什么叫正胶显影和负胶显影
正胶显影：正性光刻胶的曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。负胶显影：在负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。正胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率，其他特性如，台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。负胶的特性为，具有良好的粘附能力和阻挡作用、感光速度快；显影时发生变形和膨胀，所以只能用于2μm的分辨率。......阅读全文
什么叫正胶显影和负胶显影
正胶显影：正性光刻胶的曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。负胶显影：在负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。正胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率，其他特性如，台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。负胶的特性为，具有良好的
全自动匀胶显影系统简介
全自动匀胶显影系统是一种用于信息科学与系统科学、物理学、工程与技术科学基础学科、材料科学领域的工艺试验仪器，于2019年12月5日启用。 技术指标 衬底支持：4英寸，6英寸基片。7个可独立进行控温的热板，高精度热板温度精度+/-0.2℃。匀胶单元每个Cup配置4条光刻胶管路，具备背洗、边缘清
300mm晶圆匀胶显影设备研发成功
4月14日，“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备研发”任务圆满完成，突破了193nm光刻工艺超薄胶膜均匀涂敷等多项关键核心技术，成功研制出具有自主知识产权的300mm晶圆匀胶显影设备考核测试机和上线示范应用机，并在项目实施期间销售5台匀胶显影设备。
UV光刻胶中的正性和负性胶的区别
最主要的区别就是正胶经曝光显影后可溶与显影液; 负胶经曝光显影后不溶与显影液同样一块mask， 正胶和负胶曝光显影后图形是相反的
wb显影液显影原理
相纸、胶卷表面保护基下,是溴化银涂层(还有其他的从略),溴化银见光分解,显影液与其发生化学反应,分解析出。 拍照好的底片,图像在上面明暗不同,分解程度也就不一样了。冲洗出来就是底片。
正相、反相和极性胶联柱使用手册
注意此色谱柱填充的是改性硅胶材料。向柱内导入碱性溶剂（pH>7.0）或酸性溶剂（pH
正相、反相和极性胶联柱使用手册
注意此色谱柱填充的是改性硅胶材料。向柱内导入碱性溶剂（pH>7.0）或酸性溶剂（pH
物理显影液配制实验——彩色显影剂
实验步骤A 液：二乙基对苯二胺硫酸盐（TSS）200 mg，无水碳酸钠 2 g，溴化钾 100 mg，无水亚硫酸钠 200 mg，加蒸馏水至 90 ml 搅拌溶解。B 液：α-萘酚 200 mg，加异丙醇 10 ml，或对硝基苯乙腈（碱性品红）200 mg 溶于 10 ml 丙酮中。临用前 A、B
放射自显影技术的显影与定影原理
对于由一般的照相过程得到的影象，需要进行显影和定影才能得到固定的影象。显影本质上是一个氧化还原过程。显影从显影中心开始，首先显影剂（还原剂）放出电子，自身氧化。然后，溴化银晶体中的银离子（氧化剂）接受电子，还原为银原子。实际过程大体是，澳化银晶体首先吸附溴离子，形成负电层。在负电层外吸附钾正离子，又
物理显影液配制实验——醋酸银显影液
实验步骤1. 100 mg 醋酸银溶解在 50 ml 三重蒸馏水中，用前 1 h 配制，并充分搅拌。2. 10％ 明胶 10 ml。3. pH 3.5～3.8 柠檬酸盐缓冲液 40 ml（内含 600 mg 对苯二酚）。4. 用前分别将 2、3 两液过滤混合，然后加入 50 ml 醋酸银液搅拌混匀。
物理显影液配制实验——乳酸银显影液
实验步骤1. 10％～20％ 阿拉伯树胶 60 ml。2. 柠檬酸缓冲液（配法同上）。3. 对苯二酚 0.85 g，加水至 15 ml。4. 乳酸银 110 mg，加水至 15 ml。5. 以上 1～3 液用前混合过滤，最后加入 4 液。
显微放射自显影——放射性自显影技术
实验材料小白鼠试剂、试剂盒酒精 二甲苯 Giemsa 染色液 乳胶 显影液 定影液 氚-胸腺嘧啶核苷氚标记胸苷仪器、耗材显微镜 恒温培养箱 电冰箱 干燥箱 电吹风 暗室放射自显影技术是利用放射性同位素所产生的射线作用于感光乳胶的氯化银晶体而产生潜影，再经过显影定影处理，把感光的氯化银还原成黑色的银颗
荧光显影的定义
中文名称荧光显影英文名称fluorography定 义通过化学反应、修饰或覆盖等方法使拟检测的对象(分子、细胞等)产生荧光而自我显示的过程。应用学科生物化学与分子生物学（一级学科），方法与技术（二级学科）
WB显影要多久
每个显影试剂盒都不一样，建议看说明书。实际情况视荧光强度而定，你看显出一点儿样子了，就赶紧捞出来，不然片子就太黑了。在加荧光剂后，反应大概一到四分钟。小心把膜放到暗盒里，放好后再也不要移动膜，否则荧光会消失。膜上覆盖一张保鲜膜，小心，铺展。将准备好的胶片放在膜上，放上去后也不要再移动了。然后压片。可
