粉末试样的制样技术是X荧光光谱仪分析中的重要一部分
作为一种比较成熟的成分分析手段，X荧光光谱仪分析在冶金、地质、环境、化工、材料等领域中应用非常广泛。X荧光光谱仪分析的对象主要是块状固体、粉末、液体三种，其中，固体粉末是分析得多的一种。因为很多试样如水泥、煤、灰尘等本身就是粉末，对于形状不规则的块状固体，如各种矿石，由于直接分析技术目前还不成熟，往往也粉碎成粉末。液体试样可放入液体样品杯中分析，但由于不能抽真空等原因，有时将液体转变为固体，一些预分离、富集的结果也常是粉末，因此，粉末试样的制样技术是X荧光光谱仪分析中的重要一部分。 X荧光光谱仪分析粉末样品主要有两种方法： ①、熔融法。熔融法是应用较多的一种制样方法，它较好地消除了颗粒度效应和矿物效应的影响。但熔融法也有缺点：因样品被熔剂稀释和吸收，使轻元素的测量强度减小；制样复杂，要花费大量时间；成本也较高。 ②、粉末压片法 ......阅读全文
粉末试样的制样技术是X荧光光谱仪分析中的重要一部分
作为一种比较成熟的成分分析手段，X荧光光谱仪分析在冶金、地质、环境、化工、材料等领域中应用非常广泛。X荧光光谱仪分析的对象主要是块状固体、粉末、液体三种，其中，固体粉末是分析得多的一种。因为很多试样如水泥、煤、灰尘等本身就是粉末，对于形状不规则的块状固体，如各种矿石，由于直接分析技术目前还不成熟，往
X荧光光谱仪分析中的粉末压片制样法
作为一种比较成熟的成分分析手段，X荧光光谱仪分析在冶金、地质、环境、化工、材料等领域中应用非常广泛。X荧光光谱仪分析的对象主要是块状固体、粉末、液体三种，其中，固体粉末是分析得最多的一种。因为很多试样如水泥、煤、灰尘等本身就是粉末，对于形状不规则的块状固体，如各种矿石，由于直接分析技术目前还不成熟，
X射线荧光分析试样的重要性
样品制备在X射线荧光分析中占有很重要的地位，因为样品制备的情况对测定误差影响很大，有时分析误差的主要是因样品制备操作不当所引起的。因此合适的制样方法是减少X射线荧光分析误差，同时也是改善分析精密度和降低测定下限的方法之一。 在试样制作过程中需注意，由于X射线对物质具有穿透能力，产生的荧光X射线
X荧光光谱仪的制样过程中需要注意什么
X荧光光谱仪分析方法是一个相对分析方法，任何制样过程和步骤必须有非常好的重复操作可能性，所以用于制作标准曲线的标准样品和分析样品必须经过同样的制样处理过程。 X 射线荧光实际上又是一个表面分析方法，激发只发生在试样的浅表面，必须注意分析面相对于整个样品是否有代表性。此外，样品的平均粒度和粒
X荧光光谱仪重要技术原理
X荧光光谱仪技术原理: X荧光光谱仪（XRF）由激发源（X射线管）和探测系统构成。X射线管产生入射X射线（一次X射线），激发被测样品。受激发的样品中的每一种元素会放射出二次X射线，并且不同的元素所放射出的二次X射线具有特定的能量特性或波长特性。探测系统测量这些放射出来的二次X射线的能量及数量。然后
X 射线荧光制样方法浅谈（一）
导言： 第13期的论坛线上讲座还未结束,第14期的线上讲座又接踵而至,本期讲座我们邀请了XRF版面的专家ljzllj先生就 XRF制样的方法与大家一起交流切磋。ljzllj先生一直从事XRF仪器的应用等各方面的研究工作。对XRF的仪器比较熟悉。欢迎大家就X 射线荧光制样方法的问题前来提问，也欢迎XR
X 射线荧光制样方法浅谈（二）
一、概论 X 射线荧光光谱法是一个相对分析方法，任何制样过程和步骤必须有非常好的重复操作可能性；用于制作校准曲线的标准样品和分析样品必须经过同样的制样处理过 程。X 射线荧光实际上又是一个表面分析方法，激发只发生在试样的浅表面，必须注意分析面相对于整个样品是否有代表性。此外，样品的平均粒度和粒度分布
X荧光制样之液体样品制备
上一章节讲解完固体样品制备大家应该都会有所了解了，下面给大家讲一下液体样品的制备要求。 液体样品可直接放在液体样品杯中进行直接测定，所用液体体积尽可能达到无限厚，体积应保持恒定。样品杯由不锈钢、聚四氟乙烯等材料制成，并用厚度为几个微米的聚酯、聚乙烯、聚丙烯等薄膜作为支撑保护。 液体样
X荧光光谱仪分析中的干扰分析
