氮化硅拉曼峰测试条件
高温热稳定性。氮化硅拉曼峰测试条件是高温热稳定性，氮化硅，化学式为Si3N4，是一种重要的结构陶瓷材料。是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损，为原子晶体；高温时抗氧化。......阅读全文
氮化硅拉曼峰测试条件
高温热稳定性。氮化硅拉曼峰测试条件是高温热稳定性，氮化硅，化学式为Si3N4，是一种重要的结构陶瓷材料。是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损，为原子晶体；高温时抗氧化。
氮化硅喷雾造粒干燥机的技术参数介绍
高速离心式喷雾干燥机是一种适用于乳浊液、悬浮液、糊状物、溶液等液体干燥的专用干燥设备。 在聚合物和树脂类、染料、颜料类、陶瓷、玻璃类、除锈剂、杀虫药类、碳水化合物、乳品类、乳品类、洗涤剂和表面活性类、肥料类、有机化合物、无机化合物料的干燥上，表现得尤为出色。 氮化硅喷雾造粒干燥机
科学家研发氮化硅纳米超材料－可见光能无限穿透
据物理学家组织网10月14日(北京时间)报道，荷兰原子与分子物理研究所物质基础研究所和美国宾夕法尼亚大学科学家合作，制造出一种由堆积银和氮化硅纳米层构成的新材料，能赋予可见光近乎无限的波长。该材料有望在新型光学元件、光线路等领域大显身手，也可用于设计更高效的发光二极管。相关论文发表在13日出版的
离子色谱法对氮化硅提取液中阴离子的测定
氮化硅提取液中阴离子的测定 氮化硅是一种重要的新型结构陶瓷材料。它具有高密度、超硬度、润滑性、耐磨损、耐腐蚀和耐高温且不易传热等优点，可用于制造轴承、气轮机叶片、永久性模、陶瓷密封环、等机械构件以及热电偶管、火箭喷嘴、熔解金属的坩埚等高温零部件。 由于氮化硅中阴离子杂质尤其是卤素会对相关接触
Langmuir：生物陶瓷如何抵御牙周病发生？
俗称牙周炎的牙周疾病可以引发牙齿缺失，但对该疾病进行彻底治疗似乎目前是医学界的一大挑战；但目前很多新型方法比如氮化硅，一种用于脊柱内填埋物的陶瓷材料或许有望用于治疗牙周炎，氮化硅的表面对引发牙周炎的细菌有一种致死性的效应；如今科学家们刊登在Langmuir杂志上的一项研究报告中，他们解释了为何氮
3分钟了解原位芯片
原位芯片也叫原位合成芯片，原位芯片的主要材质是硅，表层覆盖纳米级氮化硅薄膜。电子级的氮化硅薄膜实际上是一种硅氮化合物，常用作微电子技术电绝缘层，通过化学气相沉积或者等离子体增强化学气相沉积技术制造的。而选择氮化硅薄膜的理由是因为它作为集成电路芯片外层钝化膜和保护膜有优势。氮化硅硬度大，耐磨耐划
关于原位芯片你需要知道的
原位芯片也叫原位合成芯片，原位芯片的主要材质是硅，表层覆盖纳米级氮化硅薄膜。电子级的氮化硅薄膜实际上是一种硅氮化合物，常用作微电子技术电绝缘层，通过化学气相沉积或者等离子体增强化学气相沉积技术制造的。而选择氮化硅薄膜的理由是因为它作为集成电路芯片最外层钝化膜和保护膜有优势。氮化硅硬度大，耐磨耐划，致
比利时研究人员开发出新型可见光宽带光源
分析测试百科网讯 一种应用在色散设计的氮化硅波导上的新刻蚀方法已经被开发出来，并进行了实验验证。 在超连续谱的产生过程中，多个非线性光学效应的相互作用导致频谱大幅扩大。因此，超连续谱的产生规避了对合适的增益介质的需求，并且使可操作的电磁频谱的中红
有它助阵，集成光电子器件加工不再难
兰州大学物理科学与技术学院教授田永辉课题组与澳大利亚皇家墨尔本理工大学教授阿南?米切尔课题组及上海交通大学教授苏翼凯课题组合作，通过在薄膜铌酸锂晶圆表面沉积一层氮化硅，利用传统的刻蚀技术仅仅刻蚀氮化硅层形成亚波长光栅波导，有效应对了薄膜铌酸锂集成光电子器件难以加工制作的挑战，降低了器件尺寸、提升了芯
原位液体透射电镜技术发展史
原位液体透射电镜技术发展史In-situ Liquid cell TEM的雏形可以追溯到1934年，比利时布鲁塞尔自由大学的Morton，利用两片铝箔包裹样品的方法首次尝试活体生物样品的透射电子显微学研究，但是由于铝片及液体层较厚，其分辨率仅能达到微米量级。近年来得益于微纳加工技术以及微流控技术的进
集成量子光源获得新突破
8月22日，深圳国际量子研究院研究员刘骏秋研究团队，基于可工业级量产的超低损耗氮化硅波导，在集成量子光源构建方面取得新进展，相关研究成果发表于《物理评论快报》。研究团队利用超高品质因子微腔，该集成光源产生光子对的线宽达到原子跃迁线量级，且其亮度为迄今硅基集成光学平台的最佳纪录。量子信息为信息的产生、
