解析先进半导体制程未来可能面临的挑战及解决办法2
随着线宽的微缩，对于黄光微影与蚀刻的挑战当然不在话下，曝光显影的线宽一致性（Uniformity），光阻材料（Photo Resist，PR）的选择，都将会影响到后续蚀刻的结果。蚀刻后导线的线边缘粗糙度（Line Edge Roughness，LER），与导线蚀刻的临界尺寸（Critical Dimension，CD）与其整片晶圆一致性等最基本的要求，都是不小的挑战。 后段制程另外一个主要的挑战则是前文所提到铜离子扩散。目前阻挡层的主要材料是氮化钽（TaN），并在阻挡层之上再沉积衬垫层，作为铜与阻挡层之间的黏着层（Adhesion Layer），一般来说是使用钽（Ta）。 然而，钽沉积的覆盖均匀性不佳，容易造成导线沟槽的堵塞，20奈米节点以前因导线的深宽比（Aspect Ratio，AR）较低而尚可接受，但随着制程的演进，导线线宽缩小导致深宽比越来越高，钽沉积的不均匀所造成的缩口将会被严重突显出来，后......阅读全文
解析先进半导体制程未来可能面临的挑战及解决办法2
随着线宽的微缩，对于黄光微影与蚀刻的挑战当然不在话下，曝光显影的线宽一致性（Uniformity），光阻材料（Photo Resist，PR）的选择，都将会影响到后续蚀刻的结果。蚀刻后导线的线边缘粗糙度（Line Edge Roughness，LER），与导线蚀刻的临界尺寸（Critic
解析先进半导体制程未来可能面临的挑战及解决办法1
7奈米制程节点将是半导体厂推进摩尔定律（Moore’s Law）的下一重要关卡。半导体进入7奈米节点后，前段与后段制程皆将面临更严峻的挑战，半导体厂已加紧研发新的元件设计构架，以及金属导线等材料，期兼顾尺寸、功耗及运算性能表现。 台积电预告2017年第二季10奈米芯片将会量产，7奈米制程的量产
单细胞分析技术未来还可能面临哪些挑战？
单细胞分析技术未来可能面临以下一些挑战：伦理和法律问题的深化：随着单细胞分析技术在临床应用中的普及，涉及个人遗传信息和细胞数据的使用、存储和共享的伦理和法律问题将更加复杂。例如，如何确保患者的隐私不被泄露，以及如何规范数据在研究和商业应用中的使用权限。在生殖医学领域，单细胞分析技术可能引发关于胚胎筛
解析：半导体nm制程指的是哪里？
半导体制程指的是MOS管实际制造结束时的栅级引线宽度，也就是栅级多晶硅的宽度。 当然，实际中源极和漏极会有少量延伸到栅级下面，所以源极和漏极的实际分隔距离小于栅级宽度。这个有效分开距离被称为有效沟道长度，对晶体管而言是最重要的参数。不过这个参数很难测量，所以一般直接用栅级引线宽度来
自然资源部未来将面临哪些挑战？
多年来，面对自然保护管理体制存在的弊端，一直有不少关于机构改革的讨论甚至激辩。这次机构改革方案对多个相关机构的职能做了调整和重组，应该是为之前的讨论做了一个总结。 建议成立国务院直属的独立的自然生态与环境质量监督中心，行使监督者职责，负责资源监测、保护工作评估和生态预警，从而实现管理者与监督者
大气污染防治面临的挑战及对策
随着时代的进步发展，我国在不断加强城市文明建设的进程中取得了显著成效，但与此同时随之而来的是日益严峻的环境污染问题，当各类环境污染成为民生之患、民心之痛，环境治理就应运而生。对此，我国对大气污染治理力度在不断加大，制定了相关的大气污染预防措施，取得了一定的成效，但是还需进一步加强大气污染的防治工
大气污染防治面临的挑战及对策
近年，随着我国经济快速发展，城市建设不断扩大，环境污染问题日益严峻，其中最为突出的一项就是大气污染。大气污染主要体现在空气中的浮尘颗粒较大、污染物超标，尤其是在高密度人口的经济及社会活动中，大量细颗粒物的排放超过大气循环能力和承载度而形成雾霾，其不仅造成了大气污染，更直接影响了人们的身体健康。为
SPOS技术在半导体CMP制程中的应用
胶体混悬液与分散体有着十分广泛应用领域，而决定这些体系质量和稳定性的重要因素就是其内部的粒径分布，因而准确掌握这些体系的粒径分布特征就能确保其在广泛领域的成功应用。相对于一些整体检测技术，如：激光衍射技术与超声衰减技术，单粒子光学传感技术 (Single Particle Optical Sensi