1、在X荧光光谱仪分析中，某些元素间可能有全部或者部分谱线重叠。基本参数方程要求使用没有受到谱线重叠影响的净强度。在这些方程中包含某些经验的修正。 2、在X射线光谱仪分析中，在某些元素间可能存在元素间干扰或者基体效应。来弥补这些效应的经验方式就是制备一系列校正标样的曲线，浓度范围涵盖要分析的范围。此
X荧光光谱仪分析技术误区
不管任何分析仪器，分析技术是获得正确结果的保证。分析技术贯穿于仪器应用的全过程。分析方法的选择必须满足仪器应用的需要。 误区1：标样制备太麻烦，最好用无标样法。 X荧光光谱仪分析法和其它大部分分析仪器一样，是相对分析法。在X荧光光谱仪分析中，测得的X射线强度与相应元素浓度的对应关系完全是建立在标准样
X荧光光谱仪分析中的误差来源
X射线荧光光谱仪是通过X射线管产生的X射线作为激光源，激发光源激发样品产生X荧光射线。根据荧光X射线的波长和强度来确定样品的化学组成。作为一种质量检测手段，X荧光光谱仪在我国各行各业应用越来越广泛。研究X荧光光谱仪在分析过程中的误差，提高仪器的分析准确度成为重要的课题。 X射线荧光分析过程中产生误差
X荧光光谱仪制样方法
一、X荧光光谱仪分析方法是一个相对分析方法，任何制样过程和步骤必须有非常好的重复操作可能性，所以用于制作标准曲线的标准样品和分析样品必须经过同样的制样处理过程。 X 射线荧光实际上又是一个表面分析方法，激发只发生在试样的浅表面，必须注意分析面相对于整个样品是否有代表性。此外，样品的平均粒度和粒度
X荧光光谱仪制样要求
X荧光光谱仪主要用途 x荧光光谱仪根据各元素的特征X射线的强度，也可以获得各元素的含量信息。 近年来，X荧光光谱分析在各行业应用范围不断拓展，已成为一种广泛应用于冶金、地质、有色、建材、商检、环保、卫生等各个领域，特别是在RoHS检测领域应用得zui多也zui广泛。 大多数分析元素均可用其进
直读光谱仪分析中的小试样分析
光电直读光谱仪分析对试样有基本要求，试样与激发台的接触面应为大于激发孔的平面(激发孔直径10一15mm)。因此许多小尺寸的试样不能直接在直读光谱仪上测定。为解决小试样的测量，国内外已经积累了丰富的经验，并广泛地应用于实际分析中。 1、氮化硼片法：氮化硼片法这是一项成熟技术，已应用多年，基本方法是用氮
X射线荧光光谱仪无标样分析方法
对于以固体进样为主的X射线荧光分析技术，要获得一套高质量的固体标准样品有一定难度，限制了X射线荧光分析的应用范围。 而X射线荧光光谱无标样分析技术是20世纪90年代推出的新技术，其目的是不用标准样品也可以分析各种样品。它的基本思路是：由仪器制造商测量标准样品，储存强度和工作曲线，然后将这些数据
X射线荧光光谱仪中X射线的由来和性质分析
X射线荧光光谱仪（XRF）由激发源（X射线管）和探测系统构成。X射线管产生入射X射线（一次X射线），激发被测样品。受激发的样品中的每一种元素会放射出二次X射线，并且不同的元素所放射出的二次X射线具有特定的能量特性或波长特性。探测系统测量这些放射出来的二次X射线的能量及数量。然后，仪器软件将探测系统所
X荧光光谱仪制样方法详谈
一、固体样品1、固体样品的主要缺点是，一般情况下不能采用各种添加法：如标准添加（或稀释）法、低（或高）吸收稀释法、内标法等。若所有样品中已经含有适当的、一定浓度的内标元素，则上述的最后两种方法还是可用的。另外，也不能进行化学浓缩和分离。表面结构和成分有时也难取得一致。可能弄不到现成的标样，而人工合成
X荧光光谱仪制样方法（一）
一、X荧光光谱仪分析方法是一个相对分析方法，任何制样过程和步骤必须有非常好的重复操作可能性，所以用于制作标准曲线的标准样品和分析样品必须经过同样的制样处理过程。X 射线荧光实际上又是一个表面分析方法，激发只发生在试样的浅表面，必须注意分析面相对于整个样品是否有代表性。此外，样品的平均粒度和粒度分布是
X荧光光谱仪制样方法（二）
制备固体样品时要注意：（1） 样品的分析面不能有气孔，析出物和多孔质现象。（2） 防止偏析。造成偏析的因素：合金的组成和密度；铸模的材料、形状和厚度；合金熔化温度、浇铸温度和被浇铸样品的冷却速度等。（3） 样品的冷却速度。当样品化学组成相同由于热过程不同测得的X 射线强度不同，含C 量高的钢铁样品这
