大硅片管制！瓦森纳协议限制14nm工艺硅片出口中国
就在国内12英寸大硅片(300mm晶圆)项目纷涌而起之际，去年底新修订的《瓦森纳协议》中，便“紧跟形势”地增加了对于12英寸硅晶圆制造技术的出口管制内容。 具体而言，新增内容直指当下国内正在寻求突破的针对于14nm制程的大硅片生产技术，在此之前，中芯国际已宣布14nm实现量产。 “瓦森纳新增部分对于12英寸大硅片技术的管制针对性非常强。当他们发现无法限制中国的14nm芯片制造之后，便将范围扩大到上游14nm工艺硅片的生产技术上来。”一位业内人士告诉集微网。 同光刻机类似，半导体硅片也是我国半导体产业链与国际先进水平差距最大的环节之一。目前我国12英寸大硅片百分之九十九以上来自进口，从生产技术、原材料到设备，几乎均由国外企业把持。 在新瓦森纳协议“锁喉”之下，中国大硅片产业亟待寻求突围之策。行业人士呼吁，芯片制造企业不能只顾眼前利益，要下决心配合硅片制造商测试国产化硅片质量，从长远利益出发，具有危机意识，双方协同推进我......阅读全文
大硅片管制！瓦森纳协议限制14nm工艺硅片出口中国
就在国内12英寸大硅片(300mm晶圆)项目纷涌而起之际，去年底新修订的《瓦森纳协议》中，便“紧跟形势”地增加了对于12英寸硅晶圆制造技术的出口管制内容。 具体而言，新增内容直指当下国内正在寻求突破的针对于14nm制程的大硅片生产技术，在此之前，中芯国际已宣布14nm实现量产。 “瓦森纳新增
如何检测使用NASON纳森温度开关
NASON纳森温度开关在低温时处于导通状态，当温度升到温度开关的动作温度时，温度开关断开；当温度降到动作温度以下时温度开关又导通。测试温度开关的好坏，可用万用表电阻档，把万用表的两根表笔分别接温度开关的两个引脚，在常温下万用表显示阻值基本为0，然后用烧热的电烙铁（20 W 以上的烙铁即可以）给温度开
NASON纳森真空开关的功能
1.可实现上限停止，下限启动的功能；（也可反向控制）2.可以设置启动延时，防止电机的频繁开启造成损伤；3.KPA 、BAR、PSI多种压力单位切换；4.一键清零功能5.具有管道漏压保护的功能6.低功耗，不超过0.5W7.耐震、抗干扰强、响应快，性能稳定。NASON纳森真空开关是一种用于真空系统的压力
NASON纳森真空开关的功能
我公司具有良好的市场信誉，专业的销售和技术服务团队，凭着多年经营经验，熟悉并了解市场行情，赢得了国内外厂商的支持。本公司已成为众大中小企业的固定供应商及国内贸易商合作伙伴,至力于成为行业中之一的公司。 下面，我为大家介绍一下NASON纳森真空开关的功能，详情如下： 1.可实现上限停止
塑料切片类骨质（osteoid）戈德纳马森（GOLDNERMASSON）...
塑料切片类骨质（osteoid）戈德纳-马森（GOLDNER-MASSON）染色试剂盒使用说明主要用途 塑料切片类骨质（osteoid）戈德纳-马森（GOLDNER-MASSON）染色试剂是一种旨在使用三色染料（trichrome），分析和区分存档中的塑料包埋组织切片中的类骨质胶原纤维的权威而经典的
飞纳桌面扫描电镜产品的工艺要点
飞纳桌面扫描电镜采取了全新改进的真空系统和电子光学系统，不仅分辨率性能明显提升，而且作为一款冷场发射扫描电镜需要传统意义上的操作，可以率的快速获取样品超高分辨扫描电镜图像。 飞纳桌面扫描电镜可以自由控制SE和BSE检测信号，全新真空技术设计使得冷场发射电子束具有超稳定和高亮度特点，全新物镜设计
「官网」硅片生产设备展|2024深圳硅片生产设备展
深圳电子元器件展，电子仪器仪表展，深圳电子仪器仪表展，电子元器件展，深圳电子设备展，电子设备展，电子元器件展览会，电子仪器展，深圳电子仪器展，电仪器展览会，深圳继电器展，深圳电容器展，深圳连接器展，深圳集成电路展2024深圳国际电子设备及仪表仪器展览会展览时间：2024年4月9-11日地 点：深圳会
硅片颗粒检测设备概述
硅片表面颗粒检测仪是一种用于材料科学、电子与通信技术领域的物理性能测试仪器，于2016年10月8日启用。可测量硅片表面0.10~1.0微米颗粒颗粒捕捉率*95%@0.10um测试重复性*≤1.0%@1σ测试准确性缺陷颗粒数量的重复性。可进行颗粒、划道、抛光雾、COP、小丘、橘皮等表面不平整面缺陷
美国纳森NASON气缸必须知道的七个故障解决方案
美国纳森NASON气缸必须知道的七个故障解决方案，详情如下： 1.美国纳森NASON气缸变形较大或漏汽严重的结合面，采用研刮结合面的方法 如果上缸结合面变形在0.05mm范围内，以上缸结合面为基准面，在下缸结合面涂红丹或是压印蓝纸，根据痕迹研刮下缸。如果上缸的结合面变形量大，在上
硅片产业业绩大幅预喜
2月15日晚间，硅片新晋重磅选手上机数控业绩快报新鲜出炉，经初步核算，2021年实现营业收入109.06亿元，同比增幅262.22%；净利润16.37亿元，同比增长208.01%，双双创出新高。 下游光伏装机需求强力拉动，叠加上游硅料价格支撑，硅片赛道保持高景气度，老将、新秀各显身手，2021
硅片甩干机的维护保养
1、保证硅片甩干机可靠接地。2、检查所有进出排水阀是否正常。3、检查控制面板上的各种操作按钮，如有损坏及时更换。4、检查各个电气柜进出线螺丝是否松动，并及时进行紧固。5、检查及清洁电气原器件，避免造成漏电及局部短路，接触不良。6、检查管路是否有泄漏，若发现异常情况通知相关设备维修人员进行处理。7、可
参考瓦
参考瓦 在反射测量中需要使用参考瓦，对于漫反射测量推荐使用WS-2参考瓦，对于镜面反射则推荐使用RS-2参考瓦。 WS-2白参考瓦由白色漫反射材料PTFE制成，可以满足对漫反射率要求很高的领域。WS-2大多被用于色度学应用，这类应用要求在反射测量时先测参考信号。由于PTF
清华大学仪器共享平台中联科利－清洗机
仪器名称：清洗机仪器编号：11023084产地：中国生产厂家：中联科利型号：CUC-XS004A-05-10-M-A出厂日期：200612购置日期：201111所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>清洗/湿法工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：宗莉（01
中联科利清洗机共享应用