903万！中国科学院半导体研究所采购科研仪器设备
分析测试百科网讯 近日，中国科学院半导体研究所采购厚氮化硅感应耦合等离子体化学气相沉积台、硅基铌酸锂薄膜电感耦合等离子刻蚀机，预算金额903万元，文件详情如下：设备用途：1.厚氮化硅感应耦合等离子体化学气相沉积台用于光波导器件表面的氧化硅及氮化硅薄膜淀积，适用于波导器件中包层薄膜的沉积。2.硅基铌酸
助力高速、大容量数据通信，光子芯片大显身手
1月7日，《激光与光子学评论》以期刊正封面的形式在线发表了来自兰州大学物理科学与技术学院教授田永辉团队的文章《基于氮化硅—薄膜铌酸锂异质集成平台的模式与偏振复用》，该工作有望助力高速、大容量数据通信，并为薄膜铌酸锂平台上有源及无源器件全集成的光子芯片提供新的解决方案。 光学复用器是集成光子回路中
纳米孔尺度对DNA输运速度的影响
图一：实验示意图 图二：分子动力学仿真模型示意图 基于纳米孔单分子传感器的第三代DNA测序技术，因其低成本，高通量等优势很有可能成为人类测序史上的创举。最近的一项研究发现，DNA在穿过10.8纳米的纳米孔道时的速度比穿过4.8纳米的纳米孔的速度降低了一倍，这对于实现DNA减速及单碱基精准测序
透射电镜TEM耗材篇之载网膜二
5)纯碳膜：当样品所用的有机溶剂（氯仿、甲苯等）能够溶解方华膜时，载网膜中就要去除方华膜，只剩碳膜，称为纯碳膜，碳膜的厚度通常为20nm左右,如图5所示，在高分辨观察时背底的影响也比较明显。6)其他类型支持膜：上述是最常用的几种载网膜，它们能满足大部分透射电镜样品观察的需求，但在实际应用中，为满足一
XPS中出现卫星峰是什么情况
在XPS手册上，对应于每种元素，都有一个峰位与该元素化学键结构的图表，根据这个图标，把你测得的数据进行处理，例如你做的氮化硅，但是里面有少量的氧化硅，那么你的Si2p峰位就既不是标准的氮化硅，也不是标准的氧化硅，这是需要你利用origin或者xpspeakfit等对所得的Si2p峰进行分峰，也就是用
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半导体装备关键耗材国产化取得技术突破
记者从天津大学机械工程学院获悉，该院先进材料与高性能制造团队在氮化铝、氮化硅陶瓷半导体设备耗材高精度加工基础与应用研究方面取得新突破。该院科研人员自主研发出主轴微纳调控超精密制造系统，为硬脆材料高精度低损伤加工提供了重要的技术支撑。相关成果在线发表于《极端制造》。据了解，以氮化硅、氮化铝陶瓷为代表的
原子力显微镜针尖与样品间的材料转移
为了研究湿度对OTE/云母样品到针尖材料转移的影响,在90%的相对湿度条件下,在OTE/云母表面对针尖进行修饰,然后在5%的湿度下比较修饰前后针尖在云母表面的摩擦力信号大小。在90%的相对湿度条件下,针尖在OTE/云母样品表面的修饰效应如图2所示。修饰后针尖在云母表面摩擦力信号大约是清洁针尖在云母表
THERMCO－氧化LPCVD共享应用
仪器名称：THERMCO 氧化LPCVD仪器编号：21014796产地：英国生产厂家：THERMCO型号：2660出厂日期：购置日期：2021-07-21所属单位：集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点：微电子所新所一层微纳平台固定电话：固定手机：固定email：联系人：苏鑫（010-6278
兰州化物所钛碳化硅摩擦腐蚀性能研究获新进展
钛碳化硅/氮化硅摩擦副在干摩擦、蒸馏水、稀硫酸和浓硫酸溶液中的摩擦磨损性能：(a) 平均摩擦系数, (b) 摩擦系数随时间变化而变化, (c) 钛碳化硅的磨损率，(d) 氮化硅球的磨损率。 中科院兰州化学物理研究所金属基高温润滑材料组研究人员考察了钛碳化硅在稀硫酸和浓硫酸溶液中
xps分峰是什么意思
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XPS－中出现卫星峰是什么情况
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XPS数据为什么要分峰
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