X荧光光谱仪制样方法（三）
粉末样品误差主要来源：（1） 粒度效应 粉末样品粒度效应是指被测量样品中的分析元素的荧光强度变化和样品的粒度变化有关。一般来说，被分析样品的粒度越小，荧光强度越高，轻元素尤甚。原子序数越小，对粒度越敏感；同一元素粒度越小，制样稳定性越好。一般要求粒度小于200 目。（2） 偏析 偏析是指组分元素在样
X荧光光谱仪制样方法详谈
一、X荧光光谱仪分析方法是一个相对分析方法，任何制样过程和步骤必须有非常好的重复操作可能性，所以用于制作标准曲线的标准样品和分析样品必须经过同样的制样处理过程。X 射线荧光实际上又是一个表面分析方法，激发只发生在试样的浅表面，必须注意分析面相对于整个样品是否有代表性。此外，样品的平均粒度和粒度分
X射线荧光光谱仪制样要求
X射线荧光光谱仪制样要求： 样品的尺寸(直径x高)50x 40mm，重量400g。 1、定量分析 定量分析是对样品中元素进行准确定量测定。定量分析需要一组标准样品做参考。常规定量分析一般需要5个以上的标准样品才能建立较可靠的工作曲线。 常规X射线荧光光谱定量分析对标准样品的基本要求：
X射线荧光光谱分析技术的重要应用
X射线荧光光谱分析技术属于一种能够实现快速分析的无损检测技术，新型、成本更低的X射线光谱仪更容易在被检测材料或者组件的整个生命周期内进行多元测量和验证。利用摩擦效应产生X射线的低成本、移动型X射线荧光光谱仪将会和原位检测或者实验室检测实现互补。 对于质量管理部门、冶金实验室、机械工厂、金属加工
X射线荧光分析中的相关技术研究
X射线荧光分析又称X射线次级发射光谱分析,本法系利用原级X射线光子或其它微观粒子激发待测物质中的原子,使之产生次级的特征X射线(X射线荧光)而进行物质成分分析和化学态研究的方法。1948年由H.费里德曼(H.Friedmann)和L.S.伯克斯(L.S.Birks)制成第一台X射线荧光分析仪,至60
什么是X荧光光谱仪
X荧光光谱仪(XRF)由激发源(X射线管)和探测系统构成。X射线管产生入射X射线(一次X射线)，激发被测样品，产生X荧光(二次X射线)，探测器对X荧光进行检测。 技术原理 受激发的样品中的每一种元素会放射出二次X射线，并且不同的元素所放射出的二次X射线具有特定的能量特性或波长特性。探测系统
什么是全反射X射线荧光光谱仪技术？
全反射现象由Compton于1923年发现，1971年Yoneda等首次提出利用全反射现象来激发被测元素的特征谱线。这是一种超衡量检测XRF技术。 XRF于1981年在德国问世,实质上是EDXRF的拓展,与常规EDXRF所具有的关键区别就在于其反射系统：TXRF通常有一级、二级或三级反射系统
X荧光光谱仪的技术原理
X荧光光谱仪（XRF）由激发源（X射线管）和探测系统构成。X射线管产生入射X射线（一次X射线），激发被测样品。受激发的样品中的每一种元素会放射出二次X射线，并且不同的元素所放射出的二次X射线具有特定的能量特性或波长特性。探测系统测量这些放射出来的二次X射线的能量及数量。然后，仪器软件将探测系统所收集
X荧光光谱仪的技术原理
X荧光光谱仪（XRF）由激发源（X射线管）和探测系统构成。X射线管产生入射X射线（一次X射线），激发被测样品，产生X荧光（二次X射线），探测器对X荧光进行检测。 X荧光光谱仪的技术原理： 元素的原子受到高能辐射激发而引起内层电子的跃迁，同时发射出具有一定特殊性波长的X射线，根据莫斯莱定律，荧光X
X荧光光谱仪的技术原理
X荧光光谱仪（XRF）由激发源（X射线管）和探测系统构成。X射线管产生入射X射线（一次X射线），激发被测样品，产生X荧光（二次X射线），探测器对X荧光进行检测。 受激发的样品中的每一种元素会放射出二次X射线，并且不同的元素所放射出的二次X射线具有特定的能量特性或波长特性。探测系统测量这些放射出
XRF荧光光谱仪的优劣势说明
XRF荧光光谱仪根据其分光原理不同分成波长色散型X荧光光谱仪（波谱仪，WDXRF）和能量色散型X荧光光谱仪（能谱仪，EDXRF）。我们通常所说的X荧光光谱仪就是指波长色散的仪器。 1、XRF荧光光谱仪的优势 （1）制样简单。通常情况下是物理制样。试样经过简单的破碎、研磨成粉末压片或熔