仪器名称：清洗机仪器编号：11023084产地：中国生产厂家：中联科利型号：CUC-XS004A-05-10-M-A出厂日期：200612购置日期：201111所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>清洗/湿法工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：宗莉（01
清洗机共享应用
仪器名称：清洗机仪器编号：11023084产地：中国生产厂家：中联科利型号：CUC-XS004A-05-10-M-A出厂日期：200612购置日期：201111所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>清洗/湿法工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：宗莉（01
硅片及硅基材料展|2024年上海硅片及硅基材料展览会
展会名称：2024中国（上海）国际半导体展览会英文名称：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间：2024年11月18-20日 论坛时间：2024年11月18-19日 展会地点：上海新国际
2024硅片及硅基材料展2024上海国际硅片及硅基材料展
展会名称：2024中国（上海）国际半导体展览会英文名称：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展会时间：2024年11月18-20日 论坛时间：2024年11月18-19日 展会地点：上海新国际
清华大学仪器共享平台金盛微纳－全自动磁控溅射系统
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
金盛微全自动磁控溅射系统共享
仪器名称：全自动磁控溅射系统仪器编号：12024341产地：中国生产厂家：金盛微纳科技有限公司型号：MSP-150B出厂日期：201112购置日期：201211所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：刘建设（,,zh
参考瓦参数
技术数据 WS-2RS-2材料 漫反射PTFE材料BK7 带 Al+MgF2 镀膜最高温度 280 °C80°C参考瓦尺寸 32 mm直径 / 10 mm厚32 mm直径 / 1mm厚外罩 38 mm 直径, 黑色PVC, 带红色氧化铝
THERMCO合金炉共享应用
仪器名称：合金炉仪器编号：11013950产地：美国生产厂家：THERMCO型号：MB-81出厂日期：200406购置日期：201107所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：新所一楼工艺平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹秉军（010-62784044,1391080
THERMCO合金炉共享
仪器名称：合金炉仪器编号：11013950产地：美国生产厂家：THERMCO型号：MB-81出厂日期：200406购置日期：201107所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：新所一楼工艺平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹秉军（010-62784044,1391080
做XRD用的单晶硅片和做扫描电镜的普通单晶硅片有区别么
用小角度模式扫，就可以避免基片影响。测试的人都懂的，不用买特殊的单晶硅片。
等离子体/化学刻蚀设备中刻蚀的解释
刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻 [1] 相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。刻蚀是
合金炉共享
仪器名称：合金炉仪器编号：11013950产地：美国生产厂家：THERMCO型号：MB-81出厂日期：200406购置日期：201107所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：新所一楼工艺平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹秉军（010-62784044,1391080
ICP设备(刻蚀机)共享应用
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定emai
参考瓦订购信息
Ordering Information WS-2 白参考瓦 WS-2-GEM 带孔的白参考瓦，用于宝石测量 RS-2 镀Al+MgF2的镜面反射标准, 200-1100nm RS-2-CAL NIST 可溯源的校准后的镀Al+M
ICP设备(刻蚀机)共享
仪器名称：ICP设备(刻蚀机)仪器编号：02001849产地：英国生产厂家：STS SURFACE TECN.型号：MESC Multiplex出厂日期：200001购置日期：200203所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>刻蚀工艺放置地点：微电子所新所一层工艺平台固定电话：固定手机：固定emai
PICOSUN－原子层沉积系统共享应用
仪器名称：PICOSUN 原子层沉积系统仪器编号：16041497产地：中国生产厂家：PICOSUN型号：R200 Advanced出厂日期：201709购置日期：201612所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一楼109固定电话：固定手机：固定email：联系人：曹
铁酸铋单晶首次被集成到硅片
美国北卡罗来纳州立大学的研究人员，首次将一种被称为铁酸铋(BFO)的材料作为一个单晶体集成到一个硅片上，向制造新一代多功能智能设备迈出了关键一步。 铁酸铋具有铁磁性和铁电性双重性能，这意味着它能够被通过其中的电流磁化。铁酸铋的潜在应用领域包括新磁性存储设备、智能传感器和自旋电子学技术等。