WB显影要多久
每个显影试剂盒都不一样，建议看说明书。实际情况视荧光强度而定，你看显出一点儿样子了，就赶紧捞出来，不然片子就太黑了。在加荧光剂后，反应大概一到四分钟。小心把膜放到暗盒里，放好后再也不要移动膜，否则荧光会消失。膜上覆盖一张保鲜膜，小心，铺展。将准备好的胶片放在膜上，放上去后也不要再移动了。然后压片。可
放射自显影的显影与定影相关内容
对于由一般的照相过程得到的影象，需要进行显影和定影才能得到固定的影象。 显影本质上是一个氧化还原过程。显影从显影中心开始，首先显影剂（还原剂）放出电子，自身氧化。然后，溴化银晶体中的银离子（氧化剂）接受电子，还原为银原子。实际过程大体是，澳化银晶体首先吸附溴离子，形成负电层。在负电层外吸附钾正
物理显影液配制实验——硝酸银显影液
实验步骤1. 1％ 明胶 60 ml。2. 柠檬酸缓冲液 10 ml，pH3.4（柠檬酸 2.55 g，柠槺酸钠 2.35 g，加水至 10 ml）。3. 对苯二酚 1～1.7 g，加水至 30 ml。4. 硝酸银 50～100 mg，加水至 2 ml。5. 用前 1~3 液混合过滤，最后加入 4
芯源公司“集束型匀胶显影设备”获辽宁优秀新产品二等奖
芯源公司“集束型匀胶显影设备”获辽宁省优秀新产品二等奖 近日，经第八届辽宁省优秀新产品奖评审委员会审查，省政府批准，中科院沈阳自动化研究所持股公司芯源公司申报的“集束型匀胶显影设备”被授予辽宁省优秀新产品二等奖。在本届辽宁省新产品评选中，共有31项产品获得一等奖，二等奖59项。评选省
放射自显影术
实验材料DPX试剂、试剂盒显影液停影浴液定影液硫代硫酸钠洗液苏木素磷酸缓冲液乙醇组织透明剂仪器、耗材盖玻片实验步骤建立培养1. 在盖玻片、载玻片（Ninc，Bellco ) 或皮氏培养皿上建立几份同样的单层培养。2. 在 37°C 条件下培养，直至细胞到达适合标记时。加入核素3. 通常以 0.1~1
显微放射自显影
实验材料 小白鼠 试剂、试剂盒 酒精 二甲苯 Giemsa 染色液 乳胶 显影液 定影液 氚-胸腺嘧啶核苷 氚标记胸苷
显微放射自显影
实验材料 小白鼠 试剂、试剂盒 酒精 二甲苯 Giemsa 染色液 乳胶 显影液 定影液 氚-胸腺嘧啶核苷 氚标记胸苷
放射自显影[术]
中文名称放射自显影[术]英文名称autoradiography;radioautography定 义利用放射性同位素所产生的电离辐射对感光乳胶的氯化银晶体而产生潜影，再经过显影定影处理，把感光的氯化银还原成黑色的银颗粒，即可根据这些银颗粒的部位和数量分析出标本中放射性示踪物的分布，以进行定位和定量
涂胶显影设备的前景
涂胶显影设备是芯片制程中必不可少的处理设备，利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为光刻机的输入即曝光前光刻胶涂覆和输出即曝光后图形的显影，涂胶显影机的性能不仅对细微曝光处的形成造成直接影响，而且其显影工艺的图形质量和误差
放射自显影术
实验材料 DPX 试剂、试剂盒 显影液 停影浴液 定影液 硫代硫酸钠洗液
杂交和放射自显影
固定于滤膜上的RNA的预杂交、杂胶及淋洗等条件，与DNA杂交的相应条件基本相同。现简述如下1）用下列两种溶液之一进行预杂交，时间1－2小时。若于42℃进行，应采用。50％甲酰胺5xSSPE2xDenhardt试剂0.1％SDS若于68℃进行，应采用：6xSSC2xDenhardt试剂0.1％SDS
物理显影液的配制
实验方法原理实验步骤1. 1％ 明胶 60 ml。2. 柠檬酸缓冲液 10 ml，pH3.4（柠檬酸 2.55 g，柠槺酸钠 2.35 g，加水至 10 ml）。3. 对苯二酚 1～1.7 g，加水至 30 ml。4. 硝酸银 50～100 mg，加水至 2 ml。5. 用前 1~3 液混合过滤，最
wb条带放三天显影
显影。wb条带放三天看到明显的荧光条带，先压三十秒。显影时，把胶片完全浸入显影液，用透明的或者白色的盒子，看到显影，看到胶片上有黑色条带。wb就是艾滋病抗体确证试验，监测env的条带，出现两个env条带，判定是阳性检测env条带。
简介冷胶喷胶机的供胶装置
组成部份说明：胶桶、泵 胶桶的容量为30L，桶盖用于安装活塞泵活塞泵 4:1活塞泵用于泵起和供应胶水，配有不锈钢胶管和过滤器过滤器 不锈钢过滤器具有过滤胶水和消除泵的震动双重功能调压器 4:1不锈钢调压器能自动控制胶量 I/P自动压力追踪阀 根据糊盒机的速度自动调节胶水的压力与流量技术参数泵的
蛋白胶如何干胶保存
最好有个干胶仪的，直接按照仪器要求做就可以了。如果你要让胶自然干，需要很长时间，而且胶容易变形破裂。
自动滴胶匀胶机
自动滴胶匀胶机/真空旋转涂层机 型号：MHY-29071MHY-29071产品简介：主要用于液体，胶体在材料表面薄膜的形成，适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工艺。可在科研，教育，生产中应用。 MHY-29071主要特点：1可设定存储26个不同样片的旋转涂敷工艺过程。2每个涂敷工艺过程可以