光电源及输出能量稳定系统研究”通过了国家科技重大专项实施管理办公室的验收。该课题成功为MOPA结构的准分子激光器提供低抖动全固化的高脉冲快放电电源，并实现了通过反馈控制系统实现激光输出能量稳定。该课
美国拉拢日、荷围围堵中国半导体产业－中国致电荷兰外长…
据美国媒体报道，日前美国、日本和荷兰三国的官员，就进一步限制向中国出口用于制造半导体的设备的事宜，进行了新一轮的磋商。报道称，美国要求荷兰和日本的公司，收紧对华半导体设备出口的相关政策，防止中国获得制造半导体的先进设备和工艺，进而限制中国半导体产业发展。据悉，在美国的极限施压下，日本和荷兰已经同
汞灯的光谱
横坐标是波长，纵坐标是光幅（强度）。关于X光，汞灯光谱中包含有X光，但强度已经很小了，达不到应用水平。其实可以看到，KrF,ArF的强度也不大，所以在早期i线的光刻机上用的是汞灯，而DUV的光刻机用的是准分子激光。实验室中的汞灯一般为线光谱，主要谱线波长为： 。
2024上海国际半导体光刻机设备展览会暨华中半导体芯片设备展览会
展会名称：2024中国（上海）国际半导体展览会英文名称：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间：2024年11月18-20日 论坛时间：2024年11月18-19日 展会地点：上海新国际
卡住中国脖子的－35－项技术最全盘点（一）
中国芯片落后么？肯定是落后，而且是全方位的落后。从设计能力到制造能力，中国目前都差一大截，尤其是制造能力，这个是事实。就像我们觉得华为中兴很厉害，但是他们依赖的很多重要技术就是被包在芯片封装里面的那些外国玩意。现代这个世界，中国不可能把所有重要领域的科技能掌握到，你再厉害也有受制于人的地方。你不惜代
5nm是物理极限－芯片发展将就此结束？（二）
有外媒报道的劳伦斯伯克利国家实验室将现有最精尖的晶体管制程从14nm缩减到了1nm，其晶体管就是由碳纳米管掺杂二硫化钼制作而成。不过这一技术成果仅仅处于实验室技术突破的阶段，目前还没有商业化量产的能力。至于该项技术将来是否会成为主流商用技术，还有待时间检验。再来说说光刻机分辨率的事要想做出更
半导体行业探讨：EUV技术与HighNA－EUV的光刻革命
EUV（极紫外光刻）技术在半导体行业备受瞩目。据ASML公布的2023年第三季度报告，EUV光刻机的预定额从5亿欧元猛增至第四季度的56亿欧元，预计将在2025年前后交付。这一技术由日本工程师木下博夫提出，经过几十年的发展，ASML成为唯一能够量产EUV光刻机的厂商。EUV技术相对传统DUV技术具有
一篇文章说清半导体制程发展史（二）
第二个问题，为什么现在的技术节点不再直接反应晶体管的尺寸呢？原因也很简单，因为无法做到这个程度的缩小了。有三个主要原因：首先，原子尺度的计量单位是埃，为0.1nm。10nm的沟道长度，也就只有不到100个硅原子而已。未来晶体管物理模型是这样的：用量子力学的能带论计算电子的分布，但是用经典的电
中微5纳米等离子体刻蚀机又被网媒“戴高帽”
近来有网络媒体称，“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，性能优良，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”，并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁，第一次占领世界制高点”“中国弯道超车”等等。 中微公司的刻蚀机的确水平一流，但夸大阐述其战略意义，则被相关专家反对。刻蚀只是芯片制造多个环节
涂胶显影设备的前景
涂胶显影设备是芯片制程中必不可少的处理设备，利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为光刻机的输入即曝光前光刻胶涂覆和输出即曝光后图形的显影，涂胶显影机的性能不仅对细微曝光处的形成造成直接影响，而且其显影工艺的图形质量和误差
三个月突破634亿大关：中国半导体制造设备进口额飙升90％
在过去的三个月里，中国半导体制造设备的进口总额突飞猛进，达到634亿人民币，同比增长了惊人的90%。这一数字不仅远超过去年同期，也预示着中国半导体行业在国际竞争环境下的艰难前行。 美国针对中国的半导体制造设备出口管制政策是这一现象背后的主要推动力。自去年以来，美国联合日本、韩国和荷兰对中国实施
华中大团队成功研发我国首款计算光刻EDA软件
近日，华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化，填补了国内空白。 光刻成像原理图 “OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨
超声扫描显微镜的相关特色到底在哪里
关于超声扫描显微镜，可以说超声扫描显微镜是一种离线的检测分析设备，可以说超声扫描显微镜拥有自主知识产权，创新是企业发展的必由之路。在国内半导体专用设备领域凭借自身多年的技术积累，不断创新，在多年积淀的技术基础上，四十五所厚积薄发，半导体专用设备领域都有新品推出，SSJ-100超声扫描显微镜就是其中之
ASML示警：过度出口管制或抬高芯片成本
集微网消息，ASML首席执行官Peter Wennink警告称，过度的管制措施可能导致芯片制造商的成本上升，因为美国要求从日本到荷兰的盟友帮助限制中国获得关键半导体技术的机会。据彭博社报道，荷兰和日本是半导体制造设备主要供应商的所在地，即将加入美国政府领导的遏制向中国出口该技术的努力，ASML对中国