生物标志物的简介及面临的挑战和希望
“Biomarker” 这个词在用于生物医学领域之前，多见于地质学文献，曾被翻译成“生物标志化合物”，指的是地质材料中来自于活的生物体的一些有机化合物。上世纪六十年代，这一词汇开始出现在医学文献中。上世纪八十年代，它被正式地引入到生物医学领域。在生物医学领域，对它也曾有过不同的描述。2001年，
中国2/3金矿面临资源危机－未来黄金恐依赖进口
今年，我国的黄金产量将超过350吨，而黄金消费量将达400吨。中国黄金的生产和消费都到了“黄金时期”。然而，产业结构、创新能力、做大做强、环境保护等诸多问题困扰着黄金产业，如果不能及时实现战略转型，黄金产业将在越来越大的需求面前捉襟见肘。市场将越来越依赖黄金进口，加剧金价走高。 改革开放以来，
强强联手－英格尔安捷伦共建半导体联合检测中心
分析测试百科网讯 2020年6月28日，由英格尔&安捷伦举办的“2020年高纯电子材料测试分析技术研讨会”及“高纯电子材料检测中心”启动仪式在浦东卓美亚喜玛拉雅酒店开幕。活动现场 此次会议邀请中国电子材料行业协会、中国电子化工新材料联盟、上海集成电路协会、上海市政府部门、半导体制造产业链企业，
抗精神病药：挑战及未来的方向
六十年前，氯丙嗪首次用于治疗精神分裂症；六十年后，我们值得反思一下，我们从哪里而来。图片来源于网络 回顾上世纪五十年代，我们不知道多巴胺是一种神经递质，抗精神病药是怎样发挥作用的，它们对哪些症状有效，甚至是否有效。现在我们已经知道，多巴胺是一种神经递质，所有的抗精神病药都是多巴胺受体阻断剂。C
质谱分析法面临的挑战
尽管质谱分析法已经被广泛接受，但仍有相当多的挑战阻碍其被临床和研究室采用。 最明显的障碍包括对大型异构样品进行常规分析时分析生产量低，空间分辨率低，如离体组织，在样本解剖结构的背景下从微米到毫米范围内进行测量具有重大意义。
慢病毒大规模生产面临的挑战
慢病毒作为基因载体在治疗各类遗传性和后天性的人类疾病中倍受欢迎。从基础研究发展到临床阶段，高浓度纯化的载体需求量越来越大，相应的方法也层出不穷。目前大多数慢病毒的生产是在方瓶、平皿等体系中加入胎牛血清贴壁培养HEK293细胞系（293T和293E），通过多质粒瞬时转染包装得到病毒，但是该方法难以
临床细菌学检验面临的挑战
随着医学事业的发展，诊断和治疗技术的更新，各种介入性诊疗措施的采纳，抗菌药物的广泛使用，耐药菌株的不断增加，细菌耐药机制的日益复杂，以及各种原因使得机体免疫功能低下而导致感染的不断增加，临床医学对细菌学检验提出了更迫切的要求。下面将以下问题作一简要的论述。 一、密切与临床的关系满足临床的迫切需要
原位电镜面临的问题与挑战
面临的问题与挑战（1）高分辨率原位电镜观察纳米材料时的，液体池及其夹层材料对电子束的散射作用会严重影响成像的分辨率。因此研究人员为提高分辨率做了大量工作，提出了一些解决办法。一是控制液体池厚度，控制气泡的大小；二是改变夹层材料以减小散射作用，如使用石墨烯，氧化石墨烯，氮化硼等。（2）成像速率为了减小
硅负极LIBs面临的挑战与对策
目前，在实现Si/C负极产业化的道路上仍然存在几个主要障碍。第一，Si/C负极的循环性能恶化和体积变化大的问题还没有完全解决，Si/C负极相对较低的压实密度和较大的体积膨胀在会对电池的设计和装配产生显著影响。第二，初始库仑效率（ICE）不足。在第一次脱锂过程中，SEI膜形成，在Si体积变化的影响下，
杨宏伟:华沙气候谈判面临挑战
2013年联合国气候大会11月将在波兰首都华沙举行。气候变化是人类面临的共同挑战，但在各方利益冲突不断、气候变化形势越来越严峻的背景下，联合国气候谈判面临的挑战不容小觑。今年6月在德国举行的联合国2013年第二轮气候变化谈判取得进展但也遭遇难题。这给华沙气候大会带来希望，也带来了压力。 近
日本核能复兴面临乏料挑战
图片来源：JAPAN NUCLEAR FUEL LTD. 日本伤痕累累的核工业终于恢复元气，但又产生了一个恼人的新问题：即如何处理核乏料？4年前，日本东北大地震与海啸引发的福岛核电站事故曾导致48座反应堆全部停止运行，中央政府期待今年春季重新恢复鹿儿岛县的两座核电站。但批评人士指责称，核乏料处理不
环保公益组织面临生存挑战
一方面是“汹涌”而来的环保热情，一方面是运行所面临的种种困难，环保公益组织如何更好地生存和发展，成为政府部门和环保公益组织共同关注的议题。在市环保局日前组织的西安环保公益组织座谈会上，这样激烈的碰撞，让许多人对环保公益组织有了全新的认识。 西安多数环保公益组织生存窘迫 公益是社会发展中的一
LED行业面临洗牌－机遇挑战并存
站在2014年的尾巴上，回顾这一年，对于LED产业来说，是一个极其不平凡的一年。LED企业在这年中面临市场机遇与挑战同等，能在2015年还能继续战斗的企业已经经历了产业价格战、渠道战、ZL战的洗礼。正值年末，企业纠结年底三角债问题，有些企业战战兢兢的活着，还有一系列企业经不住市场考验和洗牌，在今
袁隆平称未来超级杂交水稻高度可能达2米
国际杂交水稻大会日前在印度海德拉巴举行，会上中国工程院院士、国家杂交水稻工程技术中心主任袁隆平提出，超级杂交稻未来株型将走“超模”路线，身高将长到1.8米，甚至2米，三年内大面积超级稻亩产将实现超过1000公斤的目标。这是袁隆平院士第五次来印度推广杂交水稻，他向来自美国、越南、菲律宾
MOS器件的发展与面临的挑战（二）
1.8HKMG技术当MOS器件的特征尺寸不断缩小45nm及以下时，为了改善短沟道效应，沟道的掺杂浓度不断提高，为了调节阈值电压Vt，栅氧化层的厚度也不断减小到1nm。1nm厚度的SiON栅介质层已不再是理想的绝缘体，栅极与衬底之间将会出现明显的量子隧穿效应，衬底的电子以量子的形式穿过栅介质层进入栅，
MOS器件的发展与面临的挑战（一）
随着集成电路工艺制程技术的不断发展，为了提高集成电路的集成度，同时提升器件的工作速度和降低它的功耗，MOS器件的特征尺寸不断缩小，MOS器件面临一系列的挑战。例如短沟道效应（Short Channel Effect - SCE），热载流子注入效应（Hot Carrier Inject -
真空泵可能发生的故障及解决办法
故障、原因、解决方法： 真空泵抽不出液体 1、没有灌注液体？ 1、重新灌真空泵 2、吸入管、出管或真空泵的流道堵塞？ 2、消除杂物 3、吸入管或真空泵内没有排净气体？ 3、检修吸入管路并排净气体 4、吸上高度超过允许范围？ 4、按允许吸上高度重新按装真空泵 5、压出管路太细，
半导体成熟制程或有管控风险－业内研判影响不一
【半导体成熟制程或有管控风险 业内研判影响不一】日前，美国和欧盟召开了贸易与技术委员会会议（TTC），并发表联合声明，双方将在传统半导体（主要是成熟制程芯片）领域加强合作，并将采取“下一步措施”。对于该声明对国产半导体的影响，证券时报记者采访半导体行业人士，有观点认为不会造成影响，或者影响有限，但需
先进的半导体工艺：FinFET简介
FinFET简介 FinFET称为鳍式场效晶体管(FinField-EffectTransistor；FinFET)是一种新的互补式金氧半导体(CMOS)晶体管。闸长已可小于25奈米。该项技术的发明人是加州大学伯克利分校的胡正明教授。Fin是鱼鳍的意思，FinFET命名根据晶体管的形状
解析半导体晶闸管
认识半导体晶闸管晶闸管又被称做可控硅整流器，以前被简称为可控硅。1957年美国通用电气公司开发出世界上第一款晶闸管产品，并于1958年将其商业化。晶闸管是PNPN四层半导体结构，形成三个PN结，分别称：阳极，阴极和控制极。图 晶闸管的结构晶闸管在工作过程中，它的阳极（A）和阴极（K）与电源和负载连接
环保行业发展面临的机遇与挑战分析
水污染严重，君不见清澈见底的溪流；空气污染严重，君出门经常戴防霾口罩，抬头少见蔚蓝天空；固体污染加剧，那一座座高高的垃圾矿山，代替了以前葱郁的山林。所有以前的美好渐渐失去，人们谈论更多的如何找回曾经的绿水青山、蔚蓝天空、清澈溪流。环境保护就成为了人们美好生活的最坚实的保障和最理想的期盼。 环保
单双号长期限行面临多重挑战
清洁的空气、干净的水、放心且有保障的食物，这些毫无疑问是一种前置权利。对于习惯了开车出行的人们来说，能否站在“限行派”一边，确实是对我国中产阶层社会责任感的考验。 刚刚结束的奥运会除了向世界贡献了一届“无与伦比”的奥运会，还让包括一些有车族在内的北京居民享受到了久违的畅通、久违的蓝天白云、清